JPH0243393A - パラジウムめっき液 - Google Patents
パラジウムめっき液Info
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Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明はパラジウムめっき液に関する。
〈従来の技術〉
一般にパラジウムめっきは、電気特性に優れていること
、そして金めっきなどの貴金属めっきに比べて価格が安
いことなどが広く知られている。
、そして金めっきなどの貴金属めっきに比べて価格が安
いことなどが広く知られている。
また、このパラジウムめっきには、99%以上の純パラ
ジウムを析出させる場合、析出物の内部応力が高くなり
易いためにめっきの厚付け・展延が困難であったり、或
いはめっき厚を実用的な5μm以下にしても光沢がでな
かったりするというような実用的課題が残されており、
現在でも種々の検討・開発が行われている。
ジウムを析出させる場合、析出物の内部応力が高くなり
易いためにめっきの厚付け・展延が困難であったり、或
いはめっき厚を実用的な5μm以下にしても光沢がでな
かったりするというような実用的課題が残されており、
現在でも種々の検討・開発が行われている。
例えば、パラジウム析出物の内部応力を低下させるため
にニッケルを共析させたり、或いは光沢性を改善するた
めにセレンを添加したりした例も提案されている(特開
昭63−11119/I号参照)。
にニッケルを共析させたり、或いは光沢性を改善するた
めにセレンを添加したりした例も提案されている(特開
昭63−11119/I号参照)。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、このような従来の技術にあっても、パラ
ジウムめっきの実用的課題を十分に解決するものではな
かった。特に、光沢性改善のためにセレン等を添加した
りする場合には、その添加物の毒性が非常に高いために
、めっき作業の環境問題に関連した別の課題を生しるお
それがある。
ジウムめっきの実用的課題を十分に解決するものではな
かった。特に、光沢性改善のためにセレン等を添加した
りする場合には、その添加物の毒性が非常に高いために
、めっき作業の環境問題に関連した別の課題を生しるお
それがある。
この発明は、このような従来技術に着目して為されたも
のであり、低応力で且つ光沢性の良い析出物を得ること
ができるパラジウムめっき液を提供せんとするものであ
る。
のであり、低応力で且つ光沢性の良い析出物を得ること
ができるパラジウムめっき液を提供せんとするものであ
る。
〈課題を解決するための手段〉
この発明に係るパラジウムめっき液は、上記の目的を達
成するために、パラトスアンミンクロライドをパラジウ
ム量として1〜50g#2、ピリジンスルホン酸又はそ
の塩を0.5〜30g/I!.、ランタニド系金属の可
溶性塩をランタニド系金属量としてo、 i〜100p
、p、m.、含んでいるものである。
成するために、パラトスアンミンクロライドをパラジウ
ム量として1〜50g#2、ピリジンスルホン酸又はそ
の塩を0.5〜30g/I!.、ランタニド系金属の可
溶性塩をランタニド系金属量としてo、 i〜100p
、p、m.、含んでいるものである。
パラジウムは、めっき液中にパラドスアンミンクロライ
ド又はそれをアンモニア水に溶解させた形態で添加され
なければならない。そうしないと、低応力で伸展性があ
り密着性の高い析出物を厚付けできるというこの発明本
来の作用を損なうことになる。また、このパラトスアン
ミンクロライドは、パラジウム(Pd)量に換算して、
めっき液中に1〜50g/I!、(好ましくは、10〜
30g/1.)の割合で添加される石のである。
ド又はそれをアンモニア水に溶解させた形態で添加され
なければならない。そうしないと、低応力で伸展性があ
り密着性の高い析出物を厚付けできるというこの発明本
来の作用を損なうことになる。また、このパラトスアン
ミンクロライドは、パラジウム(Pd)量に換算して、
めっき液中に1〜50g/I!、(好ましくは、10〜
30g/1.)の割合で添加される石のである。
ピリジンスルホン酸又はその塩は、有機光沢剤として作
用するものであり、ピリジン3スルホニツクアシド、ピ
リジン3スルホニツクアシドソジウムソルト、ピリジン
3スルホニνクアシドポクシウムソルト、ピリジン4ス
ルホニツクアシドなどが好適である。また、このピリジ
ンスルホン酸又はその塩は、めっき液中に0.5〜30
g/ff1(好ましくは、3〜10 g/l>の割合
で添加されるものである。
用するものであり、ピリジン3スルホニツクアシド、ピ
リジン3スルホニツクアシドソジウムソルト、ピリジン
3スルホニνクアシドポクシウムソルト、ピリジン4ス
ルホニツクアシドなどが好適である。また、このピリジ
ンスルホン酸又はその塩は、めっき液中に0.5〜30
g/ff1(好ましくは、3〜10 g/l>の割合
で添加されるものである。
ランタニド系金属とは、原子番号57〜71までの15
元素である。すなわち、ランタン、セリウム、プラセオ
ジム、プロメチウム、サマリウム、ユウロピウム、ガド
リニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、
エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウムの
