JPH0246930B2 - - Google Patents

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JPH0246930B2
JPH0246930B2 JP54134751A JP13475179A JPH0246930B2 JP H0246930 B2 JPH0246930 B2 JP H0246930B2 JP 54134751 A JP54134751 A JP 54134751A JP 13475179 A JP13475179 A JP 13475179A JP H0246930 B2 JPH0246930 B2 JP H0246930B2
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    • G03B27/735—Controlling exposure by variation of spectral composition, e.g. multicolor printers in dependence upon automatic analysis of the original
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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、各走査点に対する濃度値を求めるた
め、そして得ようとする焼付けの全濃度の調整の
ために使われる基本の濃度補正係数を求めるため
に、焼付けされる原板を光学点に点走査する。写
真焼付けの露出調整方法に関する。
［従来の技術］ 濃度の構成が一般に類似しているが通常陰画で
ある焼付けようとする種々の原板は、これに写し
た題材により、すなわち主題（たとえば１人ない
し複数の人物）が像の明るい領域にあるか暗い領
域にあるかにより焼付け時に極めて多様な焼付け
を行わなければならないことが多いことが経験上
知られている。
写真をフラツシユで撮る場合には、像の重要な
部分は一般に陰画の濃い部分にあるが、その最も
濃い部分になることが多い。たとえば、人物写真
の場合に重要部分、すなわち撮影しようとする人
物の顔が直接フラツシユにより照らされるので、
濃い方の場所に大体ある。焼付けを行う際に陰画
の濃い場所を正しく再生することがこれらの場合
重要である。
一方、街頭シーンを影にある密集した街路で撮
影するときは画像の重要な題材が通常影の部分、
すなわち陰画の低い濃度の領域にある。しかし陰
画の高い濃度を生ずる物体、たとえば像の縁部に
見えることのある空（sky）の部分はこの特殊な
場合には重要でない。このような題材を含む領域
を正しく再現するために、街頭シーンのような題
材を写した陰画は、ほぼ同一全濃度を持つがフラ
ツシユ写真に比べてかなり低い程度に露出が行わ
れなければならない。雪景色と比較的大きい空部
分を含むシーンと逆光との場合にも条件は同様で
ある。よく知られている露出調整方法において
は、このような題材を持つ陰画からの焼付けは一
般に暗すぎる焼付けになる。
現在用いられている自動焼付け機によるすでに
極めて低い不良割合を減らすために、題材によつ
て適当な基準により焼付け原板を区別し、これら
の原板を適当な、かつ種々の方法で処理すること
が絶対に必要である。この点については従来から
多くの提案が知られている。しかしこれらの提案
は、ある程度品質を向上させるが、前記の問題は
全く、または少なくとも部分的にしか解決しな
い。たとえばドイツ特許第1042374号明細書は、
各別の濃度値を得るために原板の濃度を３原色で
点走査する焼付方法を開示している。近似重み付
け平均法による各別の濃度値から各区域濃度が得
られ、次でこれらの区域濃度は積分濃度測定によ
り焼付け材料の露出のための光学的フイルタ組合
わせを求めるのに使われる。近似重み付け平均
は、中央の原板領域の走査点から得られる濃度値
に対し原板の縁部領域から得られる濃度値に対す
るより大きな重みを与える。この公知の方法では
画像の主要な題材が通常映像の中央にあるという
経験上の事実を利用しており、重み付け係数を適
当に選ぶことにより焼付けの品質をある程度向上
させることが可能である。しかしながら、この方
法は、前述した極端な場合に満足な焼付けできる
のに必要な十分な感度が欠けている。
