KR20110053403A

KR20110053403A - 워크피스들의 열처리를 위한 장치

Info

Publication number: KR20110053403A
Application number: KR1020107028649A
Authority: KR
Inventors: 리차드 크레스만
Original assignee: 에르사 게엠베하
Priority date: 2008-07-15
Filing date: 2009-05-18
Publication date: 2011-05-23
Also published as: MX2011000253A; CA2725766A1; CN102090157A; EP2301311A1; WO2010006568A1; JP2011528171A; EA201100123A1; DE102008033225B3; DE202008011595U1; IL210507A0; US20110117513A1; UA100577C2; AU2009270670A1

Abstract

본 발명은, 특히 인쇄회로기판 또는 전기 및 전자 구성요소들을 구비한 유사품과 같은, 워크피스들의 열처리를 위한 장치에 관한 것이고, 상기 장치는 가열 장치 또는 냉각 장치를 구비하는 적어도 하나의 가열 존 또는 냉각 존에 형성되거나 배열되며 워크피스들이 가열되거나 냉각되면서 운송 섹션을 따라 운송되는 공정 챔버(1)를 포함하며, 가압 가스 유체가 유입 개구들(18)을 통해 가열 존 또는 냉각 존 내로 들어갈 수 있다.

Description

워크피스들의 열처리를 위한 장치{DEVICE FOR THE HEAT TREATMENT OF WORKPIECES}

본 발명은 특허 청구항 1의 전문에 따른 워크피스들의 열처리를 위한 장치에 관한 것이다.

기술분야의 상태에서 보여지는 리플로우 솔더링(reflow soldering) 설비들로부터 알려진 바와 같이, 가열 존(zone)들 또는 냉각 존들을 구비한느 몇몇 연속하게 배열된 공정 챔버들은 개별적으로 기설정된 온도에 도달하도록 가열되고, 특히 예열 존, 리플로우 존 및 냉각 존이 다른 온도들로 납땜되도록 구성요소들이나 인쇄회로기판을 노출시키는 목적으로 제공된다. 대료 또는 송풍기(blower)를 이용하여 조절공 공기 흐름이 구성요소들을 지나 흐르게 하는 방식으로 납땜되는 구성요소들로 가열 요소의 열을 공급하는 것이 일반적이다. 인쇄회로기판들로의 열전달은 온도 및 공정 챔버 내 가스의 흐름율(flow rate)을 본질적으로 조건으로 한다. 그러한 대류 모듈들의 송풍기 모터들은 열전달율을 제어할 수 있기 위해 rpm(revolutions per minute)-조절된다. 송풍기들을 이용하는 공기 흐름의 생성은 높고 복잡한 기술을 구성하는 것으로 고려될 수 있고, 특히 높은 흐름율들의 경우에 단점(drawback)이 그러한 시스템들의 효율에 대해 고려된다.

게다가 기술분야의 상태로부터 알려진 솔더링 설비들을 위한 가열 모듈들은 중파(medium-wave) 대 장파(long-wave) 적외선 이미터(emitter)들을 특징으로 한다. 상기 예열 모듈들은 복사열전달에 의해 구성요소들을 가열한다. 그러한 가열 카세트들의 단점들은 에너지 전달의 효율에 존재한다.

게다가, 문헌 DE 202 03 599 U1은 리플로우 솔더링을 위한 장치를 개시하고, 납땜되는 구성요소 어셈블리는 가열 존을 통해 운송면을 따라 운송된다. 운송면 위에서, 노즐이 제공되고 이는 슬롯-형상 노즐 개구 및 본질적으로 구성요소 어셈블리의 폭에 대응하는 슬롯-형상 채널 단면을 가진다. 공정 가스 제트는 노즐 개구로부터 일정 거리에 놓인 변류기(deflector) 표면을 거쳐 넓어진다. 이러한 장치에서, 공정 가스는 구성요소들에 필요한 양의 열을 제공하도록 한다. 이러한 측정은 매우 큰 양의 공정 가스를 공정 챔버 내로 삽입할 필요가 있는 단점을 가진다.

