JP2769322B2 - レーザマーキング装置 - Google Patents

レーザマーキング装置

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JP2769322B2
JP2769322B2 JP15990488A JP15990488A JP2769322B2 JP 2769322 B2 JP2769322 B2 JP 2769322B2 JP 15990488 A JP15990488 A JP 15990488A JP 15990488 A JP15990488 A JP 15990488A JP 2769322 B2 JP2769322 B2 JP 2769322B2
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誠 池田
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東芝電子エンジニアリング株式会社
東芝メカトロニクス株式会社
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  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は、レーザマーキング装置に関する。
(従来の技術) 従来、レーザマーキング装置は第2図に示すように構
成され、レーザ発振器1から出射されたレーザ光2は、
その光束が適当な断面形状を持つように整形され、この
整形されたレーザ光はミラー3により光路を変更され、
マスク22に照射される。このマスク22は、例えばレーザ
光を透過する部分と遮蔽する部分とでマーキングしたい
パターンを形成したものである。マスク22を通過したレ
ーザ光は1つ又は複数の組みレンズによる結像レンズ26
を通って被加工物30に照射される。
この時、マスク22に形成されたパターンが、結像レン
ズ26によって被加工物30上に結像されているため、被加
工物30上にマスク22のパターンがマーキングされる。
(発明が解決しようとする課題) 上記従来のレーザマーキング装置では、マーキングパ
ターンを変えるためには、マスク22の交換が必要とな
る。又、レーザ発振器1は被加工物30上1ラインの対応
しか出来ず、被加工物30上への設置が原則となり、操作
性が悪い。
この発明は、マスクを交換しなくてもマーキングパタ
ーンを選択することが出来、又、被加工物上へのレーザ
発振器の設置を行わなくても良いレーザマーキング装置
を提供することを目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) この発明は、レーザ発振器から出射されたレーザ光
を、少なくともレンズ、マスク及び結像レンズを通して
被加工物に照射することにより、この被加工物上に上記
マスクのパターンをマーキングするレーザマーキング装
置において、上記レーザ発振器から上記マスク迄の間
に、上記レーザ発振器から出射されたレーザ光を集光す
る固定配置の集光レンズと、この集光レンズで集光され
たレーザ光を複数に分岐する回転型のレーザ光分岐用ミ
ラーを設けると共にこのレーザ光分岐用ミラーに対応し
て複数の光ファイバを設け、更に上記マスクは上記光フ
ァイバに対応する複数にして且つ複数のマーキングパタ
ーンを有し、上記結像レンズ及び被加工物も上記光ファ
イバに対応する複数にして、所望のマーキングパターン
を自動制御で選択して複数の被加工物にマーキングする
ようにしたことを特徴とするレーザマーキング装置であ
る。
(作用) この発明によれば、マスク上のマーキングパターンを
選択するための光学系とその駆動装置は、コントローラ
から受けた信号で選択されたライン及びマスク上のマー
キングパターンへレーザ光が照射するように動作する。
この結果、マスクを交換しなくてもマーキングパターン
を選択することが出来、又、被加工物上へのレーザ発振
器の設置を行わなくても良い。更に、駆動装置の高速化
で高速にマーキングを行なうことも出来る。
(実施例) 以下、図面を参照して、この発明の一実施例を詳細に
説明する。
この発明によるレーザマーキング装置は、第1図に示
すように構成され、従来例(第2図)と同一箇所には同
一符号を付すことにする。
即ち、レーザ発振器1から出射されるレーザ光2の光
路上には、ミラー3、4、集光レンズ6及び回転型のレ
ーザ光分岐用ミラー5が順次所定間隔をおいて配設され
ており、これらミラー3、4、集光レンズ6及びミラー
5により光学系9が構成されている。そして、レーザ光
分岐用ミラー5は駆動装置7に接続されて回転自在であ
り、この駆動装置7はコントローラ8に接続されてい
る。
更に、レーザ光分岐用ミラー5に近接して、複数例え
ば4本の光ファイバ10、11、12、13が設けられ、レーザ
光を分岐するように構成されている。これら光ファイバ
10、11、12、13の出力側には、それぞれビーム整形レン
ズ14、15、16、17、マスク22a、23a、24a、25a、結像レ
