JPH0245308A - 処理液ポッド製造装置 - Google Patents

処理液ポッド製造装置

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JPH0245308A
JPH0245308A JP18608288A JP18608288A JPH0245308A JP H0245308 A JPH0245308 A JP H0245308A JP 18608288 A JP18608288 A JP 18608288A JP 18608288 A JP18608288 A JP 18608288A JP H0245308 A JPH0245308 A JP H0245308A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の分野） 本発明は、インスタントフィルムユニット等に取り付け
られる処理液ポッドの製造装置に関するものである。
（従来の技術） いわゆるビールアパートタイプやモノシートタイプのイ
ンスタントフィルムユニットにおいては、四辺が閉じら
れた袋状のポッド内に現像処理液（以下、単に処理液と
いう）を充填させてなる処理液ポッドがユニット端部に
固定され、露光後該ユニットが一対の処理液展開ローラ
間に通されると該ポッドが裂開して、その内部に貯えら
れていた処理液が所定の画像形成域に展開されるように
なっている。（特公昭５１−２５７３４号公報等参照）
上述の処理液ポッド材料は、薄く、変形可能な素材を積
層したもので、処理液およびその蒸気に不活性のポリ塩
化ビニールあるいは熱可塑性樹脂による層、処理液を透
さない鉛あるいはアルミ等による層、ポッドの変形を防
止するための紙層の３層からなるシート状の物である。
このポッド材料を用いて第６図に示すような装置により
製造される。
図示の装置において、上記シート状物は矢印Ａ方向に搬
送されつつ第１のシール部１０によりその側端部を接着
されることにより筒状に形成され、長尺のポッド材料１
となる。このポッド材料１内には、処理液充填手段であ
るノズル１１により処理液１２が充填される。またポッ
ド材料１の搬送路には、第２のシール部１２０が設けら
れ、この第２のシール部１２０は一対のシーラー１２１
　、１２２を矢印Ｂ方向に移動させてポッド材料１を挾
持、加圧させ、ポッド材料１を一定間隔毎にその幅方向
にヒートシールするようになっている。なお、上記処理
液１２は、液面がこのシーラー１２１　、１２２より上
方に位置するようにノズル１１から送り出され、シーラ
ー１２１　、１２２はシール部分の処理液を押し出しつ
つ上記ヒートシールを行う。第７図はシーラー１２１　
、１２２の斜視図である。
第２のシール部１２０の下方にはカッター３１が設けら
れており、シーラー１２１　、１２２によるシール部分
は矢印Ｃ方向に移動するカッター３１によりその中央部
を切断され、複数の処理液ポッド１′に分割される。
（発明が解決しようとする課題） 上記シーラー１２１　、１２２によるヒートシールにお
いては大きく３つのシール不良がある。ポッド材料１は
、第８図に示すように、内側からポリ塩化ビニール層Ｉ
Ｃ，アルミ層ＩＢ、紙層ＩＡからなっているが、前記シ
ーラー１２１　、１２２によるヒートシールが弱すぎた
りシール部の処理液の排除が十分でなかったりすると第
８図（ａ）に示すようにヒートシール部分のポリ塩化ビ
ニール層ＩＣ内に処理液１２が侵入し、処理液が流出し
てしまうおそれがある。また、ヒートシール時にヒート
シール部分のポリ塩化ビニール層ＩＣの流動が大きいと
流動したポリ塩化ビニール層ＩＣが第８図（ｂ）に示す
ようにヒートシール部分の端部に集められて変形し、ポ
リ塩化ビニール層ＩＣに亀裂を生じさせることがある。
ポリ塩化ビニール層に亀裂が生じると、この部分からポ
ッド材料１内の処理液１２が漏れ、処理液１２は一般に
強アルカリの物質であるためアルミ層ＩＢを浸蝕して外
部に蒸発してしまう。さらに、ヒートシール時にヒート
シール部分の処理１（１１２の排除が十分でないと、第
８図（Ｃ）に示すようにヒートシール部分内に処理液１
２が残ってしまい、この処理液が気化する（発泡する）
ことによってポリ塩化ビニール層ＩＣに穴がおいてポッ
ド材料１内の処理液１２を蒸発させてしまうおそれがあ
る。
一般にポッド材料のシールをするには十分な温度で溶融
し、十分な圧力で圧着させる必要がある。
処理液が不在の場合は良く接着するが処理液が介在する
