JPH0246986A - レーザマーカ - Google Patents
レーザマーカInfo
- Publication number
- JPH0246986A JPH0246986A JP63194431A JP19443188A JPH0246986A JP H0246986 A JPH0246986 A JP H0246986A JP 63194431 A JP63194431 A JP 63194431A JP 19443188 A JP19443188 A JP 19443188A JP H0246986 A JPH0246986 A JP H0246986A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- laser light
- light
- beam splitter
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- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 230000010287 polarization Effects 0.000 abstract description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ光を用いて印字するレーザマーキング装
置に関する。
置に関する。
レーザ光をスキャンさせ、印字対象ワークにマーキング
する方法は、特開昭５９−４５０９１号公報に記載され
ている方法が公知であるが、これを第４図に示す。第４
図において、レーザ発振器１より出たレーザ光はスキャ
ナミラー３ａ、３ｂにより偏向され、スキャンレンズ５
を経て、印字対象ワーク６へ照射される。マーキングコ
ントローラ８よりの文字情報をコントローラ７により、
スキャナ２ａ、２ｂの制御信号に変換して、印字する。
する方法は、特開昭５９−４５０９１号公報に記載され
ている方法が公知であるが、これを第４図に示す。第４
図において、レーザ発振器１より出たレーザ光はスキャ
ナミラー３ａ、３ｂにより偏向され、スキャンレンズ５
を経て、印字対象ワーク６へ照射される。マーキングコ
ントローラ８よりの文字情報をコントローラ７により、
スキャナ２ａ、２ｂの制御信号に変換して、印字する。
上記従来技術には以下に示すような欠点がある３すなわ
ち、オプティカルスキャナ、又は、その制御装置が故障
した場合、レーザ光は、所定の文字を印字しないばかり
か、印字対象ワーク上のマーキング指定範囲外ヘレーザ
光を照射してしまう。
ち、オプティカルスキャナ、又は、その制御装置が故障
した場合、レーザ光は、所定の文字を印字しないばかり
か、印字対象ワーク上のマーキング指定範囲外ヘレーザ
光を照射してしまう。
このことは、印字対象ワークが、ＬＳＩや磁気ディスク
の場合は重要な問題となる。すなわち、上記の物では、
マーキング範囲として使えるのは数ｍ角であり、それ以
外は配線パターンや磁気記録箇所となっている。それ故
、指定マーキング範囲外へレーザ光が照射されると印字
対象ワークを破壊してしまうこになる。
の場合は重要な問題となる。すなわち、上記の物では、
マーキング範囲として使えるのは数ｍ角であり、それ以
外は配線パターンや磁気記録箇所となっている。それ故
、指定マーキング範囲外へレーザ光が照射されると印字
対象ワークを破壊してしまうこになる。
本発明の目的は、オプティカルスキャナ、又は、その制
御装置が故障した場合でも、マーキング指定範囲外ヘレ
ーザ光が照射されるのを防ぎ、かつ。
御装置が故障した場合でも、マーキング指定範囲外ヘレ
ーザ光が照射されるのを防ぎ、かつ。
自動的にその故障状態を検出する装置を提供することに
ある。
ある。
上記目的は、第一の手段としてオプティカルスキャナと
印字対象ワークの間に、マーキング範囲外に相当する箇
所を遮光する遮光マスクを設けることにより達成される
。
印字対象ワークの間に、マーキング範囲外に相当する箇
所を遮光する遮光マスクを設けることにより達成される
。
また、第二の手段として、第一の手段の遮光マスクを液
晶とし、液晶の出側に偏光されたレーザ光を分離するビ
ームスプリッタを設けることにより達成される。
晶とし、液晶の出側に偏光されたレーザ光を分離するビ
ームスプリッタを設けることにより達成される。
すなわち、第二の手段では、液晶遮光マスクで。
マーキング範囲に相当する箇所に電圧を印加する。
マーキング範囲を通過するレーザ光の偏光面は、そのま
まであるが、マーキング範囲外（電圧が印加されない箇
所）を通過したレーザ光は偏光面が９０’回転する。偏
光面が違うレーザ光はビームスプリッタにより分離され
、マーキング範囲を通過したレーザ光のみが印字対象ワ
ークへ照射される。ビームスプリッタで分離されたマー
キング範囲外を通過したレーザ光はフォトセンサへ導か
れ、マーキング範囲外へのレーザ照射防止、及び、故障
検出が可能となる。
まであるが、マーキング範囲外（電圧が印加されない箇
所）を通過したレーザ光は偏光面が９０’回転する。偏
光面が違うレーザ光はビームスプリッタにより分離され
、マーキング範囲を通過したレーザ光のみが印字対象ワ
ークへ照射される。ビームスプリッタで分離されたマー
キング範囲外を通過したレーザ光はフォトセンサへ導か
