JPH0244540A - 光学式ディスク及びその製造方法 - Google Patents
光学式ディスク及びその製造方法Info
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- JPH0244540A JPH0244540A JP19416988A JP19416988A JPH0244540A JP H0244540 A JPH0244540 A JP H0244540A JP 19416988 A JP19416988 A JP 19416988A JP 19416988 A JP19416988 A JP 19416988A JP H0244540 A JPH0244540 A JP H0244540A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明はＣＤなどのＲＯＭ型光ディスクに関し特に安価
で量産性に優れた光ディスク及びその製造方法に関する
ものである。
で量産性に優れた光ディスク及びその製造方法に関する
ものである。
〈従来技術とその課題〉
光学式ディスクは再生型（ＲＯＭ型）と読み書き可能な
光ディスク（ＲＡＭ型）があるが、前者はレーザーディ
スク（ＬＤ）やコンパクトディスク（ＣＤ）に代表され
る様に大量に普及し、生産されている。
光ディスク（ＲＡＭ型）があるが、前者はレーザーディ
スク（ＬＤ）やコンパクトディスク（ＣＤ）に代表され
る様に大量に普及し、生産されている。
この様なディスクは特にマスメディアパッケージとして
マガジンや出版物の様に大！ ？ｊｌ製する場合、現状
のＬＤやＣＤの製造方法では、製造価格や量産性に限度
がでてくる。
マガジンや出版物の様に大！ ？ｊｌ製する場合、現状
のＬＤやＣＤの製造方法では、製造価格や量産性に限度
がでてくる。
すなわち、この様なＲＯＭ型光ディスクは、ポリカーボ
ネート（ＰＣ）などの樹脂ベレットを射出成形法を用い
てディスク金型内にマスクリングプロセスにて製造した
凸凹の情報ピットを形成した厚み０．３ｍのニッケル電
鋳のスタンパを装着し、ＰＣを溶融可塑化後高部・高圧
で金型内に樹脂を充填し凸凹ピットを有したディスクを
成形して量産していた。
ネート（ＰＣ）などの樹脂ベレットを射出成形法を用い
てディスク金型内にマスクリングプロセスにて製造した
凸凹の情報ピットを形成した厚み０．３ｍのニッケル電
鋳のスタンパを装着し、ＰＣを溶融可塑化後高部・高圧
で金型内に樹脂を充填し凸凹ピットを有したディスクを
成形して量産していた。
この場合、次工程の反射膜は工程を考えても、この成形
時間で全体のラインスピードが限定されることが多く、
３３０〜３５０°Ｃの樹脂を８０°Ｃ近くまで冷却する
ために、いかに高速化を考えても１０秒前後／ディスク
（１枚当り）が限度であった。
時間で全体のラインスピードが限定されることが多く、
３３０〜３５０°Ｃの樹脂を８０°Ｃ近くまで冷却する
ために、いかに高速化を考えても１０秒前後／ディスク
（１枚当り）が限度であった。
また、この射出成形の工程で凸凹ピットを形成しても、
次工程でのアルミの膜はディスクを数十枚〜数百枚の単
位でバッチ式で真空蒸着することが多く、量産性を考え
ると、真空釜が大きくなり、設備費も高価なものとなる
。
次工程でのアルミの膜はディスクを数十枚〜数百枚の単
位でバッチ式で真空蒸着することが多く、量産性を考え
ると、真空釜が大きくなり、設備費も高価なものとなる
。
さらに、通常射出成形機１台のディスクの製造能力とア
ルミ膜付けの蒸着法では、後者の方が能力が大きく、射
出成形機で蒸着機と能力を連動した場合、成形機間で、
異なるタイトルのスタンバでディスクを製造した場合、
タイトルが混在しやすく管理が難しいなどの問題が有っ
た。
ルミ膜付けの蒸着法では、後者の方が能力が大きく、射
出成形機で蒸着機と能力を連動した場合、成形機間で、
異なるタイトルのスタンバでディスクを製造した場合、
タイトルが混在しやすく管理が難しいなどの問題が有っ
た。
すなわち現状の紙の印刷物の出版物の延長として考えた
場合、高速で短納期で大量にマスメディアを提供する必
要が存り、従来の射出成形やディスク物の蒸着法では、
個々の設備を多数台設置する必要が有り、合理化を進め
ても、限界がでてくる。
場合、高速で短納期で大量にマスメディアを提供する必
要が存り、従来の射出成形やディスク物の蒸着法では、
個々の設備を多数台設置する必要が有り、合理化を進め
ても、限界がでてくる。
