JPH0248538A - 気相ハイドロフロリネーション方法 - Google Patents
気相ハイドロフロリネーション方法Info
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- JPH0248538A JPH0248538A JP1166490A JP16649089A JPH0248538A JP H0248538 A JPH0248538 A JP H0248538A JP 1166490 A JP1166490 A JP 1166490A JP 16649089 A JP16649089 A JP 16649089A JP H0248538 A JPH0248538 A JP H0248538A
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- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 title abstract 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 24
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims abstract description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 14
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- BOUGCJDAQLKBQH-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-1,2,2,2-tetrafluoroethane Chemical compound FC(Cl)C(F)(F)F BOUGCJDAQLKBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)Cl OHMHBGPWCHTMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 claims description 16
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 9
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 8
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 7
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 5
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 4
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 16
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N pentafluoroethane Chemical compound FC(F)C(F)(F)F GTLACDSXYULKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K Aluminium flouride Chemical compound F[Al](F)F KLZUFWVZNOTSEM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 8
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical class CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- -1 aluminum oxyfluoride Chemical compound 0.000 description 2
- ZJULYDCRWUEPTK-UHFFFAOYSA-N dichloromethyl Chemical compound Cl[CH]Cl ZJULYDCRWUEPTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 150000005826 halohydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 2
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002577 pseudohalo group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYXIKYKBLDZZNW-UHFFFAOYSA-N 2-Chloro-1,1,1-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)CCl CYXIKYKBLDZZNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 101150065749 Churc1 gene Proteins 0.000 description 1
- 229910020257 Cl2F2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNCMHMUGTWEVOZ-UHFFFAOYSA-N F[CH]F Chemical compound F[CH]F JNCMHMUGTWEVOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010081348 HRT1 protein Hairy Proteins 0.000 description 1
