JPH0242089A - オルガノシロキサン化合物 - Google Patents
オルガノシロキサン化合物Info
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- -1 Organosiloxane compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 186
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 48
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 claims abstract description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 25
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 18
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 17
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 13
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 abstract description 35
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 abstract description 35
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 29
- HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N hexamethylcyclotrisiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000003999 initiator Substances 0.000 abstract description 6
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 abstract description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 abstract 1
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 52
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 41
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 36
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 22
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 21
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 21
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 21
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 21
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 19
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 18
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 18
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 17
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 17
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 12
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 12
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 10
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- UZXPYPDEJOUUNR-UHFFFAOYSA-N trimethyl(2-prop-2-enoxyethoxy)silane Chemical compound C[Si](C)(C)OCCOCC=C UZXPYPDEJOUUNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 10
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 8
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 7
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 6
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 2
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 description 2
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 2
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 2
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 2
- RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N ethoxy(trimethyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C RSIHJDGMBDPTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIRNGVVZBINFMX-UHFFFAOYSA-N 2-allylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1CC=C QIRNGVVZBINFMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCYHRYNSUGLLMA-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoxyethanol Chemical compound OCCOCC=C GCYHRYNSUGLLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAKCOSURAUIXFG-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxypropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)COCC=C PAKCOSURAUIXFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVFRRJQWRZFDLM-UHFFFAOYSA-N 5-[3-bromo-4-(dimethylamino)phenyl]-2,2-dimethyl-2,3,5,6-tetrahydrobenzo[a]phenanthridin-4(1H)-one Chemical compound C1=C(Br)C(N(C)C)=CC=C1C1C(C(=O)CC(C)(C)C2)=C2C2=C3C=CC=CC3=CC=C2N1 NVFRRJQWRZFDLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- MXOSTENCGSDMRE-UHFFFAOYSA-N butyl-chloro-dimethylsilane Chemical compound CCCC[Si](C)(C)Cl MXOSTENCGSDMRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012668 chain scission Methods 0.000 description 1
- JHCJWHBMXWOYDE-UHFFFAOYSA-N chloro-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl)-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JHCJWHBMXWOYDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQRFRTCWNCVQHI-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl)silane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F PQRFRTCWNCVQHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKYGPHVLITVSJE-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F AKYGPHVLITVSJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCXVDEMHEKQQCI-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-propan-2-ylsilane Chemical compound CC(C)[Si](C)(C)Cl YCXVDEMHEKQQCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXVPUKPVLPTVCQ-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-propylsilane Chemical compound CCC[Si](C)(C)Cl HXVPUKPVLPTVCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVDUEHWPPXIAEB-UHFFFAOYSA-N chloro-ethyl-dimethylsilane Chemical compound CC[Si](C)(C)Cl AVDUEHWPPXIAEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010087681 cyclo(5-hydroxytryptophyl-5-hydroxytryptophyl) Proteins 