れ、マーキング範囲外へのレーザ照射防止、及び、故障
検出が可能となる。
以下、本発明の実施例を第１図ないし第３図を用いて説
明する。
明する。
第１図で１はレーザ発振器、２ａ、２ｂはレーザ発振器
１より出射されるレーザ光をＸ、Ｙに偏向させるオプテ
ィカルスキャナ（略して、スキャナ）で、その回転軸に
はスキャナミラー３ａ、３ｂが付けられている。４は、
遮光マスクで、レーザ光に対して吸収率の高い金属、あ
るいは、セラミック等より作られている。この遮光マス
クには、マーキング範囲に相当する箇所に開口が設けら
れており、この開口部のみレーザ光が透過できる。
１より出射されるレーザ光をＸ、Ｙに偏向させるオプテ
ィカルスキャナ（略して、スキャナ）で、その回転軸に
はスキャナミラー３ａ、３ｂが付けられている。４は、
遮光マスクで、レーザ光に対して吸収率の高い金属、あ
るいは、セラミック等より作られている。この遮光マス
クには、マーキング範囲に相当する箇所に開口が設けら
れており、この開口部のみレーザ光が透過できる。
５は遮光マスク４を透過したレーザ光を、印字対象ワー
ク６上へ集光させるためのスキャンレンズである。７は
スキャナ２ａ、２ｂ、レーザ発振器１を制御するための
コントローラ、８はコントローラ７へ印字文字情報を出
力するマーキングコントローラである。９は印字文字情
報を表示するための表示装置である。
ク６上へ集光させるためのスキャンレンズである。７は
スキャナ２ａ、２ｂ、レーザ発振器１を制御するための
コントローラ、８はコントローラ７へ印字文字情報を出
力するマーキングコントローラである。９は印字文字情
報を表示するための表示装置である。
スキャナ、又は、コントローラが故障した場合、レーザ
光は遮光マスク４のマーキング範囲外ヘスキャンされる
場合が生じる。この場合でも、レーザ光は遮光マスク４
により吸収されてしまうため、印字対象ワーク６のマー
キング範囲外ヘレーザ照射されることを防止できる。
光は遮光マスク４のマーキング範囲外ヘスキャンされる
場合が生じる。この場合でも、レーザ光は遮光マスク４
により吸収されてしまうため、印字対象ワーク６のマー
キング範囲外ヘレーザ照射されることを防止できる。
第一の実施例では、マーキング範囲が変更になった場合
、遮光マスクをその都度、交換しなくてはならない。マ
ーキング範囲の変更に容易に対応できるようにした実施
例が第２図である。第２図の実施例で、第１図と異なる
箇所は遮光マスク４を液晶としたこと、この液晶駆動用
のドライバ１１、レーザ光分離用のビームスプリッタ１
０を設けたことのみで他は、同一構成である。
、遮光マスクをその都度、交換しなくてはならない。マ
ーキング範囲の変更に容易に対応できるようにした実施
例が第２図である。第２図の実施例で、第１図と異なる
箇所は遮光マスク４を液晶としたこと、この液晶駆動用
のドライバ１１、レーザ光分離用のビームスプリッタ１
０を設けたことのみで他は、同一構成である。
第３図は第２＠の詳細図で、ビームスプリッタ１ｏで反
射されたレーザ光を集光するための集光レンズ１２、そ
のレーザ光を検知するフォトセンサ１３が、第２図に付
加されている。
射されたレーザ光を集光するための集光レンズ１２、そ
のレーザ光を検知するフォトセンサ１３が、第２図に付
加されている。
第３図を用いて以下、動作を説明する。
スキャナ、又は、コントローラが故障し、レーザ光が液
晶遮光マスクのマーキング範囲外（図中のハツチング部
）へ照射した場合、マーキング範囲外に相当する箇所に
は電圧がかかつていないため、レーザ光の偏光面は９０
°回転する。このレーザ光１４ａ、ｂはスキャンレンズ
透過後、ビームスプリッタ１０により反射され、集光レ
ンズ１２を経て、フォトセンサ１３へ導かれる。一方、
スキャナが正常時は液晶遮光マスクのマーキング範囲内
（この部分には電圧が印加されている。）にレーザが照
射され、レーザの偏光面は変化せず、スキャンレンズ、
ビームスプリッタを透過して、印字対象ワーク上ヘレー
ザが到達する。
晶遮光マスクのマーキング範囲外（図中のハツチング部
）へ照射した場合、マーキング範囲外に相当する箇所に
は電圧がかかつていないため、レーザ光の偏光面は９０
°回転する。このレーザ光１４ａ、ｂはスキャンレンズ
透過後、ビームスプリッタ１０により反射され、集光レ
ンズ１２を経て、フォトセンサ１３へ導かれる。一方、
スキャナが正常時は液晶遮光マスクのマーキング範囲内
（この部分には電圧が印加されている。）にレーザが照
射され、レーザの偏光面は変化せず、スキャンレンズ、
ビームスプリッタを透過して、印字対象ワーク上ヘレー
ザが到達する。
このようにして、マーキング範囲外ヘレーザ光が照射さ
れるのを防ぎ、かつ、スキャナ故障時は、その異常偏向
光をフォトセンサで検知することにより、故障を検出す
ることができる。また、マーキング範囲の変更時は、液
晶の電圧印加範囲の設定替えにより容易に対応できる。
れるのを防ぎ、かつ、スキャナ故障時は、その異常偏向
光をフォトセンサで検知することにより、故障を検出す
ることができる。また、マーキング範囲の変更時は、液
晶の電圧印加範囲の設定替えにより容易に対応できる。
本発明によれば、オプティカルスキャナ、又は、その制
御装置が故障した場合でも、マーキング指定範囲ヘレー
ザ光が照射されるのを防ぎ、かつ、その故障検出が可能
