JPH0211283A - レーザマーキング装置 - Google Patents
レーザマーキング装置Info
- Publication number
- JPH0211283A JPH0211283A JP63159904A JP15990488A JPH0211283A JP H0211283 A JPH0211283 A JP H0211283A JP 63159904 A JP63159904 A JP 63159904A JP 15990488 A JP15990488 A JP 15990488A JP H0211283 A JPH0211283 A JP H0211283A
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- JP
- Japan
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- marking
- mask
- laser
- pattern
- laser light
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- Granted
Links
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 title claims description 12
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims abstract description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 11
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 abstract description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
この発明は、レーザマーキング装置に関する。
（従来の技術）
従来、レーザマーキング装置は第２図に示すように構成
され、レーザ発振器１がら出射されたレーザ光２は、そ
の光束が適当な断面形状を持つように整形され、この整
形されたレーザ光はミラー３により光路を変更され、マ
スク２２に照射される。このマスク２２は、例えばレー
ザ光を透過する部分と遮蔽する部分とでマーキングした
いパターンを形成したものである。マスク２２を通過し
たレーザ光は１つ又は複数の組みレンズによる結像レン
ズ２６を通って被加工物３０に照射される。
され、レーザ発振器１がら出射されたレーザ光２は、そ
の光束が適当な断面形状を持つように整形され、この整
形されたレーザ光はミラー３により光路を変更され、マ
スク２２に照射される。このマスク２２は、例えばレー
ザ光を透過する部分と遮蔽する部分とでマーキングした
いパターンを形成したものである。マスク２２を通過し
たレーザ光は１つ又は複数の組みレンズによる結像レン
ズ２６を通って被加工物３０に照射される。
この時、マスク２２に形成されたパターンが、結像レン
ズ２６によって被加工物３０上に結像されているため、
被加圧物３０上にマスク２２のパターンがマーキングさ
れる。
ズ２６によって被加工物３０上に結像されているため、
被加圧物３０上にマスク２２のパターンがマーキングさ
れる。
（発明が解決しようとする課題）
上記従来のレーザマーキング装置では、マーキングパタ
ーンを食えるためには、マスク２２の交換か必要となる
。又、レーザ発振器１は被加工物３０ Ｊ： １ライン
の対応しか出来ず、被加工物３０上への設置が原則とな
り、操作性が悪い。
ーンを食えるためには、マスク２２の交換か必要となる
。又、レーザ発振器１は被加工物３０ Ｊ： １ライン
の対応しか出来ず、被加工物３０上への設置が原則とな
り、操作性が悪い。
この発明は、マスクを交換しなくてもマーキングパター
ンを選択することが出来、又、被加工物上へのレーザ発
振器の設置を行わなくても良いレーザマーキング装置を
提供することを目的とする。
ンを選択することが出来、又、被加工物上へのレーザ発
振器の設置を行わなくても良いレーザマーキング装置を
提供することを目的とする。
［発明の構成］
（課題を解決するための手段）
この発明は、レーザ発振器から出射されたレーザ光を、
少なくともレンズ、マスク及び結像レンズを通して被加
工物に照射することにより、この肢加１．物上に上記マ
スクのパターンをマーキングするレーザマーキング装置
において、上記レーザ発振器から上記マスク迄の間に上
記レーザ光を分岐する次数の光ファイバを設け、更に上
記マスクよ上記先ファイバに対応する＞ｉ数にして且つ
複数のマーキングパターンを有し、上記結像レンズ及び
被加工物も上記光ファイバに対応する複数にして、所望
のマーキングパターンを自動制御で選択して同時に１夏