- 102100021881 Hairy/enhancer-of-split related with YRPW motif protein 1 Human genes 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- QPAXMPYBNSHKAK-UHFFFAOYSA-N chloro(difluoro)methane Chemical compound F[C](F)Cl QPAXMPYBNSHKAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004773 chlorofluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(Cl)* 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate Chemical compound [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- BAPZCSMFCUVUHW-UHFFFAOYSA-N dichloro(fluoro)methane Chemical compound F[C](Cl)Cl BAPZCSMFCUVUHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N dichlorodifluoromethane Chemical compound FC(F)(Cl)Cl PXBRQCKWGAHEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019404 dichlorodifluoromethane Nutrition 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 1
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N trichlorofluoromethane Chemical compound FC(Cl)(Cl)Cl CYRMSUTZVYGINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C19/00—Acyclic saturated compounds containing halogen atoms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/22—Halogenating
- B01J37/26—Fluorinating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/20—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms
- C07C17/202—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction
- C07C17/206—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of halogen atoms by other halogen atoms two or more compounds being involved in the reaction the other compound being HX
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、 1,1.1−トリフロロジクロロエタン及
び/又は1.1,1.2−テトラフロロクロロエタンの
改良製造方法、特にペンタフロロエタンの製造ヲ最小限
にする制御条件下で反応を行う、高弗素含量アルミナ担
体上の選ばれた金属の存在下における選ばれたペンタハ
ロエタンと弗化水素との気相反応に関する。
び/又は1.1,1.2−テトラフロロクロロエタンの
改良製造方法、特にペンタフロロエタンの製造ヲ最小限
にする制御条件下で反応を行う、高弗素含量アルミナ担
体上の選ばれた金属の存在下における選ばれたペンタハ
ロエタンと弗化水素との気相反応に関する。
[従来の技術、発明が解決すべき課題]G B 1,
000,485には、気相及び好ましくは200℃乃至
400℃の範囲の温度でハローオレフィンを弗素化する
a機弗素化化合物の製造方法が記載されている。触媒は
1以上の多価金属ハロゲン化物を@浸させた部分弗素化
アルミナから本質的になる。多価金属はクロム、コバル
ト、ニッケル、又はマンガンであり得る。酸化物として
表した多価金属ハロゲン化物の金倉mは、アルミナとし
て表した部分弗素化(70〜80%)アルミナの15重
−%を超えない。この特許は、HFのCCl 2 =
CCl への付加でCClFCHC12を生じ、これ
は一連のHClの除去及びHFの付加でCF3 CHC
12を生じることを示している。さらに、この特許は触
媒の弗素化が過剰であると、触媒の活性が損なわれると
述べている(第3頁、第2欄、第85〜87行)。
000,485には、気相及び好ましくは200℃乃至
400℃の範囲の温度でハローオレフィンを弗素化する
a機弗素化化合物の製造方法が記載されている。触媒は
1以上の多価金属ハロゲン化物を@浸させた部分弗素化
アルミナから本質的になる。多価金属はクロム、コバル
ト、ニッケル、又はマンガンであり得る。酸化物として
表した多価金属ハロゲン化物の金倉mは、アルミナとし
て表した部分弗素化(70〜80%)アルミナの15重
−%を超えない。この特許は、HFのCCl 2 =