ドイツ特許公告第1772475号明細書とドイツ特
許公開第2132023号明細書により、焼付けようと
する原板の像を単一のまたは半部分に分割した周
縁分領域と画像中央部にある多数の小さな部分領
域とに再分割し、原板の各領域を個別に測定し、
そして各測定結果に基づいて公知のカテゴリに露
出の分類を行うことが知られている。ドイツ特許
公告第1772475号明細書で提案された方法の場合、
この分類には２つの値、すなわち周縁領域の平均
濃度と部分中央領域の最高濃度だけしか使われな
い。ドイツ特許公開第2143023号明細書の場合に
は、分類方法は、分割された２つの周縁領域半部
分の平均濃度を個別に調べることにより洗練され
ている。これらの２つの方法を利用して得られる
許容できる焼付けのパーセントは、積分濃度測定
を行う方法またはドイツ特許第1042374号明細書
による方法に比べて比較的高いが、これらは、分
類に使われるパラメータの数が不十分なために実
際に生ずる全ての要件には応じていない。
ドイツ特許公開第2142176号明細書は、焼付け
原板の濃度を点走査し、特に原板の特定の領域か
ら導かれた濃度値を、露出特性を決定するために
主として利用する露出制御方法を開示している。
この特定の領域は個々に試料ごとに選択される。
選択された領域は各画像の重要な区域を含んでい
る。露出特性は、選択された区域の走査点間の平
均濃度、最高濃度および平均コントラストによ
り、また必要ならば全焼付け原板の平均濃度を評
価することにより得られる。この焼付け法は、各
原板の主題を正確に強調するのに必要な全ての要
件に合うように原画の露出を調節することを、走
査しようとする特定の領域を適宜に選択すること
によつて可能にしている。しかしながら、特定の
走査領域は目視により選択しなければならず、し
たがつてこの方法は自動化システムには適してい
ない。一方、たとえばドイツ特許公開第2142176
号明細書で提案されているように、特定の走査領
域を全部の焼付け原板に対して原板のほぼ中央領
域内に固定的に定めると、目視により行われる処
理は避けることはできるが、露出特性の計算にこ
の方法により使用されるパラメータは全ての場合
品質的に満足のいく焼付けを行うのに必ずしも十
分でない。
露出制御の著しい向上とこの結果としての不良
割合の実質的減少は、焼付け原板を点走査後に各
同心区域に分割する、米国特許第4092067号に記
載された方法により達成される。中間値は各区域
に対してこの区域内に位置する各走査点の濃度値
から、また全ての区域に適用できる１つの基準像
点の濃度値から、各区域に対し変る仕様に基づい
て導出される。そしてこれらの中間値から、全体
の露出の設定に決定的な影響を持つ最終値が導か
れる。原板のいくつかの区域への分割とこれらの
区域内の濃度値の個々の評価とによつて焼付け原
板内の濃度分布のより正確な測定と主題を含む領
域のより正確な露出が可能となる。
［発明が解決しようとする問題点］ この公知の方法は、逆光撮影、雪および空のシ
ーンを含む焼付け原板の処理に対してはさらに改
良できることがわかつている。
したがつて、本発明の目的は、処理が非常にむ
ずかしい題材を持つ焼付け原板をよりよく焼付け
る前記した種類の改良された露出制御方法を提供
することにある。
本発明の特別な目的は、逆光撮影の原板または
雪および／または空の区域をかなり含む原板を良
好に焼付ける、複写原板の写真焼付けの新規な制
御方法を提供することにある。
［問題点を解決するための手段］ 本発明の露出調整方法は、 焼付けようとする原板の各像点の濃度を閾値と
電子的に比較することにより、焼付けようとする
原板が、その端縁の少なくとも１つまで延び、そ
して閾値以上の濃度を持つ像点がある区域を含む
かどうかを定める工程と、 前記のような区域に属する各像点の少なくとも
ある部分の濃度値を低減させる工程と、 前記基準濃度補正値を導き出すときもとの濃度
値の代りに前記の低減された濃度値を使う工程を
含む。
［作用］ 本発明によれば、焼付けようとする原板は、こ
れが閾値を越える濃度の像点を持ち少なくとも一
方が縁部まで延びる区域を含むかどうかを測定す
るために、走査像点の濃度値を閾値と電子的に比
較することによつてチエツクされる。このような
区域が発見されると、写真焼付けの露出は、この
ような区域が焼付けに悪影響を及ぼさないように