数の被加工物にマーキングするようにしたレーザマーキ
ング装置である。
少なくともレンズ、マスク及び結像レンズを通して被加
工物に照射することにより、この肢加１．物上に上記マ
スクのパターンをマーキングするレーザマーキング装置
において、上記レーザ発振器から上記マスク迄の間に上
記レーザ光を分岐する次数の光ファイバを設け、更に上
記マスクよ上記先ファイバに対応する＞ｉ数にして且つ
複数のマーキングパターンを有し、上記結像レンズ及び
被加工物も上記光ファイバに対応する複数にして、所望
のマーキングパターンを自動制御で選択して同時に１夏
数の被加工物にマーキングするようにしたレーザマーキ
ング装置である。
（作用）
この発明によれば、マスク上のマーキングパターンを選
択するための光学系とその駆動装置は、コントローラか
ら受けた信号で選択されたライン及びマスク上のマーキ
ングパターンヘレーザ光が照射するように動作する。こ
の結果、マスクを交換しなくてもマーキングパターンを
選択することか出来、又、被加工物上へのレーザ発振器
の設置を行わなくても良い。更に、駆動装置の高速化で
高速にマーキングを行なうことも出来る。
択するための光学系とその駆動装置は、コントローラか
ら受けた信号で選択されたライン及びマスク上のマーキ
ングパターンヘレーザ光が照射するように動作する。こ
の結果、マスクを交換しなくてもマーキングパターンを
選択することか出来、又、被加工物上へのレーザ発振器
の設置を行わなくても良い。更に、駆動装置の高速化で
高速にマーキングを行なうことも出来る。
（実施例）
以下、図面を参照して、この発明の一実施例を詳細に説
明する。
明する。
この発明によるレーザマーキング装置は、第１図に示す
ように構成され、従来例（第２図）と同一箇所には同一
符号を付すことにする。
ように構成され、従来例（第２図）と同一箇所には同一
符号を付すことにする。
即ち、レーザ発振器１から出射されるレーザ光２の光路
上には、ミラー３．４、集光レンズ６及びミラー５が順
次所定間隔をおいて配設されており、これらミラー３．
４、集光レンズ６及びミラー５により光学系９が構成さ
れている。そして、ミラー５は駆動装置７に接続され、
この駆動装置７はコントローラ８に接続されている。
上には、ミラー３．４、集光レンズ６及びミラー５が順
次所定間隔をおいて配設されており、これらミラー３．
４、集光レンズ６及びミラー５により光学系９が構成さ
れている。そして、ミラー５は駆動装置７に接続され、
この駆動装置７はコントローラ８に接続されている。
更に、ミラー５に近接して、複数例えば４本の光ファイ
バ１０．１１．１２．１３が設けられ、レーザ光を分岐
するように構成されている。これら光ファイバ１０．１
１．１２．１３の出力側には、それぞれビーム整形レン
ズ１４．１５．１６．１７、マスク２２ａ、２３ａ、２
４ａ、２５ａ、結像レンズ２６．２７．２８．２９及び
被加工物３０．３１，３２．３３が順次所定間隔をおい
て配設されている。そして、これらビーム整形レンズ、
マスク、結像レンズにより、光ファイバ１０．１］、］
２．１３のそれぞれに対応する光学系３４．３５．３６
．３７が構成されている。
バ１０．１１．１２．１３が設けられ、レーザ光を分岐
するように構成されている。これら光ファイバ１０．１
１．１２．１３の出力側には、それぞれビーム整形レン
ズ１４．１５．１６．１７、マスク２２ａ、２３ａ、２
４ａ、２５ａ、結像レンズ２６．２７．２８．２９及び
被加工物３０．３１，３２．３３が順次所定間隔をおい
て配設されている。そして、これらビーム整形レンズ、
マスク、結像レンズにより、光ファイバ１０．１］、］
２．１３のそれぞれに対応する光学系３４．３５．３６
．３７が構成されている。
各マスク２２ａ、２３ａ、２４ａ、２５ａは、高速回転
時における位置決め精度も考慮し、軽量化及びパターン
位置の高精度を実現したレーザ光の透過部と散乱部をａ
する円板形のマスクであり、レーザ光の透過部かマーキ
ングパターン例えばＡ・Ｂ−Ｃ−Ｄ−ＥΦＦ−Ｇ−Ｈに
なっている。このようなマスク２２ａｓ ２３ａ、２４
ａ、２５ａは、それぞれ駆動装置１８．１９．２０．２
１を介して上記のコントローラ８に接続されている。
時における位置決め精度も考慮し、軽量化及びパターン
位置の高精度を実現したレーザ光の透過部と散乱部をａ
する円板形のマスクであり、レーザ光の透過部かマーキ
ングパターン例えばＡ・Ｂ−Ｃ−Ｄ−ＥΦＦ−Ｇ−Ｈに
なっている。このようなマスク２２ａｓ ２３ａ、２４
ａ、２５ａは、それぞれ駆動装置１８．１９．２０．２
１を介して上記のコントローラ８に接続されている。
又、この発明では、従来と異なり、レーザ発振器１は被
加工物３０．３１．３２．３３上には設置されておらず
、遠く離れた場所に位置している。
加工物３０．３１．３２．３３上には設置されておらず
、遠く離れた場所に位置している。