く課題を解決するための手段〉
本発明は以上の如くの現況に鑑み成されたものであり。
あらかじめフィルム状に形成された剥Ｍ層、情報ピット
形成層及び反射膜、接着層が順次形成された転写箔を、
熱転写にて透明基盤上に転写し形成された光学式ディス
クとすることで 生産工程が簡略化でき、かつ安価な製造コストで量産性
に優れた光学式ディスクとその製造方法を提供するもの
である。
形成層及び反射膜、接着層が順次形成された転写箔を、
熱転写にて透明基盤上に転写し形成された光学式ディス
クとすることで 生産工程が簡略化でき、かつ安価な製造コストで量産性
に優れた光学式ディスクとその製造方法を提供するもの
である。
〈発明の詳述〉
まず転写フィルムを作製する。第２図Ａに示す如く１例
えばポリエステルなどの汎用で耐熱性の高い樹脂フィル
ム（厚み２５μ）９上にまず剥離層１０としてアクリル
系樹脂を１μの厚みで塗布し、さらにウレタン・セルロ
ース系の樹脂を情報ピット成形層８として１μの厚みで
ロールコートにより順次塗布し、十分乾燥した状態でク
リーンな環境で保存しておく。
えばポリエステルなどの汎用で耐熱性の高い樹脂フィル
ム（厚み２５μ）９上にまず剥離層１０としてアクリル
系樹脂を１μの厚みで塗布し、さらにウレタン・セルロ
ース系の樹脂を情報ピット成形層８として１μの厚みで
ロールコートにより順次塗布し、十分乾燥した状態でク
リーンな環境で保存しておく。
これはディスク製造とは別に事前に準備、ストックして
おく。
おく。
次に第３図に示す如く製造するディスクのスタンバ１４
（厚み１５０μニツケル電鋳２００ Ｘ ２００ＩＩ１
ｍ１）を円筒状の加熱ロールシリンダー１２に巻付け、
固定する。
（厚み１５０μニツケル電鋳２００ Ｘ ２００ＩＩ１
ｍ１）を円筒状の加熱ロールシリンダー１２に巻付け、
固定する。
この時、最終ディスクが８０１φの場合１２０ｍφに比
べ、スタンパの大きさが小さくなるので、より多くの多
面付けをすることができるが、いずれにしても加熱ロー
ルシリンダー１２の大きさ、表面積に合わせて面数を増
やすことができる。
べ、スタンパの大きさが小さくなるので、より多くの多
面付けをすることができるが、いずれにしても加熱ロー
ルシリンダー１２の大きさ、表面積に合わせて面数を増
やすことができる。
この時、使用するスタンバ１４は従来と同じマスタリン
グ工程にて作製した凸凹の情報ピットをもった二ンケル
電鋳によるスタンパである。
グ工程にて作製した凸凹の情報ピットをもった二ンケル
電鋳によるスタンパである。
この加熱ロールシリンダー１２とシリコンゴムのロール
１６間に、前述のコートしたフィルム１１を通し、この
ＰＥＴフィルム上のコートしたウレタン・セルロース系
の情報ピット形成Ｍ８をスタンパＩ４で加熱しエンボシ
ングする。
１６間に、前述のコートしたフィルム１１を通し、この
ＰＥＴフィルム上のコートしたウレタン・セルロース系
の情報ピット形成Ｍ８をスタンパＩ４で加熱しエンボシ
ングする。
このエンボシングはフィルム１１をロールエンボシング
するため３〜１０ｍ／ｗｉｎの速度で連続的に加工する
ことができる。
するため３〜１０ｍ／ｗｉｎの速度で連続的に加工する
ことができる。
その後このエンボスした樹脂表面にアルミニウム蒸着を
連続処理し、第２図Ｂに示す如く凸凹状の樹脂表面に反
射膜６を形成する。
連続処理し、第２図Ｂに示す如く凸凹状の樹脂表面に反
射膜６を形成する。
その後、このアルミ層６の表面に基盤と密着するために
、塩酢ビ系の接着層４を塗布Ｉｔ〜２ｇ／ボに塗布する
。
、塩酢ビ系の接着層４を塗布Ｉｔ〜２ｇ／ボに塗布する
。
この層構成の転写箔で、透明基盤と接着することができ
るが、さらに基盤との密着性を上げるため第４図に示す
如く塩酢ビ系の樹脂層の上にさらにアクリル系の接着層
７を塗布量１〜２ｇ／％に形成しても良い。
るが、さらに基盤との密着性を上げるため第４図に示す
如く塩酢ビ系の樹脂層の上にさらにアクリル系の接着層
７を塗布量１〜２ｇ／％に形成しても良い。
これらの転写箔はフィルム状のため大量に作製すること
ができるほか、薄い樹脂層を情報ピットの転写に感熱ロ
ールエンボスをしているため、成形時のスピードが従来
法と比較して高速化できる。
ができるほか、薄い樹脂層を情報ピットの転写に感熱ロ
ールエンボスをしているため、成形時のスピードが従来
法と比較して高速化できる。
この様にして得た転写箔を透明基盤４に熱ロールで転写
してディスクを作製する。
してディスクを作製する。
