JPH0248170A

JPH0248170A - ウェーハ移送装置

Info

Publication number: JPH0248170A
Application number: JP1158132A
Authority: JP
Inventors: Jr Gerald L Gill; ジェラルド　エル　ジル　ジュニア; Thomas C Hyde; トーマス　シー　ハイド
Original assignee: WESTECH SYST Inc
Current assignee: WESTECH SYST Inc
Priority date: 1988-06-20
Filing date: 1989-06-20
Publication date: 1990-02-16
Anticipated expiration: 2012-11-26
Also published as: EP0464864A2; DE68921793D1; EP0347718A2; EP0347718B1; US4944119A; EP0347718A3; JP2683279B2; EP0464864A3; DE68921793T2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は研磨装置に関する。

より詳しくは、本発明は、半導体材料の薄くて平らなウ
ェーハの側面を研磨する装置であって、ウェーハ装填ス
テーションにおいてウェーハを受け入れ、加圧下の濡れ
た研磨面にウェーハを運び、該研磨面上でウェーハを回
転かつ振動させる研磨ヘッドを備えたウェーハ研磨装置
に関する。

更に別の観点から見れば、本発明は、研磨ヘッドにより
ピックアップする装填ステーションにウェーハを移送す
る装置を備えた形式のウェーハ研磨装置であって、装填
ステーションへの移送中に塵埃その他の不純物がウェー
ハに付着することを防止できるウェーハ研磨装置に関す
るものである。

薄くて平らな半導体ウェーハを研磨する装置は、例えば
米国特許筒３，８４１，０３１号及び第４．１９３．２
２６号、及び公開された欧州特許出願筒８８３０２４９
６．０号に開示されているように、これ迄に良く知られ
ている。従来のウェーハ研磨装置は、ウェーハ装填ステ
ーションでウェーハを受け入れて、濡れた研磨ステーシ
ョンに運ぶ研磨ヘッドを備えており、該研磨ヘッドによ
りウェーハは濡れた研磨面に対して下方に押し付けられ
るようになっている。ウェーハは、研磨面上で、研磨ヘ
ッドにより回転されかつ振動される。ウェーハを装填ス
テーションに移送して研磨ヘッドによりピックアップさ
せる工程で遭遇する特別な問題は、不純物がウェーハに
付着しないようにすることである。

従って、研磨ヘッドによりピックアップさせるべくウェ
ーハをウェーハ装填ステーションに容易に移送できかつ
この装填ステーションへの移送中に不純物がウェーハに
付着することを防止できる改善された半導体ウェーハ研
磨装置の提供が強く望まれている。

従って、本発明の主目的は、平らな半導体ウェーハの表
面を研磨できる改善された装置を提供することにある。

本発明のこの目的及び他の目的は、添付図面に関連して
述べる本発明の実施例についての以下の詳細な説明によ
り明らかになるであろう。

簡単に云えば、本発明によれば、ウェーハ研磨装置の圧
力ヘッドに当接する位置にウェーハを移送する装置が提
供される。本発明の移送装置は、移送ヘッド組立体の上
にウェーハを位置決めするためのドリー（搬送具）を有
している。移送ヘッド組立体は、ドリーからウェーハを
取り外し、圧力ヘッドに対してウェーハを位置決めする
。移送ヘッド組立体がドリーからウェーハを取り外して
、圧力ヘッドに対してウェーハを位置決めするとき、移
送ヘッド組立体は、ウェーハの周囲の選択された点での
み、ウェーハと接触する。

第１図〜第８図には、圧力ヘッドすなわち研磨ヘッドに
（及び、該研磨ヘッドから）ウェーハを移送する本発明
の装置の好ましい実施例が示しである。図示の実施例は
本発明の実施するためのものであり、本発明の範囲を制
限するものではない。