場合は処理液を排除してから接着させる必要があり、上
記シール不良の説明のように難しくなる。
上述したヒートシール不良による液侵入（第８図（ａ）
）　、亀裂（第８図（ｂ））　、および発泡（第８図（
Ｃ））の発生は、第９図に示すようにシール圧力とシー
ル温度に依存する。第９図（ａ）はシール時間１．０秒
の場合であり、上記３つの不具合の生じない安全領域は
図中斜線で示す範囲となる。処理液ポッドの製造をさら
に高速化しようとすると、シール時間は当然短くなり、
その場合の安全領域は第９図（ｂ）に斜線で示す極めて
狭い範囲となる。第９図（ｂ）はシール時間０．１秒の
場合だが、このように従来の製造装置においては、処理
液ポッドの製造を高速化しようとすると、ヒートシール
不良の発生しない領域が極めて狭くなるため、高速化を
実現することが困難であった。
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、ヒー
トシールを短時間に良好に行い、処理液ポッドの製造を
高速化することのできる処理液ポッドの製造装置を提供
することを目的とするものである。
（課題を解決するための手段および作用）本発明の処理
液ポッド製造装置は、処理液が充填されたポッド材料を
幅方向にシールする一対のシーラーのうち、少なくとも
一方のシール面に複数の四部を前記幅方向に形成したこ
とを特徴とするものであり、ヒートシール時にポリ塩化
ビニル層を上記四部方向に流動させて該凹部に重なり合
う部分から処理液を良好に排除させるとともに、これら
の凹部方向に、流動したポリ塩化ビニールを分散して吸
収させ、ポリ塩化ビニール層に亀裂が発生することを防
止するようにしたものである。
（実　施　例） 以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。
第１図は本発明の処理液ポッド製造装置内に設けられる
シーラーの斜視図である。なお、本発明の製造装置のシ
ーラー以外の構造は、第６図に示した装置と同様である
ので、ここでは装置の他の部分についての説明は省略す
る。
図示の一対のシーラー２１．２２のうち、一方のシーラ
ー２１のシール面２１ａは平坦であり、他方のシーラー
２２のシール面２２ａには、ポッド材料１の幅方向に、
複数の凹部が形成されている。上記シール面２２ａの凹
部２２ｂは、Ｍ２図に示すように、断面形状が一例とし
て底辺ｙｚが２００μｍ、高さＸ、カ１５０μｍの三角
形となっており、凸Ｈ２２ｃは断面形状が一例として上
底ｙ１が４００μｍの台形となっている。このような一
対のシーラー２１゜２２を用いることにより、本装置に
おいてはポッド材料１のヒートシールを良好に行うこと
ができるようになっている。以下、第３図および第４図
を参照して上記シーラー２１．２２によるヒートシール
について詳細に説明する。
第３図（ａ）、　　（ｂ）、　　（ｃ）は、ヒートシー
ル時のシーラー２１．２２およびポッド材料１の各層の
状態を示す断面図であり、第４図（ａ）、　　（ｂ）（
Ｃ）はヒートシール時のポッド材料１内における処理液
およびポリ塩化ビニール層の流動を示す概略図である。
なお、第３図（ａ）と第４図（ａ）、第３図（ｂ）と第
４図（ｂ）、第３図（ｃ）と第４図（Ｃ）はそれぞれ経
時的に対応している。
ヒートシール時にシーラー２１．２２が加熱されつつ互
いに接近してポッド材料１を挾持、押圧すると、紙層Ｉ
Ａ、アルミ層ＩＢ、ポリ塩化ビニール層ＩＣからなるポ
ッド材料１内に充填されていた処理液１２は、ヒートシ
ール部分から押し出されるが、上記処理液１２の中でも
、まず、シーラー２２の凸部２２ｃと重なり合う部分に
ある処理液が第４図（ａ）に実線矢印で示す方向、すな
わちポッド材料１の長さ方向（第４図上下方向）および
凹部２２ｂ方向に向かって流動せしめられる。なお、第
４図（ａ）、　　（ｂ）、　　（ｃ）において斜線で示
す部分は、いずれも処理液１２の存在する部分である。
第３図（ｂ）に示すようにシーラー２１．２２がさらに
接近してポッド材料を押圧すると、凸部２２ｃと重なり
合う部分からは処理液１２がすべて排除され、続いて凸
部２２ｃと重なり合う部分のポリ塩化ビニール層ＩＣが
第４図（ｂ）に破線矢印で示す方向に流動を始める。こ
れにより凹部２２ｂと重なり合う部分に流入していた処
理液１２は第４図（ｂ）に実線矢印で示す方向に押し出
される。シーラー２１゜２２は第３図（ｃ）に示すよう