기술분야의 이러한 상태로부터 시작하여, 본 발명의 목적은 워크피스들의 열처리를 위한 장치를 제공하고자 하는 것이며, 이에 의해 기술분야의 상태에서 만나게 되는 단점들은 특히 더 효율적인 열전달을 가능하게 하기 위해 극복될 수 있다.

본 발명에 따르면, 이러한 목적은 특허 청구항 1의 개시에 따른 장치에 의해 실현된다.

본 발명의 바람직한 실시예들은 종속항들의 주제들이다.

먼저, 그 자체로 알려진 방법에서, 워크피스들, 특히 인쇄회로기판들 또는 전기나 전자 구성요소들을 구비한 유사 설비들의 열처리를 위한 장치는 적어도 하나의 가열 존 또는 가열 장치나 냉각 장치를 구비하는 냉각 존이 형성되거나 배열되는 공정 챔버를 포함한다. 이를 고려하여, 워크피스들을 상기 존들을 통해 가열 또는 냉각을 하는 운송섹션을 따라 운송할 수 있다. 그러한 장치들은 바람직하게 모듈 형상을 특색으로 하며, 냉각 모듈들 및 가열 모듈들은 연속하게 배치될 수 있다. 이러한 방식으로, 다른 냉각 존들 또는 가열 존들을 따라 운송되는 구성요소는 대응되게 가열되거나 냉각될 수 있다. 다른 모듈들 내에서 우세한 온도는 온도 센서들이나 고온계를 사용하여 측정되고, 이어서 제어될 수 있다.

본 발명에 따르면, 가압 가스 유체가 유입 개구들을 거쳐 가열 존들이나 냉각 존들 내로 들어갈 수 있다. 이러한 공정에서, 가스 유체는 공정 챔버의 체적에 대해 작은 체적 흐름(volume flow)의 형태로 유입 개구들을 통해 높은 속도로 송풍되고, 유입 개구들의 영역에서, 공정 챔버 내 가스 대기를 실어간다. 이러한 크고 특히 강한 소용돌이 체적 흐름은 추가적인 대류 열저낟ㄹ의 도움으로 가열 또는 냉각 장치로부터 구성요소들로 그리고 그 반대로 특히 복사 열전달을 지지한다. 결과적으로, 그러한 장치는 대류를 이용하여 가스를 주입하는 방법에 의해 전달된 열의 양을 증가시킴으로써 열전달의 효율을 증가시킬 수 있다. 이러한 관점에서, 가장 간단한 경우, 가스 유체는 압축 가스 또는 비활성 가스 또는 유입 개구들을 거쳐 공정 챔버 내로 들어가는 다른 보통의 공정 가스들로 구성될 수 있다. 작은 체적 흐름으로 인해, 가스의 온도는 주요 관련을 가지지 않는다. 따라서, 특히 압축 공기 저장소로부터 비-예열된 압축 공기가 이용될 수 있다. 가스는 단지 챔버 내 포함된 가스를 세팅(setting)하는 목적으로 이용된다.

바람직하게, 유입 개구들은 가압 유체 소스(source)에 연결된 적어도 하나의 파이프 섹션에 배열된다. 유입 개구들은 노즐의 형상으로 형성될 수 있고 그것들의 개구들에 대응하는 흐름의 형태를 생성할 수 있다. 압축기 또는 가압 가스 병을 사용하여 유체 소스에 압력을 가하고 이용가능한 압축 공기 네트워크(network)로 유체 소스를 연결하는 것이 대표적으로 행해진다.

다른 바람직한 실시예에 따르면, 가압 유체 소스에 연결된 중공 챔버의 적어도 하나의 벽에 유입 개구들을 배열하는 것이 제공된다. 이러한 관계에서, 중공 챔버는 공정 챔버 내 임의의 위치에 배열될 수 있어서 유체는 중공 챔버의 벽들 내 또는 벽 내 유입 개구들을 거쳐 공정 챔버 내 사실상 모든 선택적 위치들에 공급될 수 있다. 그러나, 다른 구현에 따르면, 유입 개구들을 가지는, 벽이 공정 챔버의 외부 벽의 일부를 형성하는 것이 제공된다.