CCl への付加でCClFCHC12を生じ、これ
は一連のHClの除去及びHFの付加でCF3 CHC
12を生じることを示している。さらに、この特許は触
媒の弗素化が過剰であると、触媒の活性が損なわれると
述べている(第3頁、第2欄、第85〜87行)。
G B 1.000.083には、テトラクロロエタ
ンと弗化水素とを気相において450℃を超えない温度
で、クロム、コバルト、ニッケル及びマンガンを含浸さ
せて活性化したアルミナに基づく部分的弗素化アルミナ
を基礎とする触媒の存在下で反応させる1、1.1−ト
リフロロ−2−クロロエタンの製造方法を記載している
。G B 1.000,083の第2頁、第1欄には
、「アルミナの部分的(70%〜80%)弗素化を得る
ために」アルミナをHFにさらすことによるアルミナの
弗素化を教示している。また、第2頁、第1欄には、「
弗素化の量が過剰の場合、触媒の活性が損なわれる」と
示されている。
ンと弗化水素とを気相において450℃を超えない温度
で、クロム、コバルト、ニッケル及びマンガンを含浸さ
せて活性化したアルミナに基づく部分的弗素化アルミナ
を基礎とする触媒の存在下で反応させる1、1.1−ト
リフロロ−2−クロロエタンの製造方法を記載している
。G B 1.000,083の第2頁、第1欄には
、「アルミナの部分的(70%〜80%)弗素化を得る
ために」アルミナをHFにさらすことによるアルミナの
弗素化を教示している。また、第2頁、第1欄には、「
弗素化の量が過剰の場合、触媒の活性が損なわれる」と
示されている。
U S 3,755.477には、弗素以外の少なく
とも1のハロゲン原子を含むハロゲン化脂肪族炭化水素
を多工程方法で製造したスチーム処理及び焼成した酸化
クロム触媒の存在下の弗化水素との気相反応による弗素
化を包含する弗素化脂肪族炭化水素の製造方法が記載さ
れている。この特許の第5欄の例25では、CF、CH
C12のハイドロフロリネーションを示し、67% C
F、CHF2.21% CF、CHCl F、及び2,
5%CF3 CCHF2を得ている。この例は、所望の
テトラ弗素化生成物より多量の望ましくないペンタ弗素
化生成物を得ている。
とも1のハロゲン原子を含むハロゲン化脂肪族炭化水素
を多工程方法で製造したスチーム処理及び焼成した酸化
クロム触媒の存在下の弗化水素との気相反応による弗素
化を包含する弗素化脂肪族炭化水素の製造方法が記載さ
れている。この特許の第5欄の例25では、CF、CH
C12のハイドロフロリネーションを示し、67% C
F、CHF2.21% CF、CHCl F、及び2,
5%CF3 CCHF2を得ている。この例は、所望の
テトラ弗素化生成物より多量の望ましくないペンタ弗素
化生成物を得ている。
U S 3,258,500には、HFとハロ炭化水
素との触媒気相反応方法、特にアルミナに担持されるこ
ともある熱活性化無水酸化クロム(m)から本質的にな
る触媒を用いる弗素以外の又は弗素に加えて他のハロゲ
ンを含むハロ炭化水素の他のハロゲンの弗素による置換
を記載している。この触媒は極めて活性である。この特
許の例13〜16は、完全ハロゲン化エタンの弗素化を
示し、US3.755,477と同様に望ましくないペ
ンタ弗素化エタンを高収率で生じる。
素との触媒気相反応方法、特にアルミナに担持されるこ
ともある熱活性化無水酸化クロム(m)から本質的にな
る触媒を用いる弗素以外の又は弗素に加えて他のハロゲ
ンを含むハロ炭化水素の他のハロゲンの弗素による置換
を記載している。この触媒は極めて活性である。この特
許の例13〜16は、完全ハロゲン化エタンの弗素化を
示し、US3.755,477と同様に望ましくないペ
ンタ弗素化エタンを高収率で生じる。
上記文献は、1,1.1−トリフロロジクロロエタン及
び/又は1,1,1.2−テトラフロロクロロエタンの
両者を選択的に製造すると共にペンタフロロエタンの製
造を最小にする方法を開示していない。
び/又は1,1,1.2−テトラフロロクロロエタンの
両者を選択的に製造すると共にペンタフロロエタンの製
造を最小にする方法を開示していない。
本発明方法は、以下に述べ例で説明するように、触媒の
選択及び反応因子の制御によってペンタフロロエタンの
生成を最小限にすることによって所望の高度の選択性を
達成したものである。
選択及び反応因子の制御によってペンタフロロエタンの
生成を最小限にすることによって所望の高度の選択性を
達成したものである。
[発明の概要コ
本発明は、式 C2HX5−、F、 [式中、Xは
Cl及びBrからなる群から選ばれ、n−Q〜3である
。]のペンタハロエタンの弗素化によるi、+、t−t
−リフロロジクロロエタン及び/又は1,1゜1.2−
テトラフロロクロロエタンの製造方法であって、気i[
1において約り50℃〜約450℃で該ペンタハロエタ
ン及びHFを零より大きい酸化状態の少なくとも1の金
属の触媒的有効量を包含する触媒組成物と接触させ、該
金属はクロム、マンガン、ニッケル、ロジウム及びコバ
ルトからなる群から選ばれ、該金属は、金属弗化物とし
て計算して該金属を除く触媒組成物の少なくとも90重
量%のAlF3含量に相当する弗素含量の割合でアルミ
ニウムと弗素とから本質的になるアルミニウム含有化合
物と組み合わせたものであり、該AlF3含量は未弗化
触媒組成物を揮発性弗素含有化合物で予備処理して得ら
れたものである方法である。
Cl及びBrからなる群から選ばれ、n−Q〜3である
。]のペンタハロエタンの弗素化によるi、+、t−t
−リフロロジクロロエタン及び/又は1,1゜1.2−
テトラフロロクロロエタンの製造方法であって、気i[
1において約り50℃〜約450℃で該ペンタハロエタ
ン及びHFを零より大きい酸化状態の少なくとも1の金
属の触媒的有効量を包含する触媒組成物と接触させ、該
金属はクロム、マンガン、ニッケル、ロジウム及びコバ