になおも接近を続けてポッド材料を押圧してポリ塩化ビ
ニール層ＩＣを流動させ、この流動したポリ塩化ビニー
ル層は四部２２ｂと重なり合う位置に入りこんで、この
部分の処理液１２をすべて排出させて互いに融着する。
従って第４図（ｃ）に破線矢印で示すように四部２２ｂ
と重なり合う部分からポッド材料１の長さ方向にポリ塩
化ビニール層が若干流動する程度にまでシーラー２１．
２２を接近させてヒートシールを行えば、ヒートシール
部分からは処理液が完全に排除されるので、ヒートシー
ル部分に処理液が侵入したり、処理液の排除が不完全に
なって発泡を生じさせるおそれがなくなる。これととも
にポリ塩化ビニール層の流動は各凹部に対応する部分に
分散するので、流動が一箇所に集中してポリ塩化ビニー
ル層が大きく曲げられ、亀裂を発生させるといった不都
合も生じない。このように水装置テハ処理液とポリ塩化
ビニール層の流動をコントロールすることによって、ヒ
ートシールを良好に、がつ確実に行えるようになった。
よって、ヒートシールに要する時間を従来よりも短縮し
てもヒートシールの性能を低下させることがな（、高速
製造が可能となる。例えばシール時間を０．１秒とした
場合の液侵入、亀裂、発泡の生じないシール圧力、シー
ル温度の範囲は第５図に斜線で示す部分となる。第５図
から明かなように、安定したヒートシールを行うことの
できる領域は大幅に拡大されるので、従来の約１０倍の
処理液ポッドの高速製造が可能となる。
なお、シーラーのシール面に設けられる凹部の形状、数
等は上記実施例に示したものに限られるものではなく、
装置全体の構成や対象となるポッド材料の材質等により
、適宜変更しうるちのであることは言うまでもない。
（発明の効果） 以上説明したように本発明の処理液ポッド製造装置によ
れば、一対のシーラーの少なくとも一方のシール面に複
数の四部を形成したことにより、ヒートシール部分に処
理液の侵入、亀裂、発泡等が生じにくくなり、処理液ポ
ッドの高速製造が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の処理液ポッド製造装置におｊするシー
ラーの斜視図、 第２図は上記シーラーのシール面の形状を示す概略図、 第３図（ａ）、（ｂ）、ＣＣ’）はヒートシール時のポ
ッド材料内の状態を示す断面図、第４図（ａ）、（ｂ）
、（Ｃ）はヒートシール時の処理液およびポリ塩化ビニ
ール層の流動を説明するための概略図、 第５図は本装置においてヒートシールを良好に行うこと
のできるシール温度とシール圧力の範囲を示すグラフ、 第６図は従来の処理液ポッド製造装置の概略図、第７図
は従来の装置におけるシーラーの斜視図、第８図（ａ）
、（ｂ）、　　（ｃ）は従来の装置におけるヒートシー
ル後のポッド材料内の状態を示す断面図、 第９図（ａ）、（ｂ）は従来の装置においてヒートシー
ルを良好に行うことのできるシール温度とシール圧力の
範囲を示すグラフである。 １・・・ポッド材料　　　　１′・・・処理液ポッド１
Ａ・・・紙層　　　　　　ＩＢ・・・アルミ層ＩＣ・・
・ポリ塩化ビニール層 １０・・・縦方向シーラー　　１１・・・ノズル１２・
・・処理液　　　　　　２１．２２・・・シーラー２１
ａ　、　２２ａ・・・シール面　２２ｂ・・・四部２２
ｃ・・・凸部　　　　　　３１・・・カッター第２図 ２２ｂ　　２２ｃ 第 Ｏ 図 Ｂ Ａ 第 図 シール五カ （Ｋ（Ｊ／Ｃｍ２） 第 図 第 図 第 図 第 図 （ａ） （ｂ） シ・し反力（Ｋｇ／ｃｍ２）

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 所定の方向に搬送される、筒状に形成されたシート状物
    である長尺のポッド材料内に処理液を充填する処理液充
    填手段、前記ポッド材料の搬送路に該ポッド材料を筒状
    に形成するための縦方向のヒートシーラー、搬送方向に
    一定間隔を空けて該ポッド材料をその幅方向にヒートシ
    ールする一対のシーラー、および該シーラーによるヒー
    トシール部分を切断して前記ポッド材料を複数の処理液
    ポッドに分割するカッターを備えた処理液ポッド製造装
    置において、 前記一対のシーラーのうち少なくとも一方のシール面に
    複数の凹部が前記幅方向に形成されていることを特徴と
    する処理液ポッド製造装置。
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