파이프 섹션의 배열은 기본적으로 선택적이고 들어오는 유체가 운송되어야 하는 공정 챔버의 위치에 따라 본질적으로 조건이 달라진다. 운송 섹션의 영역 내 특히 유체를 집중시키기 위해서, 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 공정 챔버 내에 배열된 다수의 파이프 섹션들이 제공되고, 이들은 운송 섹션에 실질적으로 평행하게 연장한다. 여기서, 파이프 섹션들은 연속해서 그리고/또는 나란히 배열될 수 있다.

다른 바람직한 실시예에 따르면, 워크피스들의 운송방향으로의 각도로 또는 실질적으로 가로로 파이프 섹션들을 배열하는 것이 제공된다.

이러한 관점에서, 운송된 워크피스들에는 다른 파이프 섹션들로부터, 예를 들어 공정 챔버의 다른 영역들 내의 다른 형태의 가스가 공급될 수 있다.

파이프 섹션들의 유입 개구들의 배열은 또한 기본적으로 선택적이다. 따라서, 개구들은 예를 들어 파이프 섹션들에 배열될 수 있어서 통계적으로 분포된다. 그러나, 본 발명의 예시적인 실시예에 따르면, 유입 개구들은 파이프 섹션들에 배열되어서 균일한 흐름 분포 및 균일한 대류를 보증하기 위해 연속해서 일직선으로 배치된다.

또는, 예를 들어 유입 개구들은 나란히 배열될 수 있고 그렇지 않다면 서로에 대해 각도를 가지고 오프셋(offset)될 수 있다. 따라서, 더욱 포괄적인 흐름 특징이 실현되고, 이는 가스 체적의 더 큰 흐름에 의해 공정 챔버의 큰 부분들에 도달할 수 있게 한다.

바람직하게, 개별적인 인접한 파이프 섹션들 사이의 거리는 10 mm 및 100 mm이고, 한편, 충분히 큰 가스 체적 흐름이 생성될 수 있고, 동시에, 충분한 양의 복사 열이 파이프 섹션들 사이에서 방출되도록 허용한다. 이를 위해서, 예를 들어 파이프 섹션들은 평행하게 배열된다.

바람직하게 열적으로 처리된 워크피스들로부터 파이프 섹션들의 거리는 20 mm 및 50 mm 사이이다.

다른 실시예에 따르면, 파이프 섹션들을 배열하여서 그것들 서로에 대한 거리를 조절할 수 있고/또는 처리되는 워크피스까지 그것들의 거리를 조절할 수 있게 하는 것이 제공된다. 이는 예를 들어 수동적으로-작동되거나 공정 챔버나 그와 유사한 것들 내에서 유사한 것들 내의 대기의 온도와 같은 공정 파라미터들의 기능으로서 추가적으로 제어되고 조절될 수 있는 모터-구동되는 조정 장치를 이용하여 실현될 수 있다.

다른 바람직한 구현에 따르면, 파이프 섹션들이 배열되어서 그것들의 길이방향 축 주위로 회전가능한 것이 제공된다. 이러한 방식으로, 체적 흐름의 방향은 간단한 방법으로 조정될 수 있다.

유입 개구들의 지름은 궤도 경로, 가스 압력 및 서로에 대한 유입 개구들의 거리를 특히 고려하여 정해질 것이다. 바람직하게, 지름은 2 mm 및 0.01 mm 사이이고, 특히 0.5 mm 및 0.05 mm 사이이다. 따라서, 감소된 가스 소비 및 공정 챔버의 체적에 대해 충분히 작은 유입 유체의 체적 흐름을 보증하는 것이 가능하다. 유입 가스는 공정 챔버 내 대기를 가져갈 수 있고, 결과적으로 워크피스들로 상대적으로 큰 가스 흐름을 야기할 수 있다. 제안된 작은 지름들은 유입 가스가 감소된 가스 소비에 놓인 높은 흐름율들에 도달할 수 있게 한다. 이러한 공정에서, 가스 흐름은 챔버 내로 어떤 열도 들어가지 않게 하지만, 공정 챔버 내에서 우세한 가열된 공정 가스 대기로부터 워크피스로 열전달을 지지한다. 따라서, 대류 열전달은 복사 열전달에 더하여 수행될 수 있다.