各希土類元素であり、これらは化学的性質、挙動が酷領
しており使用し易く、この中でも特にセリウムが使用し
易い。
元素である。すなわち、ランタン、セリウム、プラセオ
ジム、プロメチウム、サマリウム、ユウロピウム、ガド
リニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、
エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウムの
各希土類元素であり、これらは化学的性質、挙動が酷領
しており使用し易く、この中でも特にセリウムが使用し
易い。
そして、このランタニド系金属は、硫酸塩、硝酸塩、酢
酸塩、しゅう酸塩、臭化物、塩化物のような可溶性塩と
して、あるいはエチレンジアミン4酢酸(EDTA)
、ニトリロ3酢酸(NTA)等の有機キレート化剤の共
存下で、めっき液中に添加される。このランタニド系金
属の可溶性塩は、無機金属光沢剤として作用するもので
あり、めっき液中にo、 i〜100p、p、m、 (
好ましくは、1〜20 p、p、m、 )の割合で添加
されるものである。
酸塩、しゅう酸塩、臭化物、塩化物のような可溶性塩と
して、あるいはエチレンジアミン4酢酸(EDTA)
、ニトリロ3酢酸(NTA)等の有機キレート化剤の共
存下で、めっき液中に添加される。このランタニド系金
属の可溶性塩は、無機金属光沢剤として作用するもので
あり、めっき液中にo、 i〜100p、p、m、 (
好ましくは、1〜20 p、p、m、 )の割合で添加
されるものである。
また、めっき液に導電性を付与するための伝導塩として
は、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、塩化アンモ
ニウムなどが好適である。
は、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、塩化アンモ
ニウムなどが好適である。
そして、めっき液のpHは、5〜12(好ましくは7〜
9)に調整されなければならない。このpH調整は、ア
ンモニア水と希硫酸を用いて行うのが好ましい。
9)に調整されなければならない。このpH調整は、ア
ンモニア水と希硫酸を用いて行うのが好ましい。
めっきを行う際の電流密度としては、静止めっきの場合
は0,5〜5A/d%(好ましくは、1〜3A/dn(
)で、ジェットめっきの場合は10〜100A/dボ(
好ましくは20〜70A/dポ)で行う。
は0,5〜5A/d%(好ましくは、1〜3A/dn(
)で、ジェットめっきの場合は10〜100A/dボ(
好ましくは20〜70A/dポ)で行う。
〈実 施 例〉
以下、この発明の好適な実施例を説明する。
夫隻尉よ
めっき液の組成:
バラドスアンミンク口ライド−−−−−15g/ff1
(Pd量として) ピリジン3スルホニツクアシドーー−−−−−5g/I
2゜硝酸セリウム −−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−10p、p、m。
(Pd量として) ピリジン3スルホニツクアシドーー−−−−−5g/I
2゜硝酸セリウム −−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−10p、p、m。
(セリウム量として)
150g/ff1
20 g/l1
10mg/ffi
硝酸アンモニウム
塩化アンモニウム
高分子界面活性剤
めっき条件(静止めっき):
アンモニア水又は希硫酸により
温 度
陽 極
p H8,0
60°C
チタンに白金めっき
した不溶性アノード
被めっき物−−−−−−−−−−−−−−−−一−−−
−−−−−−真鍮板に光沢ニッケルめっきし鏡面光沢 に仕上げた上にパラ ジウムめっきを施し たテストピース 電流密度−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−2A/dnf時 間 −−−一−−−=−−−
−−−−−−−−−−−−−5分間このような組成、条
件のもとで得られたパラジウム析出物は、元のテストピ
ースの外観(パラジウムストライクした外観)とほぼ同
等の鏡面光沢があり、めっき厚も3μmあって、良好な
密着性を有したものであった。そして、このパラジウム
めっきを施したテストピースの折曲試験も行ったが、表
面のパラジウム析出物にクランクなどは発生しなかった
。
−−−−−−真鍮板に光沢ニッケルめっきし鏡面光沢 に仕上げた上にパラ ジウムめっきを施し たテストピース 電流密度−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−2A/dnf時 間 −−−一−−−=−−−
−−−−−−−−−−−−−5分間このような組成、条
件のもとで得られたパラジウム析出物は、元のテストピ
ースの外観(パラジウムストライクした外観)とほぼ同
等の鏡面光沢があり、めっき厚も3μmあって、良好な
密着性を有したものであった。そして、このパラジウム
めっきを施したテストピースの折曲試験も行ったが、表
面のパラジウム析出物にクランクなどは発生しなかった
。
更に、この実施例に係るパラジウムめっき液は、毒性の
高い成分を一切含んでいないので、めっき作業現場から
毒性成分を排除することができ、作業環境の改善に寄与
することができる。
高い成分を一切含んでいないので、めっき作業現場から
毒性成分を排除することができ、作業環境の改善に寄与
することができる。
実11津%
めっき液の組成:
