JPH024780Y2 - - Google Patents

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JPH024780Y2
JPH024780Y2 JP9963784U JP9963784U JPH024780Y2 JP H024780 Y2 JPH024780 Y2 JP H024780Y2 JP 9963784 U JP9963784 U JP 9963784U JP 9963784 U JP9963784 U JP 9963784U JP H024780 Y2 JPH024780 Y2 JP H024780Y2
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furnace
flow
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atmosphere
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Description

【考案の詳細な説明】 (イ) 技術分野 本考案は雰囲気ガスの流れを調整する機能を有
する熱処理炉を提供するものである。
更に詳しくは、昇温室、ろう付等のための熱処
理室、冷却室とが連ながる連続雰囲気熱処理炉に
おいて、炉中へ導入されかつ炉内で加熱手段に繰
返して触れて加熱されるように炉内のフアンによ
り炉の長軸方向を横切るほぼ垂直方向にて循環す
る雰囲気ガスの流れを所望の流量で所望の方向に
調整し得る機能を提供するものである。
(ロ) 考案の背景 上記した種類の連続雰囲気炉、例えば添付図面
の第1図に示されるアルミニウムのろう付けのた
めの連続熱処理装置は、アルミニウムとそのろう
付けのためのろう剤の酸化の防止のために高純度
のN2ガス等を炉雰囲気として使用する。
従来、このような炉雰囲気の純度を保持するた
めに、金属マツフルケースを用いたり、耐火物に
なる炉内壁を金属被覆する構造とするものが多
い。
これらの場合、処理物の加熱は、例えばマツフ
ルケースを用いた場合は、マツフルケースの外側
に設けられた加熱手段(この場合は裸の加熱手段
でもよい)による、該マツフルケースを介しての
間接加熱である。また、金属被覆した炉内壁を用
いた場合は、チユーブヒーター等の裸でない加熱
手段によることになる。いずれの場合においても
処理物の加熱は主として放射伝熱によることにな
る。
しかし、アルミニウム等の処理物はその表面が
光輝状であるために放射率が極めて小さく、昇温
されるまでに時間がかかりすぎることになる。昇
温までに長時間を要し、従つて処理物の炉雰囲気
中での滞留時間が長くなると、アルミニウムとろ
う剤の表面は炉雰囲気、例えばN2ガス雰囲気中
の微量のO2,H2Oによつても酸化されることに
なり、表面の酸化量が増加して処理物のろう付性
が低下することになる。
従つて、処理物を急速に加熱することが必要と
なる。
このために、処理物が先ず炉中へ搬入される昇
温室における処理物の加熱を、N2ガス雰囲気等
の炉雰囲気を熱媒体とする強制対流伝熱と放射伝
熱との組合わせによることが考えられてきた。
この場合、雰囲気ガスは循環フアンによつて炉
の長軸方向即ち処理物の炉中での搬送方向を横切
るほぼ垂直方向の面に沿つて循環され、処理物の
搬送経路外に設けられた加熱手段に繰返して触れ
加熱されて処理物を加熱することになる。
ところが、このような面に沿つて循環する雰囲
気ガスの流れはあたたかも炉通路を横切るカーテ
ンの如き働きをしてしまう。また、このようなカ
ーテンの如き循環雰囲気ガス流がたとえなくて
も、炉中に導入され加熱された雰囲気ガスは膨張
して炉中の全体のガス流に抵抗を与えガス流を停
滞しがちにするものであるから、この種のカーテ
ン状に働く循環雰囲気ガス流はその流れをますま
す停滞させることになり好ましくない。
即ち、このカーテンの如き循環雰囲気ガスの流
れは、炉内での雰囲気ガス全体の入口方向へのま
たは出口方向への流れを阻害し、雰囲気ガスによ
る処理物と炉内に対する折角の浄化作用を害し、
処理物のろう付性を結果的に低下させることにな
る。
更にまた、雰囲気ガスが一方向へあまりに多く
流れると、反対側の口から空気などが吸引され、
雰囲気が汚染されることになる。
(ハ) 考案の開示 本考案は、上述した不都合を解決するために、
雰囲気ガスの流れを任意に調整することができる
新規な手段を熱処理炉に提供するものである。
即ち、加熱と冷却或はその一方のための雰囲気
ガス強制循環フアンを有する連続雰囲気熱処理装