この時、透明基ｇＬ２を押出しシートの透明シート、例
えばポリカーボネートシートを連続的に供給し、ロール
転写し後工程で転写した凸凹ピットのグループの芯に合
わせて、内・外径を所定の寸法に打ち抜き工程を設ける
。さらにこのディスクにレーベル印刷２０をするため、
シルクスクリーンやタコ印刷でレーベルを印刷する。
えばポリカーボネートシートを連続的に供給し、ロール
転写し後工程で転写した凸凹ピットのグループの芯に合
わせて、内・外径を所定の寸法に打ち抜き工程を設ける
。さらにこのディスクにレーベル印刷２０をするため、
シルクスクリーンやタコ印刷でレーベルを印刷する。
また、転写後の次工程での打ち抜き工程をはふくため、
あらかじめ、射出成形などで大量に作製した所定の円・
外径・厚みをもった鏡面上の内壁を転写箔のピットのグ
ループの芯と同調させ、転写後部ディスクを形成する方
法もある。
あらかじめ、射出成形などで大量に作製した所定の円・
外径・厚みをもった鏡面上の内壁を転写箔のピットのグ
ループの芯と同調させ、転写後部ディスクを形成する方
法もある。
〈実施例１〉
厚み１．２ｍ、中４０−の光学的透明な複屈接５０ｎｍ
以下のポリカーボネートシート状フィルムに９０゛Ｃ〜
１２０’Ｃに加熱したシリコンロール１０にてあらかし
め情報ピット及び反射層を形成した多層構成の転写箔を
熱転写し、基盤に転写された情報ピットのグループを検
知しながら、上記転写シートを内径１５φ、外径１２０
ｇφの円盤上に打ち抜き所定寸法を有した光学式ディス
クを得た。
以下のポリカーボネートシート状フィルムに９０゛Ｃ〜
１２０’Ｃに加熱したシリコンロール１０にてあらかし
め情報ピット及び反射層を形成した多層構成の転写箔を
熱転写し、基盤に転写された情報ピットのグループを検
知しながら、上記転写シートを内径１５φ、外径１２０
ｇφの円盤上に打ち抜き所定寸法を有した光学式ディス
クを得た。
この時、使用した転写箔は次の様にして加工した透明な
厚み２５μのポリエステルフィルムに厚み１μのアクリ
ル系樹脂の剥離層さらに情報ピット成形として、ランタ
ン・セルロース系の樹脂層を厚み１μの範囲でロール・
コートした。このフィルムを十分乾燥し中２００１にス
リットし、円筒状の加熱シリンダーロールに従来のコン
パクトディスクと同様な方法で得た。凸凹状の情報ピッ
トの形成されたニッケル電鋳よりなるスタンパ（厚み１
５０ ｕ 、 ２００ Ｘ ２００ｎ＋ｓ＋ ）を取
付（加熱ロールにそって巻き付け、固定する。）同加熱
ロールとシリコンゴムからなるプレスロールの間を熱・
圧（１２０°Ｃ〜１７０°Ｃ，２〜６ ｋｇ ／ Ｃｌ
１）により、ウレタン・セルロース系樹脂よりなる成形
層にピットをエンボシングした。
厚み２５μのポリエステルフィルムに厚み１μのアクリ
ル系樹脂の剥離層さらに情報ピット成形として、ランタ
ン・セルロース系の樹脂層を厚み１μの範囲でロール・
コートした。このフィルムを十分乾燥し中２００１にス
リットし、円筒状の加熱シリンダーロールに従来のコン
パクトディスクと同様な方法で得た。凸凹状の情報ピッ
トの形成されたニッケル電鋳よりなるスタンパ（厚み１
５０ ｕ 、 ２００ Ｘ ２００ｎ＋ｓ＋ ）を取
付（加熱ロールにそって巻き付け、固定する。）同加熱
ロールとシリコンゴムからなるプレスロールの間を熱・
圧（１２０°Ｃ〜１７０°Ｃ，２〜６ ｋｇ ／ Ｃｌ
１）により、ウレタン・セルロース系樹脂よりなる成形
層にピットをエンボシングした。
エンボシング後、同巻き取りフィルムを真空蒸着機によ
り約５００〜１０００人の厚みの範囲でアルミニウムを
蒸着し、さらに基材との接着性を持たせるため、蒸着ア
ルミ上に塩酢ビ系樹脂の接着ワックスにてコーティング
した。（塗布量１〜２ｇ／イ） この様にして得た情報記録転写箔を転写した再生型光デ
ィスクの構成を下記に示す。
り約５００〜１０００人の厚みの範囲でアルミニウムを
蒸着し、さらに基材との接着性を持たせるため、蒸着ア
ルミ上に塩酢ビ系樹脂の接着ワックスにてコーティング
した。（塗布量１〜２ｇ／イ） この様にして得た情報記録転写箔を転写した再生型光デ
ィスクの構成を下記に示す。
〈実施例２〉
実施例１と同様に基盤上に、あらかじめ、情報ピット及
び反射層を形成した多層構成の転写箔を熱転写し、基盤
に転写された情報ピットのグループを検知しながら、上
記転写シートを内径１５ｇ＋／ｍφ、外径１２０１φの
円盤上に打ち抜き所定寸法を有した光学式ディスクを得
た。
び反射層を形成した多層構成の転写箔を熱転写し、基盤