ルトからなる群から選ばれ、該金属は、金属弗化物とし
て計算して該金属を除く触媒組成物の少なくとも90重
量%のAlF3含量に相当する弗素含量の割合でアルミ
ニウムと弗素とから本質的になるアルミニウム含有化合
物と組み合わせたものであり、該AlF3含量は未弗化
触媒組成物を揮発性弗素含有化合物で予備処理して得ら
れたものである方法である。
[発明の構成]
本発明の実施に有用な好ましいペンタハロエタンは、C
C13CHCl2CC12FCHCl□ CCHF2
CHC12及びCF 3 CHCl 2である。これら
は個別に又は混合物として反応器に供給できる。
C13CHCl2CC12FCHCl□ CCHF2
CHC12及びCF 3 CHCl 2である。これら
は個別に又は混合物として反応器に供給できる。
高弗素含a化合物は、弗素な二か金属弗化物として計算
して金属を除く触媒組成物の少なくとも90重量%のA
IF3a量1こ相当するような割合でアルミニウム及び
弗素を包含する組成物を意味する。組成物の残りはアル
ミナ又はオキシ弗化アルミニウムを含むことができる。
して金属を除く触媒組成物の少なくとも90重量%のA
IF3a量1こ相当するような割合でアルミニウム及び
弗素を包含する組成物を意味する。組成物の残りはアル
ミナ又はオキシ弗化アルミニウムを含むことができる。
触媒組成物は当該技術に既知の任意の方法で製造できる
。例えば、触媒組成物は、金属の酸化物、オキシハライ
ド、ハライド、プソイドハライド、硝酸塩、硫酸塩又は
他の化合物の形態であり得る少なくとも1のクロム、マ
ンガン、ニッケル、ロジウム又はコバルトの溶液を含浸
させたアルミナの弗素化によって製造できる。ハライド
には弗化物、塩化物、又は臭化物が含まれる。プソイド
ハライドにはシアナイド、シアネート、及びチオシアネ
ートが含まれる。好ましい金属はマンガン、ニッケル及
びコバルトである。特に好ましい金属はコバルトである
。
。例えば、触媒組成物は、金属の酸化物、オキシハライ
ド、ハライド、プソイドハライド、硝酸塩、硫酸塩又は
他の化合物の形態であり得る少なくとも1のクロム、マ
ンガン、ニッケル、ロジウム又はコバルトの溶液を含浸
させたアルミナの弗素化によって製造できる。ハライド
には弗化物、塩化物、又は臭化物が含まれる。プソイド
ハライドにはシアナイド、シアネート、及びチオシアネ
ートが含まれる。好ましい金属はマンガン、ニッケル及
びコバルトである。特に好ましい金属はコバルトである
。
更に、触媒組成物は、触媒金属及びアルミニウムを水酸
化物として共沈殿した後、乾燥し、焼成して混合酸化物
を形成する、当該技術に既知の技術でも製造できる。次
いで生成酸化物はここに説明するように予備処理する。
化物として共沈殿した後、乾燥し、焼成して混合酸化物
を形成する、当該技術に既知の技術でも製造できる。次
いで生成酸化物はここに説明するように予備処理する。
金属として表したクロム、マンガン、ニッケル、ロジウ
ム又はコバルトの全含量は触媒組成物の50重量%より
多くな(、好ましくは触媒組成物の20重量%より多く
なく、通常は触媒組成物の少なくとも0.022重丸で
ある。より好ましい範囲は触媒組成物の0,1〜10重
二%である。
ム又はコバルトの全含量は触媒組成物の50重量%より
多くな(、好ましくは触媒組成物の20重量%より多く
なく、通常は触媒組成物の少なくとも0.022重丸で
ある。より好ましい範囲は触媒組成物の0,1〜10重
二%である。
未弗素化触媒組成物は、上昇温度、例えば約り00℃〜
約450℃において弗素含有化合物で処理して所望の弗
素含量に弗素化することができる。HF 、 S F
4、CCl 3 F SCC12F 2、CHF、又は
CCl 2 F CCl F 2のような揮発性弗素金
白゛化合物による予備処理はHFとペンタハロエタンと
の接触に用いる反応器内を含む任意の便宜の方法で行い
得る。揮発性弗素a−H化合物は、触媒上を指定条件で
通過させた場合に触媒を所望の程度に弗素化する弗素含
有化合物を意味する。
約450℃において弗素含有化合物で処理して所望の弗
素含量に弗素化することができる。HF 、 S F
4、CCl 3 F SCC12F 2、CHF、又は
CCl 2 F CCl F 2のような揮発性弗素金
白゛化合物による予備処理はHFとペンタハロエタンと
の接触に用いる反応器内を含む任意の便宜の方法で行い
得る。揮発性弗素a−H化合物は、触媒上を指定条件で
通過させた場合に触媒を所望の程度に弗素化する弗素含
有化合物を意味する。
適当な触媒は、例えば、次のようにして製造できる。
多量のAl2O3を上記の金属化合物の1以上の触媒的
に有効量の溶液、通常は水溶液に含浸する。触媒的に有
効量とは、本発明方法で所望の化合物の製造をもたらす
金属の量を意味する。通常は、この量は、金属として表
して、アルミナ担体の約0.02〜50重量%、好まし
くは20重量%以下、特に好ましくは0.1〜10重瓜
%である。含浸Al2O3は、実質的にすべての湿分が
除かれるまで、例えば約400℃で約18時間、乾燥で
きる。乾燥触媒は次いで用いるべき反応器に移す。次い
で触媒及び反応器から湿分の残留痕跡を除くため反応器
にN2流を維持しながら、温度を約400℃に徐々に上
げる。次いで温度を約200℃に下げ、HF、又はSF
4、CC1゜F、CCl2F2 CHF、又はCCl
FCClF2のような他の揮発性弗素kk化合物を、N
2で希釈して、反応器を通過させる。
に有効量の溶液、通常は水溶液に含浸する。触媒的に有
効量とは、本発明方法で所望の化合物の製造をもたらす
金属の量を意味する。通常は、この量は、金属として表
して、アルミナ担体の約0.02〜50重量%、好まし
くは20重量%以下、特に好ましくは0.1〜10重瓜
%である。含浸Al2O3は、実質的にすべての湿分が
除かれるまで、例えば約400℃で約18時間、乾燥で