また、全図面を通じて同一のエレメントには、同一の参
照番号が使用されている。本発明の理解を容易にするた
め、同一のエレメントについて本願では、欧州特許出願
第８８３０２４９６．０号に用いたちのと同一の参照番
号を使用している。従って、第１図〜第８図に示す移送
装置は、上記欧州特許出願の第２Ｂ図の圧力ヘッドの層
１２０に（及び核層１２０から）ウェーハを移送するの
に使用することができる。また、上記欧州特許出願の第
１図に示すようにかつ従来技術において良く知られてい
るように、長いキャリヤ手段が設けられていて、該キャ
リヤ手段が、圧力ヘッドを、本願の第１図〜第８図に示
すウェーハ移送装置上の第１作動位置と、研磨表面上の
第２作動位置との間で移動させるように構成されている
。圧力ヘッドは、研磨表面に対してウェーハを保持して
ウェーハを研磨するようになっている。

第１図に示す本発明の移送ヘッド組立体は、ベース２０
０と、アライメントカップ２０１と、支持ピストン２０
２と、脚２０３．２０４．２０５と、ピン２０６．２０
７．２０８とを有している。

リム面２１１の周囲には、その全体に亘って、孔２１０
が等間隔に形成されている。第１図には４つの孔２１０
が見えるだけであるが、実際には６つの孔２１０がリム
面２１１に形成されている。

また、図面を明瞭にするため、第１図からはピン２０６
〜２０８及びばね２０９がそれぞれ３つずつ省略されて
いているが、実際には、各孔２１０にピン及びばねが１
つずつ配置される。各ピン２０６〜２０８は、同一の形
状及び寸法を有している。各凹部２１２．２１３．２１
４は、脚２０３〜２０５のアッパーアーム２１６を受け
入れるようになっている。各脚２０３〜２０５のボトム
アーム２１７は、ポルト２１８によりベース２００に取
り付けられる。脚２０３〜２０５は、ばね２１９に対し
アライメントカップ２０１を押し付ける働きをなす。各
ばね２１９の下端部は、ベース２００に形成された回り
止め（ｄｅｔｅｎｔ）　　２２０内に配置される。また
、各ばね２１９の上端部は、アライメントカップ２０１
に形成された同様な回り止め（図面には見えない位置に
ある）内に配置される。支持ピストン２０２は、アライ
メントカップ２０１に形成された円筒状の孔２２１内に
摺動自在に受け入れられている。ばね２２２は、支持ピ
ストン２０２の支持体を構成する。ばね２２２の下端部
は、回り止め２２３内に受け入れられる。

ばね２２２の上端部は、支持ピストン２０２の底部に形
成された同様な回り止め２２４（第８Ａ図）内に受け入
れられる。各ピン２０６〜２０８の上端部は、截頭円錐
状にテーパしている。

支持ピストン２０２は円筒状の外表面２２６を備えてお
り、この外表面２２６は、アライメントカップ２０１の
表面（すなわち孔）２２１に対し摺動自在に接触する。

支持ピストン２０２の平らな床部２２９．２３０の上方
には、弧状のリップすなわち支持面２２７．２２８が設
けられている。

第６図にはウェーハ貯蔵カセット２３２が示されており
、該ウェーハ貯蔵カセット２３２は、互いに対向する対
をなして間隔を隔てて配置された複数の支持棚２３３Ａ
、２３３Ｂ及び２３４Ａ、２３４Ｂを有している。各支
持棚の対は、ウェーハ１０の選択された周縁部を支持す
るようになっている。ウェーハ１０は、互いに間隔を隔
てた上面１０Ａと下面１０Ｂとを有しており、これらの
上面１０Ａ及び下面１０Ｂは、縁部１０Ｃに終端してい
る。