さて動作時には、例えば被加工物３０．３１、′３２．
３３を搬送する装置かあり、多種の信号を駆動装置１８
．１９．２０．２１が受けてマスク２２ ａ ％ ２３
ａ ％ ２４ ａ ｓ ２５ ａ上のマーキングパタ
ーンＡ−Ｂ−Ｃ−Ｄ−Ｅ−Ｆ−Ｇ−Ｈを選択し、コント
ローラ８へ送信する。
３３を搬送する装置かあり、多種の信号を駆動装置１８
．１９．２０．２１が受けてマスク２２ ａ ％ ２３
ａ ％ ２４ ａ ｓ ２５ ａ上のマーキングパタ
ーンＡ−Ｂ−Ｃ−Ｄ−Ｅ−Ｆ−Ｇ−Ｈを選択し、コント
ローラ８へ送信する。
コントローラ８は、送信された信号の早いラインにミラ
ー５を回転させ、レーザ光出射の指示を出す。又、信号
が同時に送信された場合は、ライン番号の早いものを優
先とし、他のラインは待たせる。
ー５を回転させ、レーザ光出射の指示を出す。又、信号
が同時に送信された場合は、ライン番号の早いものを優
先とし、他のラインは待たせる。
このようにして、レーザ発振器１から出射されたレーザ
光２は、その光束が適当な断面形状を持つように整形・
伝送されて、光学系９へ入射し、信号を受けたラインの
光ファイバ１ｔｌｌｌ、１２．１３に入射される。そし
て、この光ファイバ１０．１１．１２．１３により伝送
されたレザ光２は、光学系３４．３５．３６．３７へ入
射され、更にビーム整形レンズ１４．１５．１６．１７
によりレーザ光２は整形され、マスク２２ａ１２３ａ、
２４ａ％ ２５ａへ照射される。マスク２２ａ、２３ａ
、２４ａ、２５ａに設けられた複数のマーキングパター
ンＡ−Ｂ−Ｃ−Ｄ争Ｅ−Ｆ・Ｇ−Ｈから所望のマーキン
グパターンを選択し、そのパターンを透過したレーザ光
は、結像レンズ２６．２７．２８．２９を通過して被加
工物３０．３１．３２．３３へ照射される。
光２は、その光束が適当な断面形状を持つように整形・
伝送されて、光学系９へ入射し、信号を受けたラインの
光ファイバ１ｔｌｌｌ、１２．１３に入射される。そし
て、この光ファイバ１０．１１．１２．１３により伝送
されたレザ光２は、光学系３４．３５．３６．３７へ入
射され、更にビーム整形レンズ１４．１５．１６．１７
によりレーザ光２は整形され、マスク２２ａ１２３ａ、
２４ａ％ ２５ａへ照射される。マスク２２ａ、２３ａ
、２４ａ、２５ａに設けられた複数のマーキングパター
ンＡ−Ｂ−Ｃ−Ｄ争Ｅ−Ｆ・Ｇ−Ｈから所望のマーキン
グパターンを選択し、そのパターンを透過したレーザ光
は、結像レンズ２６．２７．２８．２９を通過して被加
工物３０．３１．３２．３３へ照射される。
［発明の効果］
以上説明したように、この発明によれば、マスクを交換
しなくてもマーキングパターンを選択することが出来、
又、被加工物上へのレーザ発振器の設置を行わなくても
良い。更に、駆動装置の高速化で高速にマーキングを行
なうことも出来る。
しなくてもマーキングパターンを選択することが出来、
又、被加工物上へのレーザ発振器の設置を行わなくても
良い。更に、駆動装置の高速化で高速にマーキングを行
なうことも出来る。
第１図はこの発明の一実施例に係るレザマーング装置を
示す概略構成図、第２図は従来のレザマーキング装置を
示す概略構成図である。 ］・・・レーザ発振器、２・・・レーザ光、３．４．５
・・・ミラー ６・・・集光レンズ、７．１８．１９．
２０．２１・・・駆動装置、８・・・コントローラ、９
．３４．３５．３６．３７・・・光学系、１０、］１．
１２．１３・・・光ファイバ １４．１５．１６、】７
・・ビーム整形レンズ、２２ ａ ％ ２３ ａ ５２
４ａ、２５ａ・・・マスク、２６．２７．２８．２９・
・・結像レンズ、３０．３１．３２．３３・・・彼加１
．物。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
示す概略構成図、第２図は従来のレザマーキング装置を
示す概略構成図である。 ］・・・レーザ発振器、２・・・レーザ光、３．４．５
・・・ミラー ６・・・集光レンズ、７．１８．１９．
２０．２１・・・駆動装置、８・・・コントローラ、９
．３４．３５．３６．３７・・・光学系、１０、］１．
１２．１３・・・光ファイバ １４．１５．１６、】７
・・ビーム整形レンズ、２２ ａ ％ ２３ ａ ５２
４ａ、２５ａ・・・マスク、２６．２７．２８．２９・
・・結像レンズ、３０．３１．３２．３３・・・彼加１
．物。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 レーザ発振器から出射されたレーザ光を、少なくともレ
ンズ、マスク及び結像レンズを通して被加工物に照射す
ることにより、この被加工物上に上記マスクのパターン
をマーキングするレーザマーキング装置において、 上記レーザ発振器から上記マスク迄の間に上記レーザ光
を分岐する複数の光ファイバを設け、更に上記マスクは
上記光ファイバに対応する複数にして且つ複数のマーキ