パラドスアンミンクロライドーーーー−25g/1(P
d量として) ピリジン3スルホニックアシドー−−−−108/ I
!。
d量として) ピリジン3スルホニックアシドー−−−−108/ I
!。
硫酸セリウム−E D T A −−−−−−−−−−
−−−−209−p、111゜(セリウム量として) 硝酸アンモニウムー−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−200g / 1塩化アンモニウム −−−
−−−−−−−−−−−−−40gZl高分子界面活性
剤−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
10mg/ 1めっき条件(ジェットめっき): アンモニア水又は希硫酸により −−−−−−−−、p
H8,5温 度−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−60°C
陽 極−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−一タンタルに白金クラッドした不溶性アノード 被めっき物−−−−−−−−−−−−−一−−−−−−
−−−−−−−−−−−−一実施例1と同じ電流密度−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−60A / d nf時 間−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−20秒間この実
施例は、先の硝酸セリウムの代わりにEDTA存在下の
セリウムを使用した。また、めっき方法もジェットめっ
きに変えて行った。このような組成、条件のもとで得ら
れたパラジウム析出物は、先の実施例同様に元のテスト
ピースの外観(パラジウムストライクした外観)とほぼ
同等の鏡面光沢があり、めっき厚は5μmあった。そし
て、得られたテストピースの折曲試験を行ったが、パラ
ジウム析出物にクラックなどは発生せず、密着性及び伸
展性に優れていることが証明された。
−−−−209−p、111゜(セリウム量として) 硝酸アンモニウムー−−−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−200g / 1塩化アンモニウム −−−
−−−−−−−−−−−−−40gZl高分子界面活性
剤−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
10mg/ 1めっき条件(ジェットめっき): アンモニア水又は希硫酸により −−−−−−−−、p
H8,5温 度−−−−−−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−60°C
陽 極−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−−一タンタルに白金クラッドした不溶性アノード 被めっき物−−−−−−−−−−−−−一−−−−−−
−−−−−−−−−−−−一実施例1と同じ電流密度−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−
−60A / d nf時 間−−−−−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−−−20秒間この実
施例は、先の硝酸セリウムの代わりにEDTA存在下の
セリウムを使用した。また、めっき方法もジェットめっ
きに変えて行った。このような組成、条件のもとで得ら
れたパラジウム析出物は、先の実施例同様に元のテスト
ピースの外観(パラジウムストライクした外観)とほぼ
同等の鏡面光沢があり、めっき厚は5μmあった。そし
て、得られたテストピースの折曲試験を行ったが、パラ
ジウム析出物にクラックなどは発生せず、密着性及び伸
展性に優れていることが証明された。
ル較桝
次に、先に示した実施例1のめっき液から硝酸セリウム
を除いた組成のパラジウムめっき液を用いて、実施例1
と同様の条件に従ってテストピースにパラジウムめっき
を施した。この比較例で得られたテストピースの表面光
沢には、「むら」や「しみ」があり、均一な光沢状態が
得られなかった。
を除いた組成のパラジウムめっき液を用いて、実施例1
と同様の条件に従ってテストピースにパラジウムめっき
を施した。この比較例で得られたテストピースの表面光
沢には、「むら」や「しみ」があり、均一な光沢状態が
得られなかった。
〈発明の効果〉
この発明に係るパラジウムめっき液を使用して得られた
パラジウム析出物は、光沢性があると共に低応力であり
、折り曲げてもクランクが発生しない密着性と伸展性に
優れたものであった。
パラジウム析出物は、光沢性があると共に低応力であり
、折り曲げてもクランクが発生しない密着性と伸展性に
優れたものであった。
更に、この発明のパラジウムめっき液は、毒性成分を一
切含まないので、めっき作業現場から毒性成分を排除す
ることができ、めっき作業環境の改善に寄与することが
できる。
切含まないので、めっき作業現場から毒性成分を排除す
ることができ、めっき作業環境の改善に寄与することが
できる。
Claims (3)
- (1)パラドスアンミンクロライドをパラジウム量とし
て1〜50g/l、ピリジンスルホン酸又はその塩を0
.5〜30g/l、ランタニド系金属の可溶性塩をラン
タニド系金属量として0.1〜100p.p.m.、含