ウェーハをカセット２３２から第１図の移送ヘッド組立
体に移送するのに、ウェーハドリー２３６（第４図）が
使用される。ドリー２３６は長方形のベース２３７を有
しており、該ベース２３７にはピン２３８が固定されて
いて、ローラ２３９をベース２３７に隣接した位置に保
持している。また、ベース２３７には長いピン２４０が
固定されており、該ピン２４０の周囲にばばね２４１が
配置されている。該ばね２４１の端部２４２Ａ、２４２
Ｂは、ベース２３７に固定されたピン２４３に当接して
いる。ばね２４１は、以下に述べるようにして、ローラ
２３９がトラック２４４（第３図）に沿って走行できる
ように、ドリー２３６を押圧する機能を有している。ド
リー２３６のベース２３７に取り付けられた首部２４６
には、舌部２４５が連結されている。舌部２４５の平ら
な上面２４８の両端部は、外方に傾斜した（すなわち外
方に拡がった）弧状面２４７．２４９により境界が定め
られている。弧状面２４７．２４９は、ウェーハ１０の
縁部１０Ｃの下方の角縁部１０Ｄと接触し、ウェーハ１
０の下面１０Ｂがドリー２３６の上面２４８と接触する
ことを防止している。

第４図のウェーハドリー２３６の作動について、第３図
に関連して説明する。第３図では、図面を明瞭化するた
め、ドリー２３６の舌部２４５、首部２４６及びベース
２３７が仮想線で示しである。

作動時に、ドリー２３６のローラ２３９は、プレート２
６２のトランク２４４の縁部に沿って移動する。トラッ
ク２４４は、その中央部に設けられた凹部（ｊｏｇ）　
２４４　Ａを除き、直線状をなしている。凹部２４４Ａ
は、舌部２４５が１８０°だけ方向転換することを可能
にするためのものである。

ピン２４０の下部は、プレート２５０に枢着されている
。このプレート２５０を円筒状のロッド２５３に沿って
図示の方向２５１．２５２に移動させるための駆動手段
（図示せず）が設けられている。プレート２５０に設け
られた円筒状の孔２５４にロッド２５３が通されていて
、プレート２５０がロッド２５３に沿って摺動できるよ
うになっている。プレート２５０が、第３図に実線で示
す中央位置にあるときには、舌部２４５は一点鎖線２４
５で示す位置にある。プレート２５０が矢印２５２の方
向に移動すると、舌部２４５、ベース２３７及び首部２
４６は、矢印２５６で示す方向に９０°枢動する。これ
により、ベース２３７は一点鎖線２３７Ａで示す位置を
占めることになる。逆に、プレート２５０が、第３図に
実線で示す中央位置から矢印２５１の方向に移動すると
、舌部２４５、首部２４６及びベース２３７は矢印２５
７の方向に９０°回転して、−点鎖線２３７Ｂで示す位
置を占める。第３図において番号２５９で示す仮想線は
、ウェーハ貯蔵カセット２３２及びその昇降手段の全体
的位置を示し、番号２６０で示す仮想線は、移送ヘッド
組立体の全体的位置を示すものである。

ウェーハドリー２３６の作動について、第５図に更に説
明されている。プレート２５０が矢印２５２　（第３図
）の方向に移動して、ドリー２３６のベース２３７が一
点鎖線２３７Ａで示す位置に到達すると、ドリー２３６
は第５図の右側に示す位置を占め、このとき舌部２４５
はウェーハ１０の下でカセット２３２内に延入した状態
にある。

次いで、昇降手段２６０を作動してカセ７　ト２３２を
下降させるが、このとき舌部２４５は固定位置に維持さ
れる。カセット２３２を下降すると、ウェーハ１０の下
方の周縁部１０Ｄ（第６図）が、ドリー２３６の外方に
傾斜した弧状面２４７．２４９に接触し、ウェーハ１０
がカセット２３２の棚の対２３３Ａ、２３３Ｂから持ち
上げられる。このようにしてウェーハ１０が弧状面２４
７．２４９上に配置された後、プレート２５０を矢印２
５１の方向に移動する。これにより、ローラ２３９はト
ラック２４４に沿って移動し、凹部２４４Ａを通り、ベ
ース２３７が一点鎖線２３７Ｂ　（、第３図）で示す位
置を占める位置まで移動する。ベース２３７が一点鎖線
２３７Ｂで示す位置に到達すると、ドリー２３６は第５
図で左側に示す位置を占め、このとき、舌部２４５は移
送ヘッド組立体２４６の上方にある。舌部２４５が移送
ヘッド組立体２６４上に配置されると、移送ヘッド組立
体２６４は第８Ａ図〜第８Ｅ図に示す方法に従って作動
し、ウェーハ１０を舌部２４５から取り外して、圧力ヘ
ッドに隣接して位置決めする。

