JPH0247540B2 - - Google Patents

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JPH0247540B2
JPH0247540B2 JP59192332A JP19233284A JPH0247540B2 JP H0247540 B2 JPH0247540 B2 JP H0247540B2 JP 59192332 A JP59192332 A JP 59192332A JP 19233284 A JP19233284 A JP 19233284A JP H0247540 B2 JPH0247540 B2 JP H0247540B2
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Atsuo Ito
Hideyo Iida
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Taiyo Yuden Co Ltd
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Taiyo Yuden Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 この発明は、霧化した原料溶液を加熱された基
板に吹き付け、その表面にSnO2，In2O3，TiO2，
SiO2等の薄膜を作製する装置において、基板に
霧状の原料溶液を吹き付けるのに使用されるノズ
ルに関する。 〔従来の技術〕 この種の霧化薄膜作製装置の構成を第５図によ
り説明すると、反応室１の中に表面（薄膜を作製
する側の面をいう、以下同じ）を下方へ向けて基
板２，２…が設置され、これらが背面側からヒー
タ３によつて400〜500℃に加熱される。図示の場
合、これら基板２，２…は、図中右から左側へと
送られていく。基板２，２…の下位には、霧化器
４と給気器５が備えられ、霧化器４に連結された
ノズル６が基板２，２…へ向けて設置されてい
る。 原料溶液には、Sn，In等の塩化物溶液が使用
され、これが霧化器４において霧化され、給気器
５に備えたフアン９によつてノズル６から基板
２，２…の表面に緩やかに吹き付けられる。霧状
の原料溶液は、その一部が基板２，２…の表面付
近で加熱されることによつて脱水されると共に気
化され、かつ空気中の酸素や水蒸気と反応して基
板２，２…の表面にSn，Inの酸化物等からなる
薄膜が作製される。 従来における霧化薄膜作製装置では、第５図で
示すようなノズル６が使用されている。このノズ
ル６は、霧化器４側に連結された導管１１の先端
に漏斗状のノズルヘツド１２が連結されたもの
で、同ヘツド１２の先端が基板２，２…より幅の
広い矩形の吐出口１０となつている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところが、上記ノズル６において、導管１１の
流路面積に比べて吐出口１０の開口面積が広い場
合は、同吐出口１０から吐出される霧の流速が導
管１１の延長部で特に速くなり、これから離れる
に従つて次第に遅くなるというように、その流れ
に不均一な状態が生じる。そうすると、基板２，
２…の表面に作製される薄膜にも、この流速に対
応した膜厚等の不均一が生じ、均一な状態の薄膜
が作製されにくいという問題を生じる。 この発明は、従来のノズル６における上記の問
題を解消すべくなされたものであつて、ノズル６
の吐出口１０からほゞ均一に霧が吐出されるよう
になし、これによつて基板２，２…に均一な状態
の薄膜が形成されるようにしたものである。 〔問題を解決するための手段〕 以下、この発明の構成を第１図〜第３図で示し
た各実施例に基づき、説明すると、この発明は、
ノズルヘツド１２への導管１１から霧が導入され
る導入口１３と吐出口１０との間に、多数の通孔
を有する霧拡散用のフイルタ１４を設けたもので
ある。 このフイルタ１４としては、多数の通孔を有す
る多孔質体が使用されるが、第１図では、通孔の
方向が不規則な海綿状のものが使用されている。
これに対して、第２図のものでは、細いガラス管
を多数束ねたもの、薄い板を細かく格子状に組ん
だもの、あるいはハニカム状に組んだもの等、通
孔が一定の方向性を持つた多孔質体からなつてい
る。さらに第３図では、通孔の方向が不規則な多
孔質体と、通孔が方向性を持つた多孔質体とを重
ね合わせ、後者を吐出口１０側に配置したもので
ある。 〔作用〕 導管１１からノズル６へと送られた霧は、導管
１１に比べて流路断面積が広いノズルヘツド１２
において流速が低下し、一旦フイルタ１４の手前
で停滞し、そこに充満する。しかる後、これがフ
イルタ１４の通孔１１から吐出口１０へと流れ出
るため、霧が同吐出口１０から均一な状態で緩や
かに吐出される。これによつて基板２，２…の表
面にはノズルヘツド１２の幅方向に沿つてほゞ均
一な量の原料溶液が供給され、均一な厚さの薄膜
が作製される。 なお、方向性の無い通孔を持つ第１図で示すよ
うなフイルタ１４は、一般に霧の拡散作用が高い
反面、霧の流量抵抗が高く、吐出口１０から吐出
される霧の方向性が一定しないという特性を持
つ。これに対して、通孔が方向性を持つた第２図
で示すようなフイルタ１４では、一般に霧の拡散
作用が比較的低いが、逆に流量抵抗が低く、吐出
される霧の方向性も揃つているという特質を有す
る。さらに、これらを２層に重ね合わせた第３図
で示すようなフイルタ１４では、これらの特質を