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- OKPZSOVHKLCTLQ-UHFFFAOYSA-N hydroxy-dimethyl-(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl)silane Chemical compound C[Si](C)(O)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F OKPZSOVHKLCTLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJJRSIVFLBXGGU-UHFFFAOYSA-N hydroxy-dimethyl-(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound C[Si](C)(O)CCC(F)(F)F QJJRSIVFLBXGGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L platinum dichloride Chemical compound Cl[Pt]Cl CLSUSRZJUQMOHH-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 238000006884 silylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyldimethylsilyl chloride Chemical compound CC(C)(C)[Si](C)(C)Cl BCNZYOJHNLTNEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNMVKGDEKPPREK-UHFFFAOYSA-N trimethyl(prop-2-enoxy)silane Chemical compound C[Si](C)(C)OCC=C MNMVKGDEKPPREK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/22—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen
- C08G77/24—Polysiloxanes containing silicon bound to organic groups containing atoms other than carbon, hydrogen and oxygen halogen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/38—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment
- C08G77/382—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon
- C08G77/385—Polysiloxanes modified by chemical after-treatment containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen or silicon containing halogens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms
- C08G77/50—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule in which at least two but not all the silicon atoms are connected by linkages other than oxygen atoms by carbon linkages
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、合成樹脂の改質に好適な新規なオルガノシロ
キサン化合物に関する。
キサン化合物に関する。
従来よシ、シロキサン化合物の持つ撥水性、離型性、防
汚性などの界面特性や耐熱性等の緒特性を合成樹脂成型
品に付与する目的で、リシコーン樹脂が使われてきた。
汚性などの界面特性や耐熱性等の緒特性を合成樹脂成型
品に付与する目的で、リシコーン樹脂が使われてきた。
これらのシリコーン樹脂は、主として直鎖のポリシロキ
サン化合物が用いられ、分子内に合成樹脂との反応性基
を持たないものはブレンドによシ、反応性基を持ったも
のは化学結合によって合成樹脂へ導入されてきた。なか
でも合成樹脂改質で最近注目されつつあるグラフトポリ
マーの原料となるポリシロキサン化合物には、片側末端
にのみ反応性基を有し他末端をトリメチルシロキシ基で
連鎖停止したいわゆる片末端変性ポリシロキサン化合物
が主として用いられてきた。
サン化合物が用いられ、分子内に合成樹脂との反応性基
を持たないものはブレンドによシ、反応性基を持ったも
のは化学結合によって合成樹脂へ導入されてきた。なか
でも合成樹脂改質で最近注目されつつあるグラフトポリ
マーの原料となるポリシロキサン化合物には、片側末端
にのみ反応性基を有し他末端をトリメチルシロキシ基で
連鎖停止したいわゆる片末端変性ポリシロキサン化合物
が主として用いられてきた。
しかしながら、合成樹脂の特性改善を目的としてシロキ
サン化合物を使用する場合、最近のよシ高度な機能特性
の要求に対し、これまでのポリシロキサン化合物は合成
樹脂の特性の改良をポリシロキサンの持つ機能に頼って
いたため、十分な特性改善が得られなかったシ、目的の