ングパターンを有し、上記結像レンズ及び被加工物も上
記光ファイバに対応する複数にして、所望のマーキング
パターンを自動制御で選択して同時に複数の被加工物に
マーキングするようにしたことを特徴とするレーザマー
キング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15990488A JP2769322B2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | レーザマーキング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15990488A JP2769322B2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | レーザマーキング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0211283A true JPH0211283A (ja) | 1990-01-16 |
| JP2769322B2 JP2769322B2 (ja) | 1998-06-25 |
Family
ID=15703708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15990488A Expired - Fee Related JP2769322B2 (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | レーザマーキング装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2769322B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6144011A (en) * | 1996-02-23 | 2000-11-07 | Spectrum Technologies Limited | Laser marking apparatus and methods |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5281580A (en) * | 1975-12-27 | 1977-07-08 | Tatsuta Densen Kk | Method of discriminative marking on object surface |
| JPS5861380U (ja) * | 1981-10-16 | 1983-04-25 | 株式会社東芝 | レ−ザ加工装置 |
| JPS60247490A (ja) * | 1984-05-22 | 1985-12-07 | Toshiba Corp | レ−ザ−光分岐装置 |
| JPS62270293A (ja) * | 1986-05-20 | 1987-11-24 | Toshiba Corp | レ−ザマ−キング装置 |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP15990488A patent/JP2769322B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5281580A (en) * | 1975-12-27 | 1977-07-08 | Tatsuta Densen Kk | Method of discriminative marking on object surface |
| JPS5861380U (ja) * | 1981-10-16 | 1983-04-25 | 株式会社東芝 | レ−ザ加工装置 |
| JPS60247490A (ja) * | 1984-05-22 | 1985-12-07 | Toshiba Corp | レ−ザ−光分岐装置 |
| JPS62270293A (ja) * | 1986-05-20 | 1987-11-24 | Toshiba Corp | レ−ザマ−キング装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6144011A (en) * | 1996-02-23 | 2000-11-07 | Spectrum Technologies Limited | Laser marking apparatus and methods |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2769322B2 (ja) | 1998-06-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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