상대적인 인접한 유입 개구들 사이의 거리는 바람직하게 5 mm 및 100 mm 사이이다.

다른 바람직한 예시적인 실시예에 따르면, 공정 챔버 및 가압 유체 사이의 압력차가 1 bar 및 50 bar 사이인 것이 제공된다. 따라서, 높은 흐름율들이 공정 챔버 내로 유입 개구들을 거쳐 생성될 수 있고, 높은 소용돌이 정도에 대한 기초를 형성하고, 워크피스들 상으로 큰 효과적인 체적 흐름이 처리되고 다라서 높은 대류 에너지 전달이 일어난다. 이러한 압력 영역은 추가적으로 높은 유입 깊이를 가능하게 하고 그것의 변화를 가능하게 한다.

가열 장치 또는 냉각 장치의 형태는 본 발명의 본질과는 관계 없다. 그러나, 예시적인 실시예에 따르면, 가열 장치 또는 냉각 장치는 적어도 하나의 패널 가열 요소 또는 패널 냉각 요소를 구비하고, 파이프 섹션들은 워크피스 및 패널 가열 요소 또는 패널 냉각 요소 사이에 배열된다. 여기서, 가장 간단한 경우, 공정 챔버의 벽 영역은 또한 패널 가열 요소로 기능할 수 있고 외부로부터 대응되게 가열되거나 그렇지 않으면 적외선 가열 요소를 구비할 수 있다.

다른 실시예에 따르면, 가열 장치 또는 냉각 장치는 적어도 하나의 로드(rod)-형상 또는 튜브형 가열 요소 또는 냉각 요소를 특색으로 한다. 가장 간단한 경우, 이러한 요소들은 과열된 스팀, 뜨거운 물 또는 그것들을 통해 흐르는 냉각 매체를 구비하는 파이프들일 수 있다. 여기서, 가열 요소 또는 냉각 요소들은 파이프 섹션들 사이에, 파이프 섹션들 및 처리되는 워크피스들 사이에, 또는 그렇지 않으면 파이프 섹션들 및 공정 챔버의 벽 사이에 배열될 수 있다.

이하에서, 본 발명의 장치는 오직 바람직한 실시예들을 설명하는 도면을 참조하여 더 상세히 설명될 수 있다.

본 명세서 내에 포함되어 있음.

도 1은 위와 아래에 배열되고 나란히 배열된 파이프 섹션들을 구비하고, 가열 요소 또는 냉각 요소들을 구비하는 공정 챔버를 도시한다;
도 2는 위와 아래에 배열되고 나란히 배열되는 파이프 섹션들을 가지고, 가열 요소들 또는 운송면으로 변할 수 있는 거리에 배치된 냉각 요소들을 구비하는 공정 챔버를 도시한다;
도 3은 위와 아래에 배열되고 나란히 배열된 파이프 섹션들을 구비하고, 가열 요소들 또는 냉각 요소들을 구비하는 공정 챔버를 도시하고, 가열 요소들은 반사 요소로 인해 부분적으로 가려진다;
도 4는 몇몇 흐름 개구들이 제공되는 패널 가열 요소를 구비하는 공정 챔버를 도시한다;
도 5는 두 개의 흐름 개구들을 구비하는 파이프 섹션의 절단면을 도시한다;
도 6은 하나의 유입 개구그 구비하는 파이프 섹션의 절단면을 도시한다;
도 7은 파이프 섹션들 및 가열 장치 또는 냉각 장치로 구성된 레지스터를 구비한 모듈을 도시한다;
도 8은 도 7에 설명된 모듈의 파이프 섹션들 및 가열 요소들 또는 냉각 요소들로 구성된 레지스터의 배열의 단면도를 도시한다;
도 9는 운송 섹션의 방향 내 파이프 섹션들의 배열을 도시한다;
도 10은 운송 방향의 방향에 수직한 파이프 섹션들의 배열을 도시한다; 그리고
도 11은 운송 섹션을 따라 몇몇 파이프 섹션들 및 가열 요소들 또는 냉각 요소들의 배열을 도시한다.