特性を得るために大きな割合のポリシロキサン化合物の
添加を要し、他の物性への悪影響が生じるといった問題
点があった。特に両末端が同一置換基で構成された、い
わゆる両末端変性シリコーンでは、両末端の置換基が目
的合成樹脂との反応性基ではない場合、ブリード現象の
ためシロキサン化合物の添加量をあげられない上、経時
後の変化が著しく目的特性を長期に維持できないという
欠点があった。
サン化合物を使用する場合、最近のよシ高度な機能特性
の要求に対し、これまでのポリシロキサン化合物は合成
樹脂の特性の改良をポリシロキサンの持つ機能に頼って
いたため、十分な特性改善が得られなかったシ、目的の
特性を得るために大きな割合のポリシロキサン化合物の
添加を要し、他の物性への悪影響が生じるといった問題
点があった。特に両末端が同一置換基で構成された、い
わゆる両末端変性シリコーンでは、両末端の置換基が目
的合成樹脂との反応性基ではない場合、ブリード現象の
ためシロキサン化合物の添加量をあげられない上、経時
後の変化が著しく目的特性を長期に維持できないという
欠点があった。
また、両末端に目的合成樹脂との反応性基を持ったもの
でも合成樹脂の表面改質に用いた場合、目的特性を得る
ために大きな割合の添加量を必要とし、このために他の
物性の低下が著しいという問題があった。さらに、これ
ら両末端変性シリコン化合物では合成樹脂の表面改質等
に注目さ、れつつあるグラフトポリマーとして用いるこ
とは困難であるといった欠点があった。
でも合成樹脂の表面改質に用いた場合、目的特性を得る
ために大きな割合の添加量を必要とし、このために他の
物性の低下が著しいという問題があった。さらに、これ
ら両末端変性シリコン化合物では合成樹脂の表面改質等
に注目さ、れつつあるグラフトポリマーとして用いるこ
とは困難であるといった欠点があった。
片末端変性シロキサン化合物においても、合成樹脂との
反応性基を持たない方の分子鎖末端はトリメチルシロキ
シ基で構成されているのが一般的で特性改質をシロキサ
ン化合物の持つ特性に頼っていたため、上記のようによ
シ優れた機能特性の要求に対しては、十分な特性改善が
得られなかったり、目的の特性を得るために大きな割合
のポリシロキサン化合物の添加を要し、他の物性への悪
影響が生じるといった問題点があった。さらに、撥油性
という特性面では、末端をトリメチルシロキシ基で連鎖
停止したジメチルシロキサンのみの化合物ではほとんど
改善が得られなかった。
反応性基を持たない方の分子鎖末端はトリメチルシロキ
シ基で構成されているのが一般的で特性改質をシロキサ
ン化合物の持つ特性に頼っていたため、上記のようによ
シ優れた機能特性の要求に対しては、十分な特性改善が
得られなかったり、目的の特性を得るために大きな割合
のポリシロキサン化合物の添加を要し、他の物性への悪
影響が生じるといった問題点があった。さらに、撥油性
という特性面では、末端をトリメチルシロキシ基で連鎖
停止したジメチルシロキサンのみの化合物ではほとんど
改善が得られなかった。
本発明の目的は、以上のような問題点を改良するのに特
に優れた、分子鎖末端にフルオロアルキル基を有する部
分と他の分子鎖末端に反応性基を有する部分とを同一分
子内に合わせ持つ新規なシロキサン化合物を提供しよう
とするものである。
に優れた、分子鎖末端にフルオロアルキル基を有する部
分と他の分子鎖末端に反応性基を有する部分とを同一分
子内に合わせ持つ新規なシロキサン化合物を提供しよう
とするものである。
本発明者等は、上記の目的を達成するために鋭意研究し
友結果、α(、α′、α“)位にフッ素原子含有置換基
を有しω位に1個以上のヒドロキシル基を有するシロキ
サン化合物を完成させた。
友結果、α(、α′、α“)位にフッ素原子含有置換基
を有しω位に1個以上のヒドロキシル基を有するシロキ
サン化合物を完成させた。
すなわち、第1の発明は、一般式が(り〔一般式(I)
において、jは2〜2000の整数を表わし、R1はペ
ンタフルオロフェニル基、または下記式(If) CaHbF2a−b+1 ”・・・・・(
II)(式(II)中、aは3〜18の整数、bは0か
ら2aの整数を表わす)で表わされる直鎖もしくは分岐
状のフルオロアルキル基である置換基を表わし、R21
j:3−(m−ヒドロキシフェニル)プロピル基、3−
(o−ヒドロキシフェニル)プロピル基% 3−(p−
ヒドロキシフェニル)フロビル基、 下記式(III) C迅 −(Cル)h’−(OCH*CHt)h’−(OCHC
迅)h”−OH・・・・・・・・・・(Ill) (式(III)中、hoは1〜6の整数を表わし、ht
およびh2はそれぞれO〜20の整数を表わす)で示さ
れる置換基、下記式(IV) Hs (OCH2CH,)h’(OCHC迅)h’−OHさ。
において、jは2〜2000の整数を表わし、R1はペ
ンタフルオロフェニル基、または下記式(If) CaHbF2a−b+1 ”・・・・・(
II)(式(II)中、aは3〜18の整数、bは0か
ら2aの整数を表わす)で表わされる直鎖もしくは分岐
状のフルオロアルキル基である置換基を表わし、R21
j:3−(m−ヒドロキシフェニル)プロピル基、3−
(o−ヒドロキシフェニル)プロピル基% 3−(p−
ヒドロキシフェニル)フロビル基、 下記式(III) C迅 −(Cル)h’−(OCH*CHt)h’−(OCHC
迅)h”−OH・・・・・・・・・・(Ill) (式(III)中、hoは1〜6の整数を表わし、ht
およびh2はそれぞれO〜20の整数を表わす)で示さ
れる置換基、下記式(IV) Hs (OCH2CH,)h’(OCHC迅)h’−OHさ。
・・・・・・・・・・(fV)
(式(IV)中、Xlは水素原子、メチル基もしくはエ
チル基を表わし、hoは1〜6の整数を表わし、h11