きる。乾燥触媒は次いで用いるべき反応器に移す。次い
で触媒及び反応器から湿分の残留痕跡を除くため反応器
にN2流を維持しながら、温度を約400℃に徐々に上
げる。次いで温度を約200℃に下げ、HF、又はSF
4、CC1゜F、CCl2F2 CHF、又はCCl
FCClF2のような他の揮発性弗素kk化合物を、N
2で希釈して、反応器を通過させる。
このN2は徐々に減らしてHF、又は5F4CCl
F、CC12F2 CHF3又はCCl 2 F C
Cl F 2のような他の揮発性弗素含有化合物だけが
反応器を通過するようにできる。
F、CC12F2 CHF3又はCCl 2 F C
Cl F 2のような他の揮発性弗素含有化合物だけが
反応器を通過するようにできる。
この点で温度を約450℃に上げ、弗素含有化合物流及
び触媒容量に応じて例えば15〜300分間、此の温度
を保持して含浸Al2O3を少なくとも90重量%Al
F3に相当する弗素含量に変換する。
び触媒容量に応じて例えば15〜300分間、此の温度
を保持して含浸Al2O3を少なくとも90重量%Al
F3に相当する弗素含量に変換する。
本発明の触媒の存在下におけるペンタハロエタンとHF
との反応は、250℃〜450℃、好ましくは約300
℃〜400℃において、約5〜100秒、好ましくは約
10〜90秒、特に好ましくは約15〜60秒の接触時
間で行われる。
との反応は、250℃〜450℃、好ましくは約300
℃〜400℃において、約5〜100秒、好ましくは約
10〜90秒、特に好ましくは約15〜60秒の接触時
間で行われる。
HFとペンタハロエタンとのモル比は約250℃〜20
/1、好ましくは約3/1〜10/1、特に好ましくは
約4/1〜7/1の範囲で変り得る。
/1、好ましくは約3/1〜10/1、特に好ましくは
約4/1〜7/1の範囲で変り得る。
本発明の主要な特徴は、ここに説明するように、触媒の
選択及び方法の制御によって、所望のトリー及び/又は
テトラフロロ生成物が高ペンタノ\ロエタン変換、通常
は約30%と約90%の間で主要生産物として得られる
ことである。好ましくは反応因子はペンタフロロ製品の
製造が製造される生成物の約10%以下に維持されるよ
うに制御する。従って、ペンタハロエタンの例で説明す
るように、トリ及びテトラフロロ製品はペンタノ10エ
タンの高変換でも高弗素化製品の製造を最小にしなから
高収率で得られる。
選択及び方法の制御によって、所望のトリー及び/又は
テトラフロロ生成物が高ペンタノ\ロエタン変換、通常
は約30%と約90%の間で主要生産物として得られる
ことである。好ましくは反応因子はペンタフロロ製品の
製造が製造される生成物の約10%以下に維持されるよ
うに制御する。従って、ペンタハロエタンの例で説明す
るように、トリ及びテトラフロロ製品はペンタノ10エ
タンの高変換でも高弗素化製品の製造を最小にしなから
高収率で得られる。
不充分弗素化中間体、例えばCHCl2CCl2F及び
CHC12CCl F 2は再循環又は所望により生成
物流からIli、離できる。更に、1.1.1−トリフ
ロロジクロロエタンは所望の場合追加的な1.1.1.
2−テトラフロロクロロエタンの製造のために反応器に
再循環できる。
CHC12CCl F 2は再循環又は所望により生成
物流からIli、離できる。更に、1.1.1−トリフ
ロロジクロロエタンは所望の場合追加的な1.1.1.
2−テトラフロロクロロエタンの製造のために反応器に
再循環できる。
ペンタハロエタンとHFとの反応は、固定床及び流動床
反応器を含む任意の反応器で行うことができる。反応容
器は「ハステロイ」及び「インコネル」のような弗化水
素の腐食作用に抵抗性のある材料で構成すべきである。
反応器を含む任意の反応器で行うことができる。反応容
器は「ハステロイ」及び「インコネル」のような弗化水
素の腐食作用に抵抗性のある材料で構成すべきである。
圧力は臨界的ではない。大気圧及び超大気圧が特に便利
であり、従って好ましい。本発明で製造される弗素化ア
ルカンは発泡剤及び冷凍剤として有用である。また、他
の有用な化合物の製造の原料としても用い得る。例えば
、1,1.1.2−テトラフロロクロロエタンは1,1
.1.2−テトラフロロエタンの製造に用いることがで
きる。
であり、従って好ましい。本発明で製造される弗素化ア
ルカンは発泡剤及び冷凍剤として有用である。また、他
の有用な化合物の製造の原料としても用い得る。例えば
、1,1.1.2−テトラフロロクロロエタンは1,1
.1.2−テトラフロロエタンの製造に用いることがで
きる。
[実施例]
次の例において、すべての部及びパーセントは重量基準
であり、すべての温度は摂氏である。すべての反応で痕
跡量のみの水を含む市販のHFを用いた。
であり、すべての温度は摂氏である。すべての反応で痕
跡量のみの水を含む市販のHFを用いた。
一般的弗素化方法
反応器(0,5インチID、12インチ長さのインコネ
ルバイブ)に次の例に示す量の触媒を仕込み、砂浴にお
いた。反応器に50m1/分の流速の窒素気体を通過さ
せなから該浴を徐々に400’に加熱して痕跡の水を除
いた。温度を200°に下げ、HF及び窒素気体(1:
4モル比)を反応器に通過させ、窒素流をきれいなHF
が反応2;を通過するまで減少した。この点で、温度を
徐々に450’に上げ、そこで15〜300分間維持し
た。
ルバイブ)に次の例に示す量の触媒を仕込み、砂浴にお
いた。反応器に50m1/分の流速の窒素気体を通過さ
せなから該浴を徐々に400’に加熱して痕跡の水を除
いた。温度を200°に下げ、HF及び窒素気体(1:
4モル比)を反応器に通過させ、窒素流をきれいなHF
が反応2;を通過するまで減少した。この点で、温度を
徐々に450’に上げ、そこで15〜300分間維持し
た。
触媒組成物の初期弗素含量は金属を除いて少なくとも9