도 1에 도시된 공정 챔버는, 운송 유니트(2)가 제2 챔버 개구(4)를 거쳐 공정 챔버를 나갈 때까지 공정 챔버(1) 내로 들어가는, 운송 유니트(2)에 의해 중심에서 가로질러진다. 공정 챔버(1) 내에서, 가스 흐름(6)이 챔버 축으로 흐르는, 파이프 섹션들(5)이 위와 아래에 각각 제공되어서 서로 대향된다. 파이프 섹션(5)에 더해서, 만곡된 벡터에 의해 분명해지는, 가열 복사(8)가 챔버의 중심을 향해 동일하게 방출되는, 개별적으로 하나의 가열 요소를 교대로 배열하는 것이 제공된다. 열 방출 요소들(7) 및 파이프 섹션들(5)의 교대 배열은 구성요소로의 열전달 효율을 향상시킨다. 이러한 구성요소는 운송 유니트(2)를 이용하여 공정 챔버(1)를 통해 운송 섹션을 따라 운송되고 가스 플로우(6)에 의해 가열되며, 이는 공정 챔버 내 열-방출 요소들에 의해 가열된 표면들 또는 열-방출 요소들(7)과 접촉하는 것을 통해 가열된다.

도 2는 운송 유니트(2)의 운송 섹션에 대한 가열 요소들(7) 및 유입 개구들(5)의 가변 배열을 분명해 해준다. 이러한 목적을 위해서, 공정 챔버(1)는 제2 챔버 개구(3)로부터 제2 챔버 개구(4)로 운송 유니트(2)에 의해 이동되고, 제1 섹션, 유입 개구들(5) 및 가열 요소들(7)은 운송 섹션에 가깝게 있는 제2 위치(9) 내에 배열되고, 다른 섹션에서, 유입 개구들(5) 및 가열 요소들(7)은 운송 섹션에 대해 큰 거리에 위치하는 제2 위치(10) 내에 배열된다. 가열 요소(7) 및 파이프 섹션들(5)의 측면 거리가 또한 변화가능하다는 것이 분명하며, 이는 두 개의 파이프 섹션들(5) 사이의 거리가 제1 폭(11) 및 제2 폭(12)을 가지기 때문이다.

도 3은 열 복사(8)를 조종하는 다른 선택을 도시한다. 이를 위해서, 제1 챔버 개구(3)로부터 제2 챔버 개구(4)로 운송 유니트(2)에 의해 가로질러지는 공정 챔버(1) 내에서, 가열 요소(7)는 각각의 입구 요소(5)에 인접하게 교대로 배치된다. 게다가, 반사 요소들(13)이 가열 요소들(7) 및 운송 유니트(2)의 운송 섹션 사이에 위치하게 제공되고 이러한 방식으로 가열 요소들(7)에 의해 방출되는 열 복사(8)를 옆으로 반사하고, 큰 양의 열 복사(8)가 파이프 섹션들(5) 및 그 안에 배열된 유입 개구들에 직접 도달하게 한다. 이러한 방식으로, 가스 흐름(6)은 효율적으로 가열되고 이러한 흡수된 양의 열을 운송 유니트(2) 및 그 위에 배열된 구성요소로 이동시킬 수 있게 한다.

도 4는 흐름의 변화를 가진 가스 흐름(6)을 가열하기 위한 다른 선택을 도시한다. 이러한 목적을 위해, 패널 가열 요소(14)가 공정 챔버(1)의 벽에 운송 유니트(2)의 운송 섹션의 방향과 평행하게 공정 챔버(1)에 배열되고, 상기 패널 가열 요소(14)는 공정 챔버(1) 내로 열 복사를 균일하게 방출한다. 유입 개구들(5)은 운송 유니트(2)로 패널 가열 요소(14)에 의해 방출된 양의 열을 이동시키기 위해 패널 가열 요소(14)의 앞에 제공된다. 파이프 섹션(5)으로부터 흐르는 가스(6) 제트는 제1 부분 제트(15)와 제2 부분 제트(16)로 분리되고, 가스 흐름을 더 넓게 분배하여서 커진 체적 흐름이 구현될 수 있게 한다.