むことを特徴とするパラジウムめっき液。 - (2)ランタニド系金属の可溶性塩が、セリウムの硫酸
塩、硝酸塩、酢酸塩、しゅう酸塩、臭化物、塩化物の中
から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする特
許請求の範囲1記載のパラジウムめっき液。 - (3)伝導塩として、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニ
ウム、塩化アンモニウムの中から選ばれた少なくとも1
種を含むことを特徴とする特許請求の範囲1又は2記載
のパラジウムめっき液。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19059188A JPH0826472B2 (ja) | 1988-08-01 | 1988-08-01 | パラジウムめっき液 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19059188A JPH0826472B2 (ja) | 1988-08-01 | 1988-08-01 | パラジウムめっき液 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0243393A true JPH0243393A (ja) | 1990-02-13 |
JPH0826472B2 JPH0826472B2 (ja) | 1996-03-13 |
Family
ID=16260616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19059188A Expired - Lifetime JPH0826472B2 (ja) | 1988-08-01 | 1988-08-01 | パラジウムめっき液 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0826472B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05271980A (ja) * | 1992-03-30 | 1993-10-19 | Yazaki Corp | パラジウム−ニッケル合金メッキ液 |
JP2008266994A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Ishida Taiseisha Inc | 可動開閉装置 |
JP2010031300A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-12 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | パラジウムおよびパラジウム合金の高速めっき方法 |
US9909357B2 (en) | 2013-07-29 | 2018-03-06 | Kyushu Nanotec Optics Co., Ltd. | Opening and closing device |
CN111893528A (zh) * | 2020-07-09 | 2020-11-06 | 陕西优创环保科技有限公司 | 一种在基底金属上电镀的光亮镀铂溶液 |
JP2022504178A (ja) * | 2018-10-22 | 2022-01-13 | ウミコレ・ガルファノテフニック・ゲーエムベーハー | 熱安定性銀合金コーティング |
-
1988
- 1988-08-01 JP JP19059188A patent/JPH0826472B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05271980A (ja) * | 1992-03-30 | 1993-10-19 | Yazaki Corp | パラジウム−ニッケル合金メッキ液 |
JP2008266994A (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-06 | Ishida Taiseisha Inc | 可動開閉装置 |
JP2010031300A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-02-12 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | パラジウムおよびパラジウム合金の高速めっき方法 |
US9909357B2 (en) | 2013-07-29 | 2018-03-06 | Kyushu Nanotec Optics Co., Ltd. | Opening and closing device |
JP2022504178A (ja) * | 2018-10-22 | 2022-01-13 | ウミコレ・ガルファノテフニック・ゲーエムベーハー | 熱安定性銀合金コーティング |
CN111893528A (zh) * | 2020-07-09 | 2020-11-06 | 陕西优创环保科技有限公司 | 一种在基底金属上电镀的光亮镀铂溶液 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0826472B2 (ja) | 1996-03-13 |
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