0%のAlF3含量に相当すると4pj定できる。この
4p1定はこの反応に関して次の計算に基づく。
0%のAlF3含量に相当すると4pj定できる。この
4p1定はこの反応に関して次の計算に基づく。
Al2O3+ 6HF →
2AIF、 + 3H20
y−乾燥窒素、空気、又は他の適当な不活性媒体流中で
少なくとも4時間少なくとも400℃の温度で乾燥した
未弗化触媒組成物の重量 マイナス 未弗化乾燥触媒組
成物中の金属化合物の重量2−弗化触媒組成物の重量
マイナス 金属弗化物として計算した金属化合物の重量 X−弗素化の後に残るA 1203の重量 とすると y−x−反応したA I 203の重量%−x−弗化触
媒組成物中のA I F 3の重量(y −x ) 1
68 / 102 = z −x乾燥弗化アルミナとし
てのAlF3の重量は次のように計算できる。
少なくとも4時間少なくとも400℃の温度で乾燥した
未弗化触媒組成物の重量 マイナス 未弗化乾燥触媒組
成物中の金属化合物の重量2−弗化触媒組成物の重量
マイナス 金属弗化物として計算した金属化合物の重量 X−弗素化の後に残るA 1203の重量 とすると y−x−反応したA I 203の重量%−x−弗化触
媒組成物中のA I F 3の重量(y −x ) 1
68 / 102 = z −x乾燥弗化アルミナとし
てのAlF3の重量は次のように計算できる。
(z−x) 100 %
温度を次いで指定値に下げた後、ペンタノ10エタン流
を開始した。HF及びペンタハロエタンの流は指定のモ
ル比及び接触時間となるように調節した。
を開始した。HF及びペンタハロエタンの流は指定のモ
ル比及び接触時間となるように調節した。
反応器排出流は水性水酸化カリウムでスクラッピングし
てHCl及びHFを除き、20フィート長さ、1/8イ
ンチ直径、不活性担体上の“Krytox”過弗化ポリ
エーテルを含むカラム及び35cc/分のヘリウム流を
用いてヒユーレットバラカードHP 5980ガスクロ
マトグラフでオンラインサンプリングした。ガスクロマ
トグラフ条件は、70°で3分間、続いて温度プログラ
ミングにより6@/分の速度で180°にした。
てHCl及びHFを除き、20フィート長さ、1/8イ
ンチ直径、不活性担体上の“Krytox”過弗化ポリ
エーテルを含むカラム及び35cc/分のヘリウム流を
用いてヒユーレットバラカードHP 5980ガスクロ
マトグラフでオンラインサンプリングした。ガスクロマ
トグラフ条件は、70°で3分間、続いて温度プログラ
ミングにより6@/分の速度で180°にした。
伊71〜5
初期触媒仕込みとして19.8g (30cc)のN
i C12/A I203 (2%Ni)を用いて一
般的弗素化方法に従った。すべての反応で接触時間は3
0秒であった。調製触媒上のHFとCF。
i C12/A I203 (2%Ni)を用いて一
般的弗素化方法に従った。すべての反応で接触時間は3
0秒であった。調製触媒上のHFとCF。
CHCl 2との反応の結果は表1に示す。
表 1
例温度HP/CP3 CHCh
1350℃ 2/1
2350℃ 4/1
3375℃ 2/1
4400℃ 2/1
5400℃ 4/1
PCl23’ FCl242
78.3% 20.5%
80.6% 18,4%
60.4% 35.9%
45.6% 42.6%
38.7% 51.5%
C1253
0,5%
0.4%
2.0%
5.6%
7.5%
1、 FCl23−CF、 CHCl22、 F
Cl24−CF、 CHClF3、 FCl25−
CF、 CHF 2例6 初期触媒仕込みとして21.0g (30cc)のCO
C12/AI203 (2%Co)を用いて一般的弗
素化方法に従った。接触時間は30秒で、HFとCCl
F 2 CHC12とのモル比は4/1であった。温
度は350℃であった。これらの条件Fで、CCl F
2 CHCl 2の変換は97,8%で、56.7%
のCF3 CHC12,13,7%のCF、CHClF
及び僅か1.1%のCF 3CHF2を生じた。
Cl24−CF、 CHClF3、 FCl25−
CF、 CHF 2例6 初期触媒仕込みとして21.0g (30cc)のCO
C12/AI203 (2%Co)を用いて一般的弗
素化方法に従った。接触時間は30秒で、HFとCCl
F 2 CHC12とのモル比は4/1であった。温
度は350℃であった。これらの条件Fで、CCl F
2 CHCl 2の変換は97,8%で、56.7%
のCF3 CHC12,13,7%のCF、CHClF
及び僅か1.1%のCF 3CHF2を生じた。
例7
初期触媒仕込みとして20.8g (30cc)のCo
C12/A I203 (4%Co)を用いて一般的
弗素化方法に従った。接触時間は30秒で、HFとCF
3CHCl2とのモル比は2/1であった。温度は35
0℃であった。これらの条件下で、CF、CHC12の
変換は45.7%で、90.1%のCF3 CHClF
及び僅か6.7%のCF、CHF2を生じた。
C12/A I203 (4%Co)を用いて一般的
弗素化方法に従った。接触時間は30秒で、HFとCF
3CHCl2とのモル比は2/1であった。温度は35
0℃であった。これらの条件下で、CF、CHC12の
変換は45.7%で、90.1%のCF3 CHClF
及び僅か6.7%のCF、CHF2を生じた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式C_2HX_5_−_nF_n[式中、xはCl
及びBrからなる群から選ばれ、n=0〜3である。]
のペンタハロエタンの弗素化による1,1,1−トリフ
ロロジクロロエタン及び/又は1,1,1,2−テトラ
フロロクロロエタンの製造方法であって、気相において
約250℃〜約450℃で該ペンタハロエタン及びHF
を零より大きい酸化状態の少なくとも1の金属の触媒的