h2、h”、h’、h’オ!ヒh’dツレツレ0〜20
(7)u数を表わす)で示される置換基、又は下記式(
V)Hs あるオルガノシロキサン化合物である。
チル基を表わし、hoは1〜6の整数を表わし、h11
h2、h”、h’、h’オ!ヒh’dツレツレ0〜20
(7)u数を表わす)で示される置換基、又は下記式(
V)Hs あるオルガノシロキサン化合物である。
第3の発明は、一般式が(IV)
CH2(0CHz CHt) h’ (0CHCHt
) h’−OHC孔 ・・・・・・・・(V) (式(V)中、x2は水素原子、メチル基もしくはエチ
ル基を表わし、hoは1〜6の整数を表わし、hl、h
t 、hl、hl、h5およびh6はそれぞれ0〜20
の整数を表わす)で示される置換基を表わし、R3およ
びR4はそれぞれ炭素原子数1〜4のアルキル基または
フェニル基を表わす。〕 で示されるオルガノシロキサン化合物である。
) h’−OHC孔 ・・・・・・・・(V) (式(V)中、x2は水素原子、メチル基もしくはエチ
ル基を表わし、hoは1〜6の整数を表わし、hl、h
t 、hl、hl、h5およびh6はそれぞれ0〜20
の整数を表わす)で示される置換基を表わし、R3およ
びR4はそれぞれ炭素原子数1〜4のアルキル基または
フェニル基を表わす。〕 で示されるオルガノシロキサン化合物である。
第2の発明は、上記第1の発明において、一般式(I)
中のR1で示される置換基が、3,3.3− )リフル
オロプロピル基、トリデカフルオロ−i、 i、 2゜
2−テトラハイドロオクチ/L/基、又はヘプタデカフ
ルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロデシル基で〔
一般式(■)において、kおよびlは2〜2000の整
数を表わし、R5およびR6はそれぞれ炭素原子数1〜
4のアルキル基、ペンタフルオロフェニル基、又は下記
式(II) CaHbF 2a −b+1 ・・・・
=(Il)(式(ff)中、aは3〜18の整数、bは
Oから2aの整数を表わす)で表わされる直鎖もしくは
分岐状のフルオロアルキル基である置換基を表わし、R
5及びR6のうち少なくとも1つは前記置換基のうちフ
ッ素原子含有置換基であり、R2は3−(m−ヒドロキ
シフェニル)プロピル基、3−(o−ヒドロキシフェニ
ル)プロピル基、3−(p−ヒドロキシフェニル)プロ
ピル基、下記式(I[l)CH3 −(CH,)h’−(OCHzCH2)h’−(OCH
CHz)h”−OH・・・・・・・・・・(III) (式(Ill)中、hoは1〜6の整数を表わし、hl
およびh2はそれぞれO〜20の整数を表わす)で示さ
れる置換基、下記式(W) Hs (OCHzCH2)h’(OCHCH2)h’−OHH
s ・・・・・・・・・・(IV) (式(IV)中、Xlは水素原子、メチル基又はエチル
基を表わし、hoは1〜6の整数を表わし、hl 、
h2、h”xh’、h5およびh6はそれぞれO〜20
の整数を表わす)で示される置換基、又は下記式(V)
Hs CHt(OCH2CH2)h’(OCHCHりh’−O
HHs ・・・・・・・・(V) (式(V)中、X2は水素原子、メチル基もしくはエチ
ル基を表わし、hoは1〜6の整数を表わし、hl、h
2、h”sh’%h5およびh6はそれぞれ0〜20の
整数を表わす)で示される置換基を表わし、R7は炭素
原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基を表わす。〕
で示されるオルガノシロキサン化合物である。
中のR1で示される置換基が、3,3.3− )リフル
オロプロピル基、トリデカフルオロ−i、 i、 2゜
2−テトラハイドロオクチ/L/基、又はヘプタデカフ
ルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロデシル基で〔
一般式(■)において、kおよびlは2〜2000の整
数を表わし、R5およびR6はそれぞれ炭素原子数1〜
4のアルキル基、ペンタフルオロフェニル基、又は下記
式(II) CaHbF 2a −b+1 ・・・・
=(Il)(式(ff)中、aは3〜18の整数、bは
Oから2aの整数を表わす)で表わされる直鎖もしくは
分岐状のフルオロアルキル基である置換基を表わし、R
5及びR6のうち少なくとも1つは前記置換基のうちフ
ッ素原子含有置換基であり、R2は3−(m−ヒドロキ
シフェニル)プロピル基、3−(o−ヒドロキシフェニ
ル)プロピル基、3−(p−ヒドロキシフェニル)プロ
ピル基、下記式(I[l)CH3 −(CH,)h’−(OCHzCH2)h’−(OCH
CHz)h”−OH・・・・・・・・・・(III) (式(Ill)中、hoは1〜6の整数を表わし、hl
およびh2はそれぞれO〜20の整数を表わす)で示さ
れる置換基、下記式(W) Hs (OCHzCH2)h’(OCHCH2)h’−OHH
s ・・・・・・・・・・(IV) (式(IV)中、Xlは水素原子、メチル基又はエチル
基を表わし、hoは1〜6の整数を表わし、hl 、
h2、h”xh’、h5およびh6はそれぞれO〜20
の整数を表わす)で示される置換基、又は下記式(V)
Hs CHt(OCH2CH2)h’(OCHCHりh’−O
HHs ・・・・・・・・(V) (式(V)中、X2は水素原子、メチル基もしくはエチ
ル基を表わし、hoは1〜6の整数を表わし、hl、h
2、h”sh’%h5およびh6はそれぞれ0〜20の
整数を表わす)で示される置換基を表わし、R7は炭素
原子数1〜4のアルキル基又はフェニル基を表わす。〕
で示されるオルガノシロキサン化合物である。
第4の発明は、上記第3の発明において、一般式(IV
)中のR5およびR6で示される置換基がそれぞれ炭素