ンズ26、27、28、29及び被加工物30、31、32、33が順次
所定間隔をおいて配設されている。そして、これらビー
ム整形レンズ、マスク、結像レンズにより、光ファイバ
10、11、12、13のそれぞれに対応する光学系34、35、3
6、37が構成されている。
各マスク22a,23a、24a、25aは、高速回転時における
位置決め精度も考慮し、軽量化及びパターン位置の高精
度を実現したレーザ光の透過部と散乱部を有する円板形
のマスクであり、レーザ光の透過部がマーキングパター
ン例えばA・B・C・D・E・F・G・Hになってい
る。このようなマスク22a、23a、24a、25aは、それぞれ
駆動装置18、19、20、21を介して上記のコントローラ8
に接続されている。
又、この発明では、従来と異なり、レーザ発振器1は
被加工物30、31、32、33上には設定されておらず、遠く
離れた場所に位置している。
さて動作時には、例えば被加工物30、31、32、33を搬
送する装置があり、多種の信号を駆動装置18、19、20、
21が受けてマスク22a、23a、24a、25a上のマーキングパ
ターンA・B・C・D・E・F・G・Hを選択し、コン
トローラ8へ送信する。
コントローラ8は、送信された信号の早いラインにレ
ーザ光分岐用ミラー5を回転させ、レーザ光出射の指示
を出す。又、信号が同時に送信された場合は、ライン番
号の早いものを優先とし、他のラインは待たせる。
このようにして、レーザ発振器1から出射されたレー
ダ光2は、その高速が適当な断面形状を持つように整形
・伝送されて、光学系9へ入射し、信号を受けたライン
の光ファイバ10、11、12、13に入射される。そして、こ
の光ファイバ10、11、12、13により伝送されたレーザ光
2は、光学系34、35、36、37へ入射され、更にビーム整
形レンズ14、15、16、17によりレーザ光2は整形され、
マスク22a、23a、24a、25aへ照射される。マスク22a、2
3a、24a、25aに設けられた複数のマーキングパターンA
・B・C・D・E・F・G・Hから所望のマーキングパ
ターンを選択し、そのパターンを透過したレーザ光は、
結像レンズ26、27、28、29を通過して被加工物30、31、
32、33へ照射される。
[発明の効果] 以上説明したように、この発明によれば、マスクを交
換しなくてもマーキングパターンを選択することが出
来、又、被加工物上へのレーザ発振器の設置を行わなく
ても良い。更に、レーザ光分岐用ミラーは回転型であ
り、駆動装置の高速化で高速にマーキングを行なうこと
も出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例に係るレーザマーキング装
置を示す概略構成図、第2図は従来のレーザマーキング
装置を示す概略構成図である。 1……レーザ発振器、2……レーザ光、3,4,……ミラ
ー、5……レーザ光分岐用ミラー、6……集光レンズ、
7、18、19、20、21……駆動装置、8……コントロー
ラ、9、34、35、36、37……光学系、10、11、12、13…
…光ファイバ、14、15、16、17……ビーム整形レンズ、
22a、23a、24a、25a……マスク、26、27、28、29……結
像レンズ、30、31、32、33……被加工物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−193794(JP,A) 特開 昭62−270293(JP,A) 特開 昭52−81580(JP,A) 特開 昭60−247490(JP,A) 特開 昭57−85687(JP,A) 実開 昭58−61380(JP,U) 実開 昭51−57385(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) B23K 26/00 - 26/18

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】レーザ発振器から出射されたレーザ光を、
    少なくともレンズ、マスク及び結像レンズを通して被加
    工物に照射することにより、この被加工物上に上記マス
    クのパターンをマーキングするレーザマーキング装置に
    おいて、 上記レーザ発振器から上記マスク迄の間に、上記レーザ
    発振器から出射されたレーザ光を集光する固定配置の集
    光レンズと、この集光レンズで集光されたレーザ光を複
    数に分岐する回転型のレーザ光分岐用ミラーを設けると
    共にこのレーザ光分岐用ミラーに対応して複数の光ファ
    イバを設け、更に上記マスクは上記光ファイバに対応す
    る複数にして且つ複数のマーキングパターンを有し、上
    記結像レンズ及び被加工物も上記光ファイバに対応する
    複数にして、所望のマーキングパターンを自動制御で選
    択して複数の被加工物にマーキングするようにしたこと
    を特徴とするレーザマーキング装置。
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