有効量を包含する触媒組成物と接触させ、 該金属はクロム、マンガン、ニッケル、ロジウム及びコ
バルトからなる群から選ばれ、 該金属は、金属弗化物として計算して該金属を除く触媒
組成物の少なくとも90重量%の AlF_3含量に相当する弗素含量の割合でアルミニウ
ムと弗素とから本質的になるアルミニウム含有化合物と
組み合わせたものである方法。 2)該AlF_3含量が上昇温度で揮発性弗素含有化合
物で未弗素化触媒を予備処理して得られる請求項1に記
載の方法。 3)金属として表した金属の触媒的有効量が触媒組成物
の約0.02〜約50重量%である請求項1に記載の方
法。 4)該HFをペンタハロエタンと約1/1〜約20/1
のモル比で、約300℃〜400℃の温度及び約5〜1
00秒の接触時間で接触させる請求項1、2又は3に記
載の方法。 5)金属がコバルトである請求項1に記載の方法。 6)ペンタハロエタンがCCl_3CHCl_2、CC
l_2FCHCl_2、CClF_2CHCl_2、及
びCF_3CHCl_2から選ばれる少なくとも1であ
る請求項1に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US21296488A | 1988-06-29 | 1988-06-29 | |
US212,964 | 1988-06-29 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0248538A true JPH0248538A (ja) | 1990-02-19 |
Family
ID=22793150
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1166490A Pending JPH0248538A (ja) | 1988-06-29 | 1989-06-28 | 気相ハイドロフロリネーション方法 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0349298B1 (ja) |
JP (1) | JPH0248538A (ja) |
KR (1) | KR900000317A (ja) |
CN (1) | CN1016777B (ja) |
AT (1) | ATE84774T1 (ja) |
AU (1) | AU612857B2 (ja) |
BR (1) | BR8903169A (ja) |
DE (1) | DE68904482T2 (ja) |
ES (1) | ES2053998T3 (ja) |
GR (1) | GR3007267T3 (ja) |
IN (1) | IN171977B (ja) |
RU (1) | RU1817763C (ja) |
ZA (1) | ZA894948B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994013610A1 (en) * | 1992-12-15 | 1994-06-23 | Daikin Industries, Ltd. | Process for fluorinatng halogenated hydrocarbon |
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---|---|---|---|---|
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IN170774B (ja) * | 1988-05-23 | 1992-05-16 | Du Pont | |
FR2661906B1 (fr) * | 1990-05-11 | 1993-10-01 | Atochem | Procede de fabrication du 1,1,1,2-tetrafluoro-chloroethane et du pentafluoroethane. |
US5300710A (en) * | 1991-03-20 | 1994-04-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the manufacture of 2-chloro-1,1,1,2-tetrafluoroethane and pentafluoroethane |
US5321170A (en) * | 1991-03-20 | 1994-06-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the manufacture of 1,1,1,2-tetrafluoroethane |
US5155082A (en) * | 1991-04-12 | 1992-10-13 | Allied-Signal Inc. | Catalyst for the manufacture of chlorofluorocarbons, hydrochlorofluorocarbons and hydrofluorocarbons |
ZA923274B (en) * | 1991-05-06 | 1993-11-08 | Du Pont | Process for the manufacture of pentafluoroethane |
AU2265592A (en) * | 1991-05-06 | 1992-12-21 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the manufacture of pentafluoroethane |
WO1993019845A1 (en) * | 1992-03-28 | 1993-10-14 | British Technology Group Ltd | Catalyst for promoting halogen exchange |