置において、この循環フアンが炉内につくる雰囲
気ガス強制循環回路中に可変分流ガイド板を設け
て、炉内に送入された雰囲気ガスの流れ方向と流
量を炉の処理物搬入口方向または出口方向へ、或
いは炉の入口と出口への両方向へ調整することを
特徴とするものである。
(ニ) 実施例 以下、本考案の実施例としてアルミニウムろう
付炉について添付図面を参照して説明する。
それぞれ断熱壁1で外殻がつくられた昇温室
A、ろう付室B、冷却室C及び強制冷却室Dは互
いに連通している。
特に図示していないが、昇温室Aと強制冷却室
Dの断熱壁1の内部は金属で被覆されている。
2はそれぞれ昇温室Aと強制冷却室D内に設け
られた金属性のバツフルケースで、ろう付室Bと
冷却室C中をその長軸に延びる金属性のマツフル
ケース7とその一端で連通し、その形状は第3図
において明らかなように断面においてマツフルケ
ース7と同様に矩形状である。
ただし、マツフルケースはその外周が完全に閉
鎖されているが、バツフルケース2はその上面と
下面に雰囲気ガスを循環するための開口を有す
る。
なお、図中では省略してあるが、ろう付室Bの
炉壁とマツフルケース7との空間には雰囲気をマ
ツフルケースを介して間接的に加熱するための加
熱手段が設けられている。この加熱手段は、前述
した如くに裸のものでよい。
また、昇温室A内に加熱手段6(この場合は、
パイプヒーター等の裸でない加熱手段である)が
設けられる。
符号3は昇温室Aと強制冷却室D内でバツフル
ケース2の上面に設けられた循環フアンである。
符号5はろう付室Bに近接して設けられた該ろう
付室Bと冷却室Cへ雰囲気ガスを供給するための
雰囲気ガス送入口である。
冷却室Cと強制冷却室Dの外殻はそれぞれ冷却
水入口8より供給され冷却水出口9から出て循環
する冷却水によつて冷却される。
11は昇温室A、ろう付室B、冷却室C、強制
冷却室Dのバツフルケースとマツフルケース中を
通つて循環する処理品の搬入と搬出用ベルトであ
る。
以上の構成において、先ず昇温室A中に入つた
処理物は急速に予備加熱され、ろう付室Bでろう
付温度に加熱されてろう付され、冷却室Cで冷却
され、更に強制冷却室で完全に冷却されて炉外に
出る。
このような加熱と冷却は雰囲気ガスによつてな
されるので、雰囲気ガスの流れは図中に符号10
で示した如くに流れなければならない。
ところが、雰囲気ガス送入口5より先ずろう付
室Bのマツフルケース7と冷却室Cのマツフルケ
ース7中に送られた雰囲気ガスは、ろう付室Bで
加熱されて膨張して雰囲気ガスの流れ10に対す
る抵抗をつくり、ややもすると雰囲気ガスは冷却
室Cと強制冷却室Dを通つて炉の出口13の方向
に多く流れる結果になる。
また、このような偏つた雰囲気ガスの流れは炉
の入口12から空気を吸引し、雰囲気ガスを汚染
することにもなる。
さらに、雰囲気ガスの炉の入口12への方向の
流れ10は、昇温室Aで阻害されることになる。
即ち、昇温室A中で処理物を雰囲気ガスを媒体と
して強制対流伝熱によつて加熱するために、昇温
室中で循環される雰囲気ガスの流れは第3図にて
10′によつて示される流れ、即ちバツフルケー
ス2の長軸方向を実質的には直角で横切る流れに
なる。
この流れ10′は符号10によつて示される雰
囲気ガスの好ましい流れの前に立ちはだかるカー
テンになつてしまう。
そこで、本考案にあつては、第3図で特に詳細
に図示される通り、昇温室Aと強制冷却室Dのバ
ツフルケースの側壁と炉内壁との間の空間に分流
ガイド板4を設ける。
この分流ガイド板4は昇温室Aと冷却室Dの長
軸方向を横切る面に延び、炉壁に取付けられた軸
4′によりその面は上記した長軸方向を横切つて
直角に起立した位置から該長軸方向と平行な位置
までの間の自由な角度に傾け得る。
分流ガイド板4が前記した直角或は垂直に起立
した位置では、該板4の面は室Aと室D中でフア
ン3によつて循環する雰囲気の流れ10′と実質
的に平行であるので、該流れ10′の流れ方向は
変らない。
しかし、この板4を傾斜せしめると、流れ1
0′の一部は該流れ10′を横切る炉の入口12の
方向に向う分流となる。従つて、炉中の雰囲気ガ
スの流れは全体として10にて示される矢印方向
に導びかれることになる。
本考案による熱処理炉中でのろう付雰囲気ガス
の状態を知るために、以下の4例においてろう付
室B内の雰囲気ガスの露点温度を測定した。
例 1 予熱室Aの温度を520℃、ろう付室の温度を610
℃とし、雰囲気ガス送入口5よりN2ガス(露点
−68℃)を50m3/hで供給した。
各分流ガイド板4を炉の長手方向を直角に横切