第８Ａ図は、移送ヘッド組立体２６４及び舌部２４５が
、第５図で左側に示す位置にあるところを示すものであ
る。

第８Ｂ図は、昇降手段２６１が付勢されてベース２００
及び移送ヘッド組立体２６４が矢印２７０で示すように
上方に変位されているが、ドリー２３６及び舌部２４５
は静止している状態を示すものである。第４図に示すよ
うに、ウェーハ１０の縁部１０Ｃの位置は、舌部２４５
から離れる方向に延在していて、舌部２４５とは接触し
ないように支持されている。移送ヘッド組立体２６４が
第８Ｂ図に矢印２７０で示す方向に変位すると、これら
の自由部分の選択された点が、等間隔を隔ててリム面２
１１から上方に延在している６本のピンのテーパ状の上
端部２２５と接触する。テーパ状の上端部２２５により
案内されて、ウェーハ１０は、ピンを介して下降し、支
持面２２７上に載置される。移送ヘッド組立体２６４が
第８Ｂ図に示すように上昇する間、壁２２１．２２６．
２６３の部分は、舌部２４５を通過して上方に移動する
。互いに対向する平行な壁２２６．２６３（第１図）の
間の距離及び壁２２１により囲まれる領域は、移送ヘッ
ド組立体２６４が矢印２７０の方向に上昇するときに、
舌部２４５が上記領域に嵌入できる充分な大きさを有し
ている。

図面を明瞭化するため、第８Ｂ図には、ウェーハ１０が
支持面２２７上に完全には載置されていないけれども、
舌部２４５がウェーハ１０から分離されている状態が示
されている。通常、ウェーハ１０は、該ウェーハ１０が
支持面２２７に接触しかつ舌部２４５が支持面２２７の
下に位置するまで、静止する舌部２４５から持ち上げら
れて分離されることはない。

昇降手段２６１によりベース２００に対して矢印２７０
の方向に作用する上向きの力が加えられると、移送ヘッ
ド組立体２６４が上昇する。ベース２００及び移送ヘッ
ド組立体２６４の昇降は、空気圧シリンダ、油圧シリン
ダ又は従来の任意の機械的、電気的手段或いは手動によ
り行うことができる。

ウェーハ１０が円形の平らな支持面２２７上に載置され
た後、圧力ヘッド２６５が、アライメントカップ２０１
に隣接する位置まで下降される。

このとき、ドリー２３６は固定位置に維持しておくこと
ができるし、移送ヘッド組立体２６４から外して矢印２
５２（第３図）の方向に移動させることもできる。第８
Ｃ図〜第８Ｅ図には、ドリー２３６が移送ヘッド組立体
２６４から取り外された状態を想定して示しである。

ウェーハ１０が支持面２２７上に載置された後、移送ヘ
ッド組立体２６４の上昇運動が停止され、圧力へラド２
６５が、第８Ｃ図に示すように、アライメントカップ２
０１に隣接して位置決めされる。この位置決めは、位置
決め手段２６６を用いて行われる。位置決め手段２６６
は、欧州特許出願第８８３０２４９６．０号の第１図に
示されているカウンタバランス形装置又は従来技術によ
る他の任意の位置決め装置で構成することができる。

第８Ｃ図に示すように、圧力ヘッド２６５がアライメン
トカップ２０１に隣接して位置決めされると、研磨ヘッ
ド（圧力ヘッド）２６５に形成された孔（例えば、上記
欧州特許出願の第２Ｂ図に記載の孔９０を参照）から、
ウェーハ１０に対して水が噴射される。次に、水の噴射
を停止・し、同じ孔から吸引力を作用する。圧力ヘッド
２６５を固定位置に維持しておき、昇降手段２６１によ
り、ベース２００及び移送ヘッド組立体２６４を矢印２
７０で示す方向に再び移動させる。移送ヘッド組立体２
６４が上昇を続けると、リップ７２Ａの円形で平らな底
面２７２が、孔２１０内の６本のピン（番号２０６〜２
０８で示すものを含む）と接触し、底面２７２は、ばね
２０９を圧縮しながら６本のピンを孔２１０内に下向き
に押し込む。