に転写された情報ピットのグループを検知しながら、上
記転写シートを内径１５ｇ＋／ｍφ、外径１２０１φの
円盤上に打ち抜き所定寸法を有した光学式ディスクを得
た。
この時使用した転写箔は、次の様な加工法により得たも
のである。透明な厚み２５μのポリエステルフィルムに
最初に転写時の剥離層としてアクリル系樹脂を厚み１μ
で塗布しさらにその上に情報ピット、成形層としてウレ
タン・セルロース系ワンスをロールコートにて塗布した
。（塗布厚み１μ） このフィルムを十分乾燥し、中２００ ｍにスリットし
、円筒状の加熱シリンダーロールに従来のコンパクト・
ディスクと同様な方法で得た凸凹状の情報ピットの形成
されたニッケル電鋳よりなるスタンパ（厚み１５０μ、
２００Ｘ ２００閤）を取付けし、加熱ロールにそ
って巻き付は固定する。
のである。透明な厚み２５μのポリエステルフィルムに
最初に転写時の剥離層としてアクリル系樹脂を厚み１μ
で塗布しさらにその上に情報ピット、成形層としてウレ
タン・セルロース系ワンスをロールコートにて塗布した
。（塗布厚み１μ） このフィルムを十分乾燥し、中２００ ｍにスリットし
、円筒状の加熱シリンダーロールに従来のコンパクト・
ディスクと同様な方法で得た凸凹状の情報ピットの形成
されたニッケル電鋳よりなるスタンパ（厚み１５０μ、
２００Ｘ ２００閤）を取付けし、加熱ロールにそ
って巻き付は固定する。
同加熱ロールとシリコンゴムからなるプレスロールの間
を熱圧によりウレタン・セルロース系樹脂層（情報ピッ
ト成形層）にピットをエンボシングした。
を熱圧によりウレタン・セルロース系樹脂層（情報ピッ
ト成形層）にピットをエンボシングした。
エンボシング後、同巻き取りフィルムを真空蒸着機によ
り約５００〜１０００人の厚みの範囲でアルミニウムを
蒸着し、アルミニウム膜との接着性を付与するため、ア
ルミニウム膜上に塩酢ビ系樹脂をコートしく塗布量１〜
２ ｇ／ｒｒｆ） 、さらに基材との接着性を付与する
ため、アクリル系樹脂（塗布ｉｔ〜２ ｇ／ｒｒｆ）を
コーティングした。
り約５００〜１０００人の厚みの範囲でアルミニウムを
蒸着し、アルミニウム膜との接着性を付与するため、ア
ルミニウム膜上に塩酢ビ系樹脂をコートしく塗布量１〜
２ ｇ／ｒｒｆ） 、さらに基材との接着性を付与する
ため、アクリル系樹脂（塗布ｉｔ〜２ ｇ／ｒｒｆ）を
コーティングした。
この様にして得た情報記録転写箔を転写した再生型光デ
ィスクの構成を下記に示した。
ィスクの構成を下記に示した。
〈実施例３〉
実施例２と同様の情報ピットを形成した多層構成の転写
箔を用いて、インジュクション成形により得た内径５ｆ
ｌＩＩＩφ、外径１２０＋ｍφ、厚み１．２ｍ／ｍの鏡
面状のサブストレート（基盤）を用い、上記Ｓ盤上に形
成された内径１５備φの穴のセンターの位置と転写フィ
ルム上に形成された。
箔を用いて、インジュクション成形により得た内径５ｆ
ｌＩＩＩφ、外径１２０＋ｍφ、厚み１．２ｍ／ｍの鏡
面状のサブストレート（基盤）を用い、上記Ｓ盤上に形
成された内径１５備φの穴のセンターの位置と転写フィ
ルム上に形成された。
情報ピットのグループのセンターを同調させ、熱転写し
た。この方法では、転写後に実施例１この様なシート基
材と異なるため、転写後の後加工によるトリミングを必
要としない。
た。この方法では、転写後に実施例１この様なシート基
材と異なるため、転写後の後加工によるトリミングを必
要としない。
〈発明の効果〉
本発明は以上の如くであり、転写方法を用いて、情報ビ
ットを透明基盤上に熱転写することにより、前述した様
に転写箔がフィルム状のため連続で大量に高速で複製す
ることが可能であり、基盤との熱転写も、自動化した装
置を開発することにより、省力化、大量作製が可能とな
った。
ットを透明基盤上に熱転写することにより、前述した様
に転写箔がフィルム状のため連続で大量に高速で複製す
ることが可能であり、基盤との熱転写も、自動化した装
置を開発することにより、省力化、大量作製が可能とな
った。
この様にして得たディスクは、従来方法のディスクと比
較し、Ｐｈ１ｌｉｐｓ／５ｏｎｙのＲｅｄ Ｂｏｏｋ上
に記載されたディスクの規格にあり、現在使用されであ
るＣＤプレーヤーで、従来製法のディスク同様に再生が
可能となる。
較し、Ｐｈ１ｌｉｐｓ／５ｏｎｙのＲｅｄ Ｂｏｏｋ上
に記載されたディスクの規格にあり、現在使用されであ
るＣＤプレーヤーで、従来製法のディスク同様に再生が
可能となる。
