JPH0244335U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0244335U JPH0244335U JP12381588U JP12381588U JPH0244335U JP H0244335 U JPH0244335 U JP H0244335U JP 12381588 U JP12381588 U JP 12381588U JP 12381588 U JP12381588 U JP 12381588U JP H0244335 U JPH0244335 U JP H0244335U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductivity type
- layer
- separation layer
- impurity concentration
- semiconductor regions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 9
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Element Separation (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Description
第1図および第2図が本考案に関し、第1図は
本考案による半導体領域間接合分離構造の実施例
を主な工程ごとの状態で示す集積回路装置の一部
拡大断面図、第2図はその等価回路図である。第
3図および第4図はそれぞれ異なる従来の接合分
離構造を例示する集積回路装置の一部拡大断面図
である。図において、 1:半導体基板、2:外側埋込分離層、3:内
側埋込分離層、4:半導体領域下の埋込層、5:
エピタキシヤル層、6:ドレインコンタクト層、
7:外側分離層、8:内側分離層、10:半導体
領域、11:チヤネル形成層、12:ゲート、1
3:ソース層、14:電極膜、20,21:DM
OS形ないし縦形電界効果トランジスタ、C:キ
ヤパシタないし接合容量、D:ドレイン端子、E
:接地端子ないしは接地電位、G:ゲート端子、
R1〜R3:抵抗、S:ソース端子、w:分離層
の幅、である。
本考案による半導体領域間接合分離構造の実施例
を主な工程ごとの状態で示す集積回路装置の一部
拡大断面図、第2図はその等価回路図である。第
3図および第4図はそれぞれ異なる従来の接合分
離構造を例示する集積回路装置の一部拡大断面図
である。図において、 1:半導体基板、2:外側埋込分離層、3:内
側埋込分離層、4:半導体領域下の埋込層、5:
エピタキシヤル層、6:ドレインコンタクト層、
7:外側分離層、8:内側分離層、10:半導体
領域、11:チヤネル形成層、12:ゲート、1
3:ソース層、14:電極膜、20,21:DM
OS形ないし縦形電界効果トランジスタ、C:キ
ヤパシタないし接合容量、D:ドレイン端子、E
:接地端子ないしは接地電位、G:ゲート端子、
R1〜R3:抵抗、S:ソース端子、w:分離層
の幅、である。
Claims (1)
- 一方の導電形の半導体基板上に設けられた他方
の導電形の半導体領域を一方の導電形の分離層に
よつて相互に接合分離され集積回路を構成する回
路要素をそれぞれ作り込むべき複数個の半導体領
域に分割する構造であつて、分離層を一方の導電
形の外側分離層とこの外側分離層の中に作り込ま
れた高不純物濃度をもつ一方の導電形の内側分離
層とで構成し、外側分離層の不純物濃度を同じ導
電形の内側分離層の不純物濃度よりは低く、異な
る導電形の半導体領域の不純物濃度と空乏層の広
がりに対して実質的に等価な濃度値に選定したこ
とを特徴とする集積回路装置における半導体領域
間接合分離構造。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12381588U JPH075639Y2 (ja) | 1988-09-21 | 1988-09-21 | 集積回路装置における半導体領域間接合分離構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12381588U JPH075639Y2 (ja) | 1988-09-21 | 1988-09-21 | 集積回路装置における半導体領域間接合分離構造 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0244335U true JPH0244335U (ja) | 1990-03-27 |
JPH075639Y2 JPH075639Y2 (ja) | 1995-02-08 |
Family
ID=31373014
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12381588U Expired - Lifetime JPH075639Y2 (ja) | 1988-09-21 | 1988-09-21 | 集積回路装置における半導体領域間接合分離構造 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH075639Y2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004128138A (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-22 | Sanyo Electric Co Ltd | 接合型fetおよびその製造方法 |
-
1988
- 1988-09-21 JP JP12381588U patent/JPH075639Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004128138A (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-22 | Sanyo Electric Co Ltd | 接合型fetおよびその製造方法 |
JP4623923B2 (ja) * | 2002-10-01 | 2011-02-02 | 三洋電機株式会社 | 接合型fetおよびその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH075639Y2 (ja) | 1995-02-08 |
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