調整される。より詳しく述べるならば、このよう
な区域が確認されると、このような区域に属する
各像点の少なくとも一部の濃度値が低減され、そ
して個々の濃度値から基準濃度補正係数を導く処
理工程の少なくとも一部分に対して、測定された
濃度値の代りに前記の低減された濃度値が使用さ
れる。ここで、基準濃度補正係数は露出、従つて
焼付け内容を調整するのに使われる。写真焼付け
の全濃度はこのようにして、原板の端縁まで延び
るこのような高濃度区域の検出に応答して修正さ
れる。
［実施例］ 次に、本発明の実施例について図面を参照して
詳細に説明する。
第１図は、通常陰画であり以下陰画として述べ
る焼付けようとする原板を示している。
図示の陰画１００は、明るい空に対するシーン
または太陽やその他の明るい光源に対し逆光の主
題を撮影するときに生ずるような高濃度の区域１
０２と低濃度の区域１０４とを備えている。すな
わち、第１図は、焼付けを行うのに使うと、区域
１０２のような比較的濃い空区域のために質の低
い焼付けを生ずるような原板を一般に示してい
る。
本発明は第２図に示すような点走査方法により
行うのが望ましい。第２図に示す装置は詳しくは
後述する点を除いて米国特許第4101216号明細書
に示した装置と同じである。したがつて、第２図
の装置についてはここでは詳しく述べないことに
する。
第２図を参照すると、焼付けされて陰画は、３
色チヤネルに対するフオトセル９を用いる走査装
置により自動焼付け機内で光電的に点走査され
る。光電センサ、すなわちフオトセル９により検
出された光値は増幅器、対数形成器およびＡ／Ｄ
変換器により、米国特許第4101216号明細書に記
載されているように個々の走査点または像点に対
する陰画の３色濃度値を表わすデイジタル信号に
変換される。このようにして得られた色濃度値は
次で焼付け機の露出制御の中で解析され、焼付け
機内の露出中に色バランスと全明るさの制御に使
われる最終の露出データに処理される。この露出
は走査動作に次で行われる。測定された走査値の
解析と処理はマイクロコンピユータまたはミニコ
ンピユータでデイジタル的に行われる。この点ま
では、本発明の方法は、たとえば、スイス国レー
ゲンドルフ市のグレターク・アー・ゲー
（Gretag A.G.）製の3140型自動焼付け機を使つ
て行う方法、または米国特許第40292067号と同第
4101216号の各明細書に示されている公知の方法
と同様である。前記の特許明細書に示されている
従来の方法に対する本発明の方法の著しい相違点
は、複写の全濃度に決定的な影響を及ぼし、そし
て焼付け機の焼付けフイルタを制御するためによ
く知られている方法でさらに処理されて基本濃度
補正値BDCを得るために走査濃度値を処理する
ことにある。
第３図を参照すると、たとえば米国特許第
4092067号明細書に記載されているような直線的
組合わせにより各像点の３色濃度値から中性濃度
値Dnが求められることが理解される。次で最低
中性濃度値Dnioと最高中性濃度値Dnaxが測定さ
れ、算術平均COD＝（最Dnax＋Dnio）／２ならら
びに閾値を得るのに使われる。この閾値は最低お
よび最高の濃度値の間の濃度間隔の約2/3の値
［すなわち2/3（Dnax−Dnio）＋Dnio］に固定され
るが、必要ならば一層高いあるいは一層低い濃度
値の方に動かしてもよい。
この陰画の区域は次で、米国特許第4092067号
明細書に示されているのと同様にたとえば５つの
同心区域Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ，Ｅに分割される。次
で、陰画の中心部内にある像点DnAにこの陰画の
端縁に近い像点DnB，DnC，DnD，DnEより一層大
きな重みを与える区域関連重み付け平均により
個々の中性濃度値Dnから積分濃度値IDCが生成
される。実際上、中心区域から最も外側の区域ま
で減少する第１の重み付け係数W1が各区域に割
り当てられる。これらの値は約1.4、0.8、0.3、
0.1および０である。これらの値は変えてもよく、
各重み付け係数は約2.0ないし０の範囲内に定め
ることができる。このよにして求められた積分濃
度値IDCは平均値CODと同様に、引続いて求め
られる基準濃度補正係数BDCに寄与し、一層広
い区域にも等しい効果を持つと共に、なお主題を