リップ７２Ａの底面２７２が、第８Ｄ図に示すように、
円形面（リム面）２１１に接触すると、アライメントカ
ップ２０１の上昇運動が停止される。

円形面２１１が底面２７２と接触した後、昇降手段２６
１を使用して、ばね２１９．２２２を備えたベース２０
０を上方に変位し続ける。ばね２１９が圧縮されると、
圧力ヘッド２６５が固定位置に維持され、このため、ア
ライメントカップ２０１も固定位置に維持される。従っ
て、ばね２１９が更に圧縮される間に、ベース２００は
上方に運動し続け、アライメントカップ２０１は静止し
た状態に維持され、ばね２２２が継続して圧縮されるた
め、支持ピストン２０２が矢印２７０の方向に上方に変
位され、ウェーハ１０が層１２０に対して押し付けられ
る。支持ピストン２０２により、ひとたびウェーハ１０
が層１２０に直ぐ隣接すなわち接触して配置されると、
孔９０から作用する吸引力によりウェーハ１０は層１２
０に保持される。第８Ｅ図は、昇降手段２６１を使用し
てベース２００を上方に変位させ、これにより支持ピス
トン２０２を上方に移動して層１２０に対してウェーハ
１０を押し付けた後の、支持ピストン２０２及びぼね２
１９．２２２の位置を示すものである。

ウェーハ１０がひとたび層１２０に対して押し付けられ
ると、位置決め手段２６６を使用して、圧力ヘッド２６
５を移送ヘッド組立体２６４がら離れる方向に持ち上げ
、また、昇降手段２６１を使用して、移送ヘッド組立体
２６４を第８Ａ図の位置に戻す。次に、位置決め手段２
６６を使用して、圧力ヘッド２６５を研磨ステーション
に移動し、ウェーハ１０を研磨する。ウェーハ１０が選
択された公差内に研磨されると、圧力ヘッド２６５が第
２図及び第７図に示す水トランク（ｗａｔｅｒ　ｔｒａ
ｃｋ）上に位置決めされる。

第２図及び第７図に示す水トラックは直方体のハウジン
グ２７１を有しており、該ハウジング２７１には、圧力
ヘッド２６５から噴射される水を受け入れる円形のリザ
ーバが形成されている。

ウェーハ１０は、孔９０からの吸引力の作用を停止しか
つこの孔９０から水を噴出させることにより、層１２０
から分離される。ハウジング２７１に形成された円形の
リザーバは、床部２７４と、上方に向かって外方に傾斜
した円形の壁２７３．２７５とを備えている。これらの
両壁２７３．２７５は、垂直に配向された円筒状の壁２
９３により相互連結されている。床部２７６を備えた長
いチャンネルが、円形のリザーバと流体連通している。

床部２７４と２７６とは同一平面上にある。長いチャン
ネルは、互いに間隔を隔てて対向して配置された１対の
長くて傾斜したウェーハガイド側面２７７．２７８を有
しており、該ウェーハガイド側面２７７．２７８は、床
部２７６から上方かつ外方に延在している。各ウェーハ
ガイド側面２７７．２７８は、それぞれ垂直側壁２７９
．２８０に終端している。液体又は液体とガスとの混合
物が、矢印２８１で示す方向に沿って、オリフィス２８
２から円形のリザーバ及び長いチャンネル内に流入する
。オリフィス２８２により流体２８１は、リザーバ内に
おいてウェーハ１０の中心の側方に噴射されるため、ウ
ェーハ１０には流体の流れ２８１により回転力が伝達さ
れ、このため、ウェーハ１０が円形のリザーバ゛から長
いチャンネルに向かって移動するときに、ウェーハ１０
が回転される。