도 5는 유입 개구(18) 및 인접하게 배열된 다른 유입 개구(19)를 구비하는 파이프 섹션(5)의 단면을 도시한다. 이러한 방식으로, 가스 흐름은 제1 부분 제프(15) 및 제2 부분 제트(16)로 분리된다. 이러한 분리된 공정 가스 제트의 형상은 예를 들어 또한 도 4에 도시된다. 외부 지름(20) 및 내부 지름(21)은 파이프 섹션에 대해 모호하지 않은 파라미터들을 나타내고, 왜냐하면 이러한 파라미터들로, 고정되게 설정된 가스 압력의 경우에, 흐름율 또는 가스 형태는 조종될 수 있다.

도 6은, 제1 부분 제트(17)만을 생성하는, 오직 하나의 유입 개구(18)를 구비하는 파이프 섹션(5)의 단면을 도시한다. 이는 특히 특정 위치에서 생성되는 흐름에 유리하다.

도 7은 발명 모듈을 도시하며, 가압된 유체 소스(22)가 다섯 개의 파이프 섹션들(2)로 구성된 파이프 레지스터(register)에 연결된다. 가스 유체는 각각의 파이프 섹션(5) 밖으로 흐른다. 게다가, 가열 코일이 가열 요소(7)로 도시되어 있고 파이프 레지스터의 표면 위로 본질적으로 연장한다. 도시된 가압된 유체 소스(22)는 모듈 내에서 다른 파이프 섹션들(5) 내 가스 압력의 균일한 분배를 구현할 수 있게 한다.

도 8은 도 7에 도시된 모듈의 단면을 도시하고, 제2 부분 제트(15) 및 제2 부분 제트(16)는 파이프 섹션(5) 밖으로 흐르고 가열 요소들(7)에 의해 방출된 열에 의해 가열된다. 게다가, 반사 요소들(13)이 제공되고, 이는 열이 효율적으로 파이프 섹션들(5)로 이동하게 한다.

도 9 및 10은 운송 유니트(2)의 운송 섹션(23)의 방향에 대해 파이프 섹션들(5)의 배열을 도시한다. 도 9는 운송 유니트(2)의 운송 섹션(23)의 방향에 평행하게 파이프 섹션들(5)의 배열을 대응되게 도시한다. 유입 개구들(5)의 배열은 운송 섹션(23)의 방향에 가로인 직각에서 대응되게 도시된다.

도 11은 도 7에 기술된 바와 같이 나란히 배열된 몇몇 가열 모듈들 또는 냉각 모듈들을 구비하는 솔더링 장치의 디자인을 도시한다. 이러한 목적을 위해서, 공정 챔버(1)는 가열 코일의 형태로 파이프 섹션들(5) 및 가열 요소(7)로 구성된 레지스터를 각각 특징으로 하는 8개의 모듈을로 구성된다. 이러한 모듈들은 연결 요소(24)를 통해 가압된 유체 소스로 연결될 수 있고 연결기(25)를 통해 가열 장치에 연결될 수 있다.

본 발명의 구현이 도 1 내지 11에 기술된 예시적인 실시예로 한정되지 않으며 다수의 변형들이 또한 이루어질 수 있음에 유의해야 한다. 특히, 가열 요소들 및 냉각 요소들의 형태와 배열뿐만 아니라 운송 유니트의 배열 및 공정 챔버의 형태는 설명된 장치들과 다를 수 있다.

그러므로, 본 발명은 솔더링 장치들 내 가열 운송의 효율의 향상에 상당히 기여하며, 왜냐하면 열 복사에 더하여 전달된 열의 양은 가열된 유체 흐름에 의해 증가되기 때문이다.

1 : 공정 챔버
2 : 운송 유니트
3 : 제1 챔버 개구
4 : 제2 챔버 개구
5 : 파이프 섹션
6 : 가스 흐름
7 : 가열 요소
8 : 열 복사
9 : 제1 위치
10 : 제2 위치
11 : 제1 폭
12 : 제2 폭
13 : 반사 요소
14 : 패널 가열 요소
15 : 제1 부분 제트
16 : 제2 부분 제트
17 : 간단한 제트
18 : 유입 개구
19 : 다른 유입 개구
20 : 외부 지름
21 : 내부 지름
22 : 가압 유체 소스
23 : 운송 방향
24 : 가압 유체 소스로의 연결기
25 : 가열 장치로의 연결기