通常含む陰画の中心部に一層大きな重みを与え
る。
次で、陰画がその端縁の少なくとも１つまで延
びる比較的高い濃度の区域を含むかどうかを定め
るために陰画がチエツクされる。陰画の端縁まで
延びるこの種の区域が、この陰画が雪のシーンを
持つか、太陽に向い露出されたものかまたは比較
的大きい部分が輝く空を持つ主題であるかあるい
はこれらの全部である場合に、常に存在すること
が経験上分つている。このような濃い区域が存在
すれば、陰画はこのようなシーンまたは主題を含
むものと見なされ、後述するように対応する陰画
濃度補正が、焼付けが一層明るく、したがつて一
層よくなるように行われる。
このような濃い区域を検出するために、たとえ
ば８×12の点からなる走査格子内に配置された
個々の像点の濃度値Dnが閾値と順次そして常に
陰画の端縁で始まるように比較される。１つの点
が閾値より高い濃度を持ち、このことが陰画の端
縁に向う方向で同じ格子行または格子列に位置す
る全ての像点に対し当てはまる場合には、この点
は空の区域の一部である点として考えられ、標識
が付される。この選択処理はコンピユータ技術の
当業者により容易に行われうるので詳しい説明は
省くことにする。
空の区域の一部であることが分つた像点の中性
濃度値は次でその実際の大きさに対する関数関係
で低減される。このことは選択された各像点の中
性濃度値Dnに対し式Dn′＝（Dn−Dnio）・FH＋Dnio
により低減された値Dn′を計算することによつて
行なわれる。この式でDnioは陰画全体にわたつて
わかつた最低濃度値であり、FHは約０〜0.9、望
ましくは0.6〜0.8の範囲内であり、特には0.75で
ある低減係数である。濃度値Dnの低減はこのよ
うにして、これらの値の最低濃度値Dnioを越える
部分に１より小さい低減係数FHを乗ずることに
より行われる。
最高濃度値は陰画の各区域に対して低減された
濃度値を考慮して定められる。各区域のいくつか
の最高値は、各区域に第２の重み付け係数W2を
割当てる区域関連重み付け平均により組み合わさ
れる。これらの重み付け係数は中心区域から最も
外側の区域に向つて減少する。前記した順序のこ
れらの重み付け係数はたとえば1.26、1.0、0.5、
0.2および０である。実際上、これらの重み付け
係数は0.2から０の範囲にできるし、またこのよ
うな範囲でなければならない。このようにして求
められた重み付き平均は、フラツシユ撮影の原板
露出に主として応用できる最高濃度パラメータ
MXCを生成する。
積分濃度値IDC、平均値CODおよび最高濃度
パラメータMXCは、基準濃度補正値BDCを得る
ために、式BDC＝ａ・IDC＋ｂ・MXC＋ｃ・
COD（この式でａ＋ｂ＋ｃ＝１）による、直線的
組合わせにより標準化係数ａ、ｂ、ｃと組合わさ
れる。各標準化係数ａ、ｂ、ｃはたとえば0.4±
0.4、0.2±0.2および0.4±0.4である。このように
して計算された基準濃度補正値BDCは、複写の
全濃度を適当な公知の方法、たとえば米国特許第
4092067号明細書に示してあるような方法で修正
するためにさらに処理される。
雪のシーンと太陽に向つて撮影した原板との場
合には、なお本発明によれば補助的補正値CCが
基準濃度補正値BDCに重畳されると、さらに改
良できることが分つた。この補助的補正値CCは、
濃度値の低減後に残る陰画の最も外側の区域の最
高濃度値（すなわちＥが最も外側の区域である場
合のDn nax E′）と平均値CODの間の差を求
め、この差に0.05〜0.4の範囲にあり、望ましく
は0.15の値を持つ係数Ｆを乗ずることにより得ら
れる。この補助的補正値CCは基準補正値BDCか
ら推論され、この補助補正値CCが正であれば修
正されない基準補正値に比べて一層少ない補正ま
たは一層明るい焼付けが得られる。また、補助補
正値CCが負であれば反対の種類の補正になる。
【図面の簡単な説明】
第１図は高い濃度（影になつた）および低い濃
度（影のない）の区域を持つ通常陰画の写真原板
の平面図、第２図は本発明を使う従来の装置のブ
ロツク図、第３図は第２図の措置を使う本発明の
露出調整方法の一実施例の流れ図である。 １００……陰画、１０２……高濃度区域、１０
４……低濃度区域、９……光電池。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 焼付けようとする原板を光電的に点走査し、