ガスはオリフィス２８２から流出する液体に吹き込むこ
とができるし、床部２７４．２７６に形成された孔から
気泡を吹き込むことができる。このように、リザーバ及
びチャンネルを通って流れる流体にガスを吹き込むこと
により、空気の気泡がウェーハ１０と床部２７４．２７
６との間のボールベアリングのように機能するため、ウ
ェーハ１０が容易に水トラックを通り得るようになる。

ウェーハ１０が円形のリザーバ内にあるときには、ウェ
ーハ１０の縁部１０Ｃの下方の周縁部１０Ｄが傾斜壁２
７３と接触し、ウェーハ１０が長いチャンネル内で下流
に移動するときには、周縁部１０Ｄはウェーハガイド側
面２７７．２７８と接触する。従って、壁２７３のサイ
ズ及び壁２７７．２７８の間隔は、ウェーハ１０が水ト
ランクを移動する間に、ウェーハ１０の下面１０Ｂが床
部２７４．２７６に接触することがないように定められ
る。通常、水トラック内での水のレベルは、ウェーハ１
０が水トラック内で水により覆われるか、少なくとも薄
膜が張られる状態を維持できる程度の量で充分である。

水トランクに沿って移動するウェーハ１０が長いチャン
ネルの出口端に近付くと、水トラック内の水が流れるこ
とができるチャンネルのサイズが、部材２８７の傾斜天
井２８６により徐々に制限される。このため、チャンネ
ルを通って流れる水の速度が増大し、ウェーハ１０が、
出口端２８５を出て、該出口端２８５に隣接して配置さ
れたカセット２３２内に容易に入り得るようになる。オ
リフィス２８８を通って矢印２８９の方向に流れる水流
が、チャンネルを通って出口端２８５の方向に移動する
ウェーハ１０に対して作用するようになっている。この
水流により、ウェーハ１０に対して下向きの力が伝達さ
れ、かつウェーハ１０の移動方向への力がウェーハ１０
に伝達されるため、チャンネルに沿って流れ、出口端２
８５から出るウェーハ１０の運動を助けることができる
。オリフィス２８８を通る流体の流れにより発生される
この下向きの力は、ウェーハ１０が出口端２８５を出た
後カセット２３２の支持棚２３３Ａ、２３３Ｂ内に完全
に入る前に、ウェーハ１０が傾斜することを防止できる
ため、重要である。

水トランクの出口端２８５から流出する水又は他の流体
は、リザーバ２９０内に収集される。リザーバ２９０か
らの水は、再生され、ポンプ手段２９１によりオリフィ
ス２８２．２８３．２８４に戻される。１枚のウェーハ
１０が、水トラックを流れ、出口端２８５から出てカセ
ット２３２の支持棚２３３Ａ、２３３Ｂ内に入った後、
昇降手段２６０によりカセット２３２が、別の支持棚の
位置まで上昇（又は下降）され、水トラックからの別の
ウェーハ１０を受け入れることができるようにする。カ
セットの支持棚２３３Ａ、２３３Ｂがウェーハ１０で満
たされたならば、このカセットをリザーバ２９０から取
り出して、空のカセットをリザーバ２９０内に装填する
。