る面に起立した。板4は流れ10′と平行な面に
あるために、板4が存在しないと同様な状態とな
る。
ろう付室B内の雰囲気ガスの炉点温度は−38〜
−42℃であつた。これは、雰囲気ガスの流れが出
口13の方向に多いことを示している。
例 2 分流ガイド板4を傾斜せしめて、入口12と出
口13から流出する雰囲気ガスの流出量をほぼ
2:1とした。
ろう付室B内の雰囲気の露点温度は最も低くな
り、−55〜−62℃であつた。雰囲気ガスの流れが
全体として符号10で示されるようになつたこと
が分る。
例 3 上記例2と同位置に分流ガイド板4を傾斜させ
て保持した。この場合、N2ガスの供給量を35
m3/hに減じても、ろう付室B内の雰囲気の露点
は−50℃以下を維持した。比較的低い流量でN2
ガスを炉内に供給しても、分流ガイド板のために
N2ガスは円滑な流れ10をつくり得ることが分
る。
例 4 上記例3の条件で、ろう付けサンプル10台(3
Kl/1台)のろう付を行なつた。それによれば良
好なろう付製品が得られ、ろう付室B内での雰囲
気の露点は−48〜−54℃であつた。
(ホ) 考案の効果 以上の如く、本考案によれば分流ガイド板4に
よる比較的簡単な装置で、炉中の雰囲気ガスの流
れを自由に調整することができ、雰囲気の精度を
維持することができ、しかも雰囲気ガスの供給量
を減じることもできる卓越した効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案に係る熱処理炉の説明的な断面
図であり、第2図は第1図の熱処理炉の予熱室の
拡大した断面図であり、第3図は第2図の〜
に沿つた断面図である。 符号説明、A−予熱室、B−ろう付室、C−冷
却室、D−強制冷却室、1−断熱壁、2−バツフ
ルケース、3−循環フアン、4−分流ガイド板、
4′−分流ガイド板の軸、5−雰囲気ガス送入口、
6−チユーブヒーター、7−マツフルケース、8
−冷却水入口、9−冷却水出口、10−雰囲気ガ
スの流れ、10′−循環ガスの流れ、11−搬送
ベルト、12−炉入口、13−炉出口。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 処理物が通過する互いに連通した複数の室から
    なる連続雰囲気熱処理炉にして、該炉の長軸方向
    に流れる雰囲気を該長軸方向を横切る方向に循環
    せしめるための循環フアンが設けられた室内に上
    記した処理物の通過を防げない位置で板体を設
    け、該板体の面は上記した炉の長軸方向を横切つ
    て直角に交差する面と該長軸方向に平行する面と
    の間の所定の面に設定することを特徴とする熱処
    理炉。
JP9963784U 1984-07-03 1984-07-03 Expired JPH024780Y2 (ja)

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JP9963784U JPH024780Y2 (ja) 1984-07-03 1984-07-03

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JP9963784U JPH024780Y2 (ja) 1984-07-03 1984-07-03

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JPS6163363U JPS6163363U (ja) 1986-04-30
JPH024780Y2 true JPH024780Y2 (ja) 1990-02-05

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ID=30659131

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0723103Y2 (ja) * 1990-05-09 1995-05-31 和弘 今井 自動半田付け機
JP2768163B2 (ja) * 1991-10-18 1998-06-25 株式会社デンソー 非腐蝕性フラックスを用いるアルミニウムろう付け方法及び非腐蝕性フラックスを用いるアルミニウムろう付け炉

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JPS6163363U (ja) 1986-04-30

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