    各像点の中性濃度を定め、得ようとする焼付けの
    全体の濃度を調整するために基準濃度補正値を
    個々の濃度値から導き出す、写真焼付けの露出調
    整方法であつて、 前記焼付けようとする原板の各像点の濃度を閾
    値と電子的に比較することにより、焼付けようと
    する原板が、その端縁の少なくとも１つまで延
    び、そして閾値以上の濃度を持つ像点がある区域
    を含むかどうかを定める工程と、 前記のような区域に属する各像点の少なくとも
    ある部分の濃度値を低減させる工程と、 前記基準濃度補正値を導き出すときもとの濃度
    値の代りに前記の低減された濃度値を使う工程を
    含む露出調整方法。 ２ 焼付けようとする各原板の閾値が、この原板
    の最高および最低の濃度値から定められる特許請
    求の範囲第１項に記載の露出調整方法。 ３ 閾値が、最高および最低の濃度値の間に間隔
    を約２：１の比率で分割するようにして選定さ
    れ、前記閾値が最高濃度値のほうに近い特許請求
    の範囲第２項に記載の露出調整方法。 ４ 濃度値の低減が、焼付けようとする原板の最
    低濃度値を越える部分に１より小さい低減係数を
    乗ずるようにして行われる特許請求の範囲第１項
    ないし第３項のいずれか１項に記載の露出調整方
    法。 ５ 低減係数が０から0.9、望ましくは0.6〜0.8の
    範囲内に選択される特許請求の範囲第４項に記載
    の露出調整方法。 ６ 焼付けようとする原板が互いに同心の区域に
    分割され、各区域に中心区域から最も外側の区域
    に向い値が減ずる第１の重み付け係数が割り当て
    られ、各区域の濃度値の重み付け平均値である積
    分濃度値（IDC）が求められる、特許請求の範囲
    第１項ないし第５項のいずれか１項に記載の露出
    調整方法。 ７ 光電走査により得られた個々の像点の濃度値
    が積分濃度値（IDC）の決定のために低減しない
    で使われる特許請求の範囲第６項に記載の露出調
    整方法。 ８ 焼付けようとする原板が同心の区域に分割さ
    れ、前述の低減後に残る最高濃度値が各区域から
    定められ、各区域に、中心区域から最も外側の区
    域に向い減少する第２の重み係数が割当てられ、
    これら最高濃度値から区域関連重み付け平均によ
    り最高濃度パラメータ（MXC）が得られる、特
    許請求の範囲第１項ないし第７項のいずれか１項
    に記載の露出調整方法。 ９ 焼付けようとする原板の最高および最低の濃
    度値から平均値（COD）が求められ、基準濃度
    補正値（BDC）が、積分濃度値IDC、最高濃度
    パラメータMXCおよび平均値CODの線形組合わ
    せにより、式BDC＝ａ・IDC＋ｂ・MXC＋ｃ・
    COD（この式でａ＋ｂ＋ｃ＝１）によつて求めら
    れる特許請求の範囲第６項または第８項に記載の
    露出調整方法。 １０ 係数ａ＋ｂ＋ｃがａ＝0.4±0.4、ｂ＝0.2±
    0.2、ｃ＝0.4±0.4の範囲内で定められる特許請求
    の範囲第９項に記載の露出調整方法。 １１ 第１の重み付け係数が約2.0から約０まで
    の減少する範囲内で選択される特許請求の範囲第
    ６項に記載の露出調整方法。 １２ 第２の重み付け係数が約2.0から約０まで
    の減少する範囲内で選択される特許請求の範囲第
    ８項に記載の露出調整方法。 １３ 最も外側の区域の濃度値の低減後に残る最
    高濃度値と平均値CODの差と増倍係数とから、
    基準濃度補正値を修正する付加的な補助補正値が
    求められ、それにより前記の差が零より大きいか
    または少さい場合に修正されていない基準濃度補
    正値に対して負または正の補正が全濃度値から得
    られるように全濃度値を制御する特許請求の範囲
    第９項に記載の露出調整方法。 １４ 増倍係数が0.05〜0.4の範囲、望ましくは
    約0.15の値を持つ特許請求の範囲第１３項に記載
    の露出調整方法。
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