以上、本発明の実施例について、当業者が理解しかつ実
施できるように説明した。

【図面の簡単な説明】

第１図は、ウェーハドリーからウェーハを取り出して研
磨ヘッドに移送するのに使用する、ウェーハの移送ヘッ
ド組立体を示す分解図である。第２図は、研磨されたウェーハを研磨ヘッドからウェー
ハ貯蔵カセットに運ぶのに使用する、ウェーハの水トラ
ック組立体の分解図である。第３図は、ウェーハドリーを、ウェーハ貯蔵カセットか
らウェーハの移送ヘッド組立体までウェーハを移送する
のに使用するトランクに組み込んだところを示す斜視図
である。第４図は、ウェーハドリーを示す斜視図である。第５図は、ウェーハ貯蔵カセットからウェーハの移送ヘ
ッド組立体までウェーハを移送するつ工−ハドリーの使
用方法を示す側面図である。第６図は、ウェーハ貯蔵カセットを示す斜視図である。第７図は、研磨ヘッドからウェーハ貯蔵カセットにウェ
ーハを移送する水トラックの作動を示す断面図である。第８Ａ図〜第８Ｅ図は、ウェーハをウェーハドリーから
取り出して研磨ヘッドに隣接して位置決めするウェーハ
の移送ヘッド組立体の作動を示す図面である。０・・・ウェーハ、００・・・ベース、０１・・・アライメントカップ、０２・・・支持ピストン、０６．２０７．２０８・・・ピン、３２・・・ウェーハ貯蔵カセ・ノド、３６・・・ウェーハドリー４５・・・舌部、６０．２６１・・・昇降手段、６４・・・移送ヘッド組立体、６６・・・位置決め手段、７１・・・ハウジング、９０・・・リザーバ。７２Ａ・・・リップ、２８６・・・傾斜天井、