また、ディスクのエラーレートも上記規格内の範囲内に
あった。
あった。
第１図、第４図は本発明による光学式ディスクの断面を
示す説明図、第２図は本発明の光学式ディスクを得る為
のそれぞれの工程を示す説明図。 第３図は本発明による転写工程を示す説明図。 ２−−−−−−一透明基盤 ４．７−・−・・−・接
着層６−−−−−−−・反射（アルミ）層 ８−・−情
報ピット形成層ｌＯ−〜−−−剥離層 １１−−−−−
−−・コーティングフィルム１２−−−〜−−ロールシ
リンダー １４−−−−−−スタンバ １６ 加圧ロール特
許 出 願 人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴木和夫 第１図 第４図 第２閉Ｃ 第３図
示す説明図、第２図は本発明の光学式ディスクを得る為
のそれぞれの工程を示す説明図。 第３図は本発明による転写工程を示す説明図。 ２−−−−−−一透明基盤 ４．７−・−・・−・接
着層６−−−−−−−・反射（アルミ）層 ８−・−情
報ピット形成層ｌＯ−〜−−−剥離層 １１−−−−−
−−・コーティングフィルム１２−−−〜−−ロールシ
リンダー １４−−−−−−スタンバ １６ 加圧ロール特
許 出 願 人 凸版印刷株式会社 代表者 鈴木和夫 第１図 第４図 第２閉Ｃ 第３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）あらかじめフィルム状に形成された剥離層、情報ピ
ット形成層及び反射膜、接着層が順次形成された転写箔
を、熱転写にて透明基盤上に転写し形成された光学式デ
ィスク。 ２）あらかじめフィルム状に形成された剥離層、情報ピ
ット形成層及び反射膜、接着層が順次形成された転写箔
を、熱転写にて透明基盤上に転写することで光学式ディ
スクを得る光学式ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19416988A JPH0244540A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 光学式ディスク及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19416988A JPH0244540A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 光学式ディスク及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0244540A true JPH0244540A (ja) | 1990-02-14 |
Family
ID=16320077
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19416988A Pending JPH0244540A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 光学式ディスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0244540A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03276436A (ja) * | 1990-03-26 | 1991-12-06 | Toppan Printing Co Ltd | 光学式記録媒体の製造方法 |
| US5330880A (en) * | 1991-09-03 | 1994-07-19 | Hitachi, Ltd. | Process for producing optical disks |
-
1988
- 1988-08-03 JP JP19416988A patent/JPH0244540A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03276436A (ja) * | 1990-03-26 | 1991-12-06 | Toppan Printing Co Ltd | 光学式記録媒体の製造方法 |
| US5330880A (en) * | 1991-09-03 | 1994-07-19 | Hitachi, Ltd. | Process for producing optical disks |
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