Claims

특히 인쇄회로기판이나 전기 및 전자 구성요소들을 구비한 유사품인, 워크피스들의 열처리를 위한 장치에 있어서,
상기 장치는 가열 장치 또는 냉각 장치를 구비하는 적어도 하나의 가열 존 또는 냉각 존이 형성되거나 배열되고 워크피스들이 가열되거나 냉각되면서 운송 섹션을 따라 운송되는 공정 챔버(1)를 포함하고,
가압된 가스 유체가 유입 개구들(18)을 통해 가열 존 또는 냉각 존 안으로 들어갈 수 있는 워크피스들의 열처리를 위한 장치.
제1항에 있어서,
상기 유입 개구들(18)은 가압 유체 소스(22)에 연결된 적어도 하나의 파이프 섹션(5)에 배열되는 것을 특징으로 하는 장치.
제1항에 있어서,
상기 유입 개구들(18)은 가압 유체 소스(22)에 연결된 중공 챔버의 적어도 하나의 벽에 배열되는 것을 특징으로 하는 장치.
제3항에 있어서,
상기 벽은 공정 챔버(1)의 외부 벽의 부분을 형성하는 것을 특징으로 하는 장치.
제2항에 있어서,
다수의 파이프 섹션들(5)이 공정 챔버(1) 내에 배열되고 워크피스들의 운송 방향(23)에 실질적으로 평행하게 연장하는 것을 특징으로 하는 장치.
제2항에 있어서,
다수의 파이프 섹션들(5)은 공정 챔버(1) 내에 배열되고 워크피스들의 운송 방향(23)에 실질적으로 가로로 또는 각도를 두고 연장하는 것을 특징으로 하는 장치.
제2항, 제5항 또는 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유입 개구들(18)은 파이프 섹션들(5)에 배열되어서 연속해서 직선상에 배치되고 서로 이격되는 것을 특징으로 하는 장치.
제2항, 제5항 또는 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유입 개구들(18)은 나란히 파이프 섹션들(5)에 배열되거나 서로에 대해 각도를 두고 오프셋되는 것을 특징으로 하는 장치.
제5항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
각각의 인접한 파이프 섹션들(5) 사이의 거리는 10 mm 및 100 mm 사이인 것을 특징으로 하는 장치.
제5항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
처리된 워크피스들로부터 파이프 섹션들(5)의 거리는 20 mm 및 50 mm 사이인 것을 특징으로 하는 장치.
제5항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
파이프 섹션들(5)은 서로에 대한 그것들의 거리 내에서 그리고/또는 처리된 워크피스들로부터 그것들의 거리 내에서 조정될 수 있는 것을 특징으로 하는 장치.
제5항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
파이프 섹션들(5)은 그것들의 길이방향 축 주위로 회전될 수 있는 것을 특징으로 하는 장치.
제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
유입 개구들(18)의 지름은 2 mm 및 0.01mm 사이이고, 특히 0.5 mm 및 0.05 mm 사이인 것을 특징으로 하는 장치.
제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
개별적인 인접하는 유입 개구들(18) 사이의 거리는 5 mm 및 100 mm 사이인 것을 특징으로 하는 장치.
제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,
공정 챔버(1) 및 가압 유체(22) 사이의 압력차는 1 bar 및 50 bar 사이인 것을 특징으로 하는 장치.
제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,
가열 장치 또는 냉각 장치는, 처리된 워크피스들에 대향되는 파이프 섹션들(5)의 측면 상에 배열되는, 적어도 하나의 패널 가열 요소 또는 패널 냉각 요소(14)를 구비하는 것을 특징으로 하는 장치.
제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,
가열 장치 또는 냉각 장치는, 파이프 섹션들(5) 및 처리되는 워크피스들 사이 또는 인접한 파이프 섹션들(5) 사이에서, 처리되는 워크피스들에 대향하는 파이프 섹션들(5)의 측면 상에 배열되는, 적어도 하나의 로드-형상 또는 튜브형 가열 요소 또는 냉각 요소(7)를 구비하는 것을 특징으로 하는 장치.