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ウェーハ研磨装置の圧力ヘッドの所定位置にウェ
ーハを移送する装置において、前記ウェーハが、該ウェーハを囲んでいる周縁部と、該
周縁部に終端している、互いに間隔を隔てて配置された
上面及び下面とを有しており、前記研磨装置が、研磨面を備えた少なくとも１つのステ
ーションと、フレームと、該フレームに取り付けられた
長いキャリヤ手段であって、前記圧力ヘッドを、少なく
とも２つの作動位置すなわち、前記圧力ヘッドが前記移
送装置の上方に位置する第１作動位置と、前記圧力ヘッ
ドが前記ステーションの上方に位置する第２作動位置と
の間で移動させるキャリヤ手段とを有しており、前記圧力ヘッドが下方部分を有しており、該下方部分は
、前記圧力ヘッドが前記ステーションの上方に配置され
たときに、前記ウェーハ及び前記研磨面と接触してウェ
ーハを保持するように構成されており、前記移送装置が、（ａ）移送ヘッド組立体と、（ｂ）該移送ヘッド組立体を上方に変位させる変位手段
と、（ｃ）長い舌部を備えたウェーハドリーであって、前記
ウェーハの前記周縁部の選択された部分を前記舌部から
離れる方向に向けて該舌部とは接触しないようにして前
記ウェーハの一部を支持するウェーハドリーと、（ｄ）前記ウェーハの前記周縁部の前記選択された部分
を前記舌部から離れる方向に向けて該舌部とは接触しな
いようにして、前記舌部上にウェーハを位置決めする手
段と、（ｅ）前記長い舌部が前記移送ヘッド組立体の上方で選
択された位置に向くようにして前記ウェーハドリーを位
置決めする手段とを有しており、前記移送ヘッドが（ｉ）ベースと、（ｉｉ）アライメントカップであって、前記ウェーハを
選択された位置に支持すべく、前記ウェーハの前記周縁
部の選択された部分を受け入れかつ支持できる形状及び
寸法をもつ支持面と、前記アライメントカップに形成さ
れた中央開口を形成しておりかつ前記支持面から下方に
延在していて前記舌部を受け入れることができる形状及
び寸法を有する壁構造とを備えたアライメントカップと
、（ｉｉｉ）互いに間隔を隔てて配置された直立する複数
のピンであって、前記ウェーハが前記ピンを介して前記
支持面に向かって下方にスライドするときに前記ウェー
ハの前記選択された周縁領域に接触して前記ウェーハを
案内するピンとを有しており、前記中央開口、支持面及びピンは、前記舌部が前記移送
ヘッド組立体の上方の前記選択された作動位置にありか
つ前記変位手段が前記移送変位組立体を前記舌部に向か
って上方に変位させるときに、前記壁構造及び支持面が
前記舌部を通過して上方に移動し、前記ウェーハが前記
ピンを介して前記支持面上にスライドすることができる
形状及び寸法を有しており、（ｉｖ）前記圧力ヘッドが前記第１作動位置にあるとき
に、該圧力ヘッドの前記下方部分に隣接して前記ウェー
ハを位置決めすべく、前記支持領域を上方に変位させる
手段を更に有していることを特徴とする、ウェーハ研磨
装置の圧力ヘッドの所定位置にウェーハを移送する装置
。
（２）ウェーハ研磨装置の圧力ヘッドからウェーハ貯蔵
カセットに、流体を介してウェーハを移送する装置にお
いて、前記ウェーハが、該ウェーハを囲んでいる周縁部と、該
周縁部に終端している、互いに間隔を隔てて配置された
上面及び下面とを有しており、前記研磨装置が、研磨面を備えた少なくとも１つのステ
ーションと、フレームと、該フレームに取り付けられた
長いキャリヤ手段であって、前記圧力ヘッドを、少なく
とも２つの作動位置、すなわち、前記圧力ヘッドが前記
移送装置の上方に位置する第１作動位置と、前記圧力ヘ
ッドが前記ステーションの上方に位置する第２作動位置
との間で移動させるキャリヤ手段とを有しており、前記圧力ヘッドが下方部分を有しており、該下方部分は
、前記圧力ヘッドが前記ステーションの上方に配置され
たときに、前記ウェーハ及び前記研磨面と接触してウェ
ーハを保持するように構成されており、前記流体ハウジング装置が、（ａ）ハウジングと、（ｂ）前記圧力ヘッドが前記第１作動位置にあるときに
前記圧力ヘッドから放出される水を受け入れるべく前記
フレームに形成されたリザーバとを有しており、該リザ
ーバが、（ｉ）床部と、（ｉｉ）該床部から上方に延在している傾斜した側面で
あって、前記ウェーハの前記周縁部の少なくとも選択さ
れた部分を受け入れかつ接触して、ウェーハの下面が前
記リザーバの前記床部と接触することを防止する傾斜側
面とを備えており、（ｃ）前記ハウジングに形成されていて、前記リザーバ
から水を受け取るべく該リザーバと流体連通している長
いチャンネルを更に有しており、該チャンネルが、（ｉ）床部と、（ｉｉ）互いに間隔を隔てて対向して配置された長い傾
斜側面であって、前記チャンネルの前記床部から上方に
延在していて、前記ウェーハの前記周縁部の一部を受け
入れかつ接触し、前記ウェーハが前記チャンネルに沿っ
て移動するときに前記ウェーハの下面が前記チャンネル
の前記床部に接触することを防止する傾斜側面と、（ｉｉｉ）ウェーハの出口端とを備えており、（ｄ）前
記ハウジングに形成されたオリフィス手段であって、加
圧流体を前記リザーバに放出して、該リザーバから前記
長いチャンネルを通して流し、該チャンネルの前記出口
端から排出させるオリフィス手段を更に有しており、前
記流体の流れにより前記ウェーハが前記リザーバから前
記出口端に運ばれかつ該出口端から排出されるようにな
っており、（ｅ）前記チャンネルの前記出口端から流出する流体を
受け入れる第２リザーバと、（ｆ）該第２リザーバ内に配置され、前記出口端から流
出するウェーハを受け入れることができるカセット手段
であって、前記ウェーハの前記周縁部を摺動自在に受け
入れることができる面を備えているカセット手段とを更
に有していることを特徴とする、ウェーハ研磨装置の圧
力ヘッドからウェーハ貯蔵カセットに流体を介してウェ
ーハを移送する装置。
（３）前記ウェーハが前記チャンネルの前記出口端の近
くにあるときに、ウェーハに対して流体の流れを放出し
、（ａ）前記チャンネルの前記傾斜側面に対し前記ウェー
ハの前記周縁部の一部を下方に押し付け、（ｂ）前記ウェーハが前記チャンネルに沿って前記出口
端に向かって運動しかつ前記出口端から前記カセット手
段の中に入ることを補助するように前記ウェーハに対し
て作用する流体の力を発生させる手段を有していること
を特徴とする請求項２に記載の装置。