併せ持つた中間的な性質を有し、特に後者の方向
性を持つた通孔を有する層を吐出口１０側に配置
した第３図のものでは、吐出された霧の方向性が
良く揃つており、均一な薄膜を作製しやすい。 〔実施例〕 次ぎにこの発明の実施例と比較例について説明
する。 実施例 １ 四塩化錫（五水塩）を25g、三酸化アンチモン
1g、塩酸５mlを純水150c.c.に順次溶解して原料溶
液を作り、霧化器４に入れた。 基板２，２…は、厚さ1.0mm、縦横100mmのガラ
ス基板を用い、これを背面側からヒータ３によつ
て加熱した。このときの基板２，２…の表面温度
は約400℃であつた。 ノズル６には、幅120mm、縦20mmの吐出口１０
を有するものを使用し、このノズルヘツド１２に
２〜3φの表裏に貫通する多数の通孔を有する厚
さ20mmのコージライト多孔質磁器（空隙率85％）
製のフイルタ１４を設けた。 基板２，２…を第５図において右から左へと毎
分15mmの速度で送ると共に、霧化器４で毎分１ml
の原料液を霧化し、これを上記ノズル６から基板
２，２…に緩やかに吹き付け、その表面に酸化錫
の薄膜を作製した。 薄膜が作製された基板２，２…の内、一枚を試
料１とし、この表面の第６図においてＡ〜Ｅで示
した各点の膜厚をそれぞれ測定し、その最大値と
最少値の差δmaxを別表に示した。 実施例 ２ 上記実施例１と同じノズル６に、フイルタ１４
として内径2φ、外形3φ、長さ30mmの多数のガラ
ス管を束ねた多孔質体を取り付け、同実施例と同
様にして基板２，２…の表面に薄膜を作製した。 そして同様に一枚の基板２を試料２とし、第６
図で示すＡ〜Ｅの各点で測定した膜厚の最大と最
少の差δmaxを別表に示した。 実施例 ３ 上記実施例１と同じノズル６に、フイルタ１４
として同実施例で使用されたものと同じコージラ
イト多孔質磁器に、一辺が５mmの多数の規則正し
い通孔を有する厚さ70mmのハニカム構造の多孔質
体を重ねたものを、後者が吐出口１０側になるよ
う取り付け、同実施例と同様にして基板２，２…
の表面に薄膜を作製した。 そして同様に一枚の基板２を試料３とし、第６
図で示すＡ〜Ｅの各点で測定した膜厚の最大と最
少の差δmaxを別表に示した。
〔発明の効果〕
以上説明した通り、この発明によればノズル６
の吐出口１０から均一に霧化された原料液を吐出
させることができるため、基板２，２…の表面に
均一な状態の薄膜を作製することができるように
なる。
【図面の簡単な説明】
第１図〜第３図は、この発明の各実施態様を示
すノズルの一部切欠の斜視図、第４図は、ノズル
の従来例を示す一部切欠の斜視図、第５図は、霧
化薄膜作製装置の概略を示す説明図、第６図は、
この発明の実施例における膜厚測定位置を示す基
板の表面図である。 ２……基板、４……霧化器、５……給気器、６
……ノズル、１０……吐出口、１１……導管、１
２……ノズルヘツド、１３……導入口、１４……
フイルタ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 原料溶液を霧化する霧化器と、霧状の原料溶
    液をノズルへ送る給気器を備え、基板を表面が下
    方へ向くよう設置し、同基板へ向けてその下位に
    ノズルを設置し、基板を加熱しながらノズルから
    霧化された原料溶液を同基板の表面に緩やかに吹
    き付け、同表面に薄膜を作製する装置において、
    霧化器から導管を通つて先広がり状のノズルヘツ
    ドへ霧が導入される導入口と、同ノズルヘツドの
    吐出口との間に、多数の細かい通孔を有する霧拡
    散用のフイルタを設けたことを特徴とする霧化薄
    膜作製装置用ノズル。 ２ フイルタが方向性の不規則な多数の通孔を有
    する多孔質体からなる特許請求の範囲第１項記載
    の霧化薄膜作製装置用ノズル。 ３ フイルタが霧を吐出する方向に並んだ多数の
    通孔を有する多孔質体からなる特許請求の範囲第
    １項記載の霧化薄膜作製装置用ノズル。 ４ フイルタが方向性の不規則な多数の通孔を有
    する多孔質体と、霧を吐出する方向に並んだ多数
    の通孔を有する多孔質体との２層体からなり、後
    者の多孔質体がノズルヘツドの吐出口側に設けら
    れている特許請求の範囲第１項記載の霧化薄膜作
    製装置用ノズル。
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FR8513281A FR2569999B1 (fr) 1984-09-13 1985-09-06 Ajutage pour emploi dans un dispositif de formation de fines pellicules
AU47383/85A AU572345B2 (en) 1984-09-13 1985-09-11 Thin film forming device

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AU572345B2 (en) 1988-05-05
FR2569999A1 (fr) 1986-03-14
FR2569999B1 (fr) 1988-01-08
AU4738385A (en) 1986-03-20
JPS6169961A (ja) 1986-04-10

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