となったため、超ＬＳＩや高密度磁気ティスフへのレー
ザマーキング装置適用が可能となる。
御装置が故障した場合でも、マーキング指定範囲ヘレー
ザ光が照射されるのを防ぎ、かつ、その故障検出が可能
となったため、超ＬＳＩや高密度磁気ティスフへのレー
ザマーキング装置適用が可能となる。
第１図は、本発明の一実施例の固定形遮光マスク法を示
す系統図、第２図、第３図は、本発明による液晶形遮光
マスク法を示す系統図、第４図は従来技術を示す系統図
である。 １・・・レーザ発振器、２ａ、ｂ・・・スキャナ、４・
・・遮光マスク、５・・・スキャンレンズ、６・・・印
字ワーク、１０・・・ビームスプリッタ、１１・・・遮
晶マスクトラ第１図 第３図 第２図 第４図
す系統図、第２図、第３図は、本発明による液晶形遮光
マスク法を示す系統図、第４図は従来技術を示す系統図
である。 １・・・レーザ発振器、２ａ、ｂ・・・スキャナ、４・
・・遮光マスク、５・・・スキャンレンズ、６・・・印
字ワーク、１０・・・ビームスプリッタ、１１・・・遮
晶マスクトラ第１図 第３図 第２図 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、レーザ発振器と、オプティカルスキャナと、これら
を制御するコントローラとより成るレーザマーカにおい
て、 前記オプティカルスキャナと加工面の間に、遮光用のマ
スクを設けたことを特徴とするレーザマーカ。 ２、特許請求の範囲第１項において、 前記遮光用のマスクとして液晶を用い、前記液晶のレー
ザ光出側にビームスプリッタを設けたことを特徴とする
レーザマーカ。 ３、特許請求の範囲第２項において、 前記ビームスプリッタよりの反射光をフォトセンサで検
出することにより、故障検出可能としたことを特徴とす
るレーザマーカ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63194431A JPH0246986A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | レーザマーカ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63194431A JPH0246986A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | レーザマーカ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0246986A true JPH0246986A (ja) | 1990-02-16 |
Family
ID=16324486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63194431A Pending JPH0246986A (ja) | 1988-08-05 | 1988-08-05 | レーザマーカ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0246986A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7326876B2 (en) * | 2003-06-30 | 2008-02-05 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Sequential lateral solidification device |
| RU2696804C1 (ru) * | 2018-12-20 | 2019-08-06 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) | Способ маркировки поверхности контролируемыми периодическими структурами |
-
1988
- 1988-08-05 JP JP63194431A patent/JPH0246986A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7326876B2 (en) * | 2003-06-30 | 2008-02-05 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Sequential lateral solidification device |
| RU2696804C1 (ru) * | 2018-12-20 | 2019-08-06 | федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Санкт-Петербургский национальный исследовательский университет информационных технологий, механики и оптики" (Университет ИТМО) | Способ маркировки поверхности контролируемыми периодическими структурами |
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