原子数1〜4のアルキル基、3,3.3− )リフルオ
ロプロピル基、トリデカフルオロ−1,1゜2.2−テ
トラハイドロオクチル基、又はヘプタデカフルオロ−1
,1,2,2−テトラハイドロデシル基であるオルガノ
シロキサン化合物である。
)中のR5およびR6で示される置換基がそれぞれ炭素
原子数1〜4のアルキル基、3,3.3− )リフルオ
ロプロピル基、トリデカフルオロ−1,1゜2.2−テ
トラハイドロオクチル基、又はヘプタデカフルオロ−1
,1,2,2−テトラハイドロデシル基であるオルガノ
シロキサン化合物である。
第5の発明は、一般式が(■)
〔一般式(■)において、m%nおよびpはそれぞf1
2〜200 (1)[1表ワL、R’ 、 R’ 及ヒ
R”はそれぞれ炭素原子数1〜4のアルキル基、ペンタ
フルオロフェニル基、又は下記式CU)CaHbF 2
a−b+1 ””・(II)(式(n)中、
aは3〜18の整数、bは0から2aの整数を表わす)
で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオロアルキル基
である置換基を表わし、R” 、 RQおよびR”のう
ち少なくとも1つは前記置換基のうちフッ素原子含有置
換基であシ、R2は3−(m−ヒドロキシフェニル)プ
ロピル基、3−(0−ヒドロキシフェニル)プロピル基
、 3−(p−ヒドロキシフェニル)プロピル基、下記
式(III)CH3 −(C山)h’−(QC几CHt)h’−(OCHCH
z)h”−OH・・・・・・・・・・(III) (式(III)中、hoは1〜6の整数を表わし、hl
およびh!はそれぞれ0〜20の整数を表わす)で示さ
れている置換基、下記式(IV) CHt (0CHtCHt)h’ (OCHCHt)h’ −O
Hと、 ・・・・・・・・・・(■) (式(IV)中、Xlは水素原子、メチル基もしくはエ
チル基を表わし、hoは1〜6の整数を表わし、hl、
h2、hs 、 h4、hsおよびh6はそれぞれO〜
20の整数を表わす)で示される置換基、又は下記式(
V)CHt CHz(OCHtCHz) h’ (OCHCHt)
h’−OH占。
2〜200 (1)[1表ワL、R’ 、 R’ 及ヒ
R”はそれぞれ炭素原子数1〜4のアルキル基、ペンタ
フルオロフェニル基、又は下記式CU)CaHbF 2
a−b+1 ””・(II)(式(n)中、
aは3〜18の整数、bは0から2aの整数を表わす)
で表わされる直鎖もしくは分岐状のフルオロアルキル基
である置換基を表わし、R” 、 RQおよびR”のう
ち少なくとも1つは前記置換基のうちフッ素原子含有置
換基であシ、R2は3−(m−ヒドロキシフェニル)プ
ロピル基、3−(0−ヒドロキシフェニル)プロピル基
、 3−(p−ヒドロキシフェニル)プロピル基、下記
式(III)CH3 −(C山)h’−(QC几CHt)h’−(OCHCH
z)h”−OH・・・・・・・・・・(III) (式(III)中、hoは1〜6の整数を表わし、hl
およびh!はそれぞれ0〜20の整数を表わす)で示さ
れている置換基、下記式(IV) CHt (0CHtCHt)h’ (OCHCHt)h’ −O
Hと、 ・・・・・・・・・・(■) (式(IV)中、Xlは水素原子、メチル基もしくはエ
チル基を表わし、hoは1〜6の整数を表わし、hl、
h2、hs 、 h4、hsおよびh6はそれぞれO〜
20の整数を表わす)で示される置換基、又は下記式(
V)CHt CHz(OCHtCHz) h’ (OCHCHt)
h’−OH占。
・・・・・・・・(V)
(式(V)中、X2は水素原子、メチル基又はエチル基
を表わし、hoは1〜6の整数を表わし、hl 、 h
l、hs、h′、hsおよびh6はそれぞれO〜20の
整数を表わす)で示される置換基を表わす。〕で示され
るオルガノシロキサン化合物である。
を表わし、hoは1〜6の整数を表わし、hl 、 h
l、hs、h′、hsおよびh6はそれぞれO〜20の
整数を表わす)で示される置換基を表わす。〕で示され
るオルガノシロキサン化合物である。
第6の発明は、上記第5の発明において、一般式(■)
中のR11、R9およびRloで示される置換がそれぞ
れ炭素原子数1〜4のアルキル基、3,3.3−トリフ
ルオロプロピル基、トリデカフルオロ−1゜1.2.2
−テトラハイドロオクチル基、またはヘプタデカフルオ
ロ−1,1,2,2−テトラハイドロデシル基であυ、
R8、Ro及びR”のうち少なくとも1つは前記置換基
のうちフッ素原子含有置換基であるオルガノシロキサン
化合物である。
中のR11、R9およびRloで示される置換がそれぞ
れ炭素原子数1〜4のアルキル基、3,3.3−トリフ
ルオロプロピル基、トリデカフルオロ−1゜1.2.2
−テトラハイドロオクチル基、またはヘプタデカフルオ
ロ−1,1,2,2−テトラハイドロデシル基であυ、
R8、Ro及びR”のうち少なくとも1つは前記置換基
のうちフッ素原子含有置換基であるオルガノシロキサン
化合物である。
第7の発明は、上記第1.2.3.4.5又は6の発明
において、前記R2で示される置換基が次式で表わされ
るものであるオルガノシロキサン化合物である。
において、前記R2で示される置換基が次式で表わされ
るものであるオルガノシロキサン化合物である。
−CH2CHt CH2−OCH,CH,−OH第8の
発明は、上記第1.2.3゛、4.5又は6の発明にお
いて、前記R2で示される置換基が次式で表わされるも
のであるオルガノシロキサン化合物である。
発明は、上記第1.2.3゛、4.5又は6の発明にお
いて、前記R2で示される置換基が次式で表わされるも
のであるオルガノシロキサン化合物である。
■
−CHtCH,CH,−OCR,CC凡−OHOH
(式中、Xlは水素原子、メチル基又はエチル基を表わ
す。) 第9の発明は、上記第1.2