FR2700766B1 (fr) * | 1993-01-27 | 1995-03-24 | Atochem Elf Sa | Procédé de fluoration de perchloréthylène ou du pentachloréthane. |
FR2700770B1 (fr) * | 1993-01-27 | 1995-03-24 | Atochem Elf Sa | Procédé de fabrication du 1,1,1,2-tétrafluoro-2-chloroéthane et du pentafluoroéthane. |
WO1994020441A1 (en) † | 1993-03-05 | 1994-09-15 | Daikin Industries, Ltd. | Process for producing 1,1,1,2,2-pentafluoroethane, process for producing 2,2-dichloro-1,1,1-trifluoroethane, and method of purifying 1,1,1,2,2-pentafluoroethane |
IT1270959B (it) | 1993-08-13 | 1997-05-26 | Ausimont Spa | Processo per la preparazione di pentafluoroetano |
JP3558385B2 (ja) * | 1994-10-13 | 2004-08-25 | 昭和電工株式会社 | クロム系フッ素化触媒、及びフッ素化方法 |
FR2764883B1 (fr) * | 1997-06-18 | 1999-07-16 | Atochem Elf Sa | Procede de fabrication d'hydrofluoroalcanes |
IT201700007565A1 (it) * | 2017-01-24 | 2018-07-24 | M E P Macch Elettroniche Piegatrici Spa | Apparato e metodo per realizzare una rete metallica |
CN108993553A (zh) * | 2018-06-11 | 2018-12-14 | 浙江衢化氟化学有限公司 | 一种用于气相氯化生产1,1,1-三氟-2,2-二氯乙烷的催化剂及其制备和使用方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1989-06-23 IN IN486/CAL/89A patent/IN171977B/en unknown
- 1989-06-28 BR BR898903169A patent/BR8903169A/pt not_active Application Discontinuation
- 1989-06-28 RU SU894614432A patent/RU1817763C/ru active
- 1989-06-28 KR KR1019890009110A patent/KR900000317A/ko not_active Application Discontinuation
- 1989-06-28 JP JP1166490A patent/JPH0248538A/ja active Pending
- 1989-06-29 ZA ZA894948A patent/ZA894948B/xx unknown
- 1989-06-29 ES ES89306574T patent/ES2053998T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-29 CN CN89104523A patent/CN1016777B/zh not_active Expired
- 1989-06-29 AU AU37179/89A patent/AU612857B2/en not_active Ceased
- 1989-06-29 AT AT89306574T patent/ATE84774T1/de active
- 1989-06-29 DE DE8989306574T patent/DE68904482T2/de not_active Revoked
- 1989-06-29 EP EP89306574A patent/EP0349298B1/en not_active Revoked
-
1993
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---|---|
AU3717989A (en) | 1990-01-04 |
AU612857B2 (en) | 1991-07-18 |
CN1016777B (zh) | 1992-05-27 |
ZA894948B (en) | 1991-03-27 |
GR3007267T3 (ja) | 1993-07-30 |
KR900000317A (ko) | 1990-01-30 |
BR8903169A (pt) | 1990-02-13 |
CN1039013A (zh) | 1990-01-24 |
IN171977B (ja) | 1993-02-27 |
RU1817763C (ru) | 1993-05-23 |
ES2053998T3 (es) | 1994-08-01 |
DE68904482T2 (de) | 1993-06-03 |
DE68904482D1 (de) | 1993-03-04 |
EP0349298B1 (en) | 1993-01-20 |
ATE84774T1 (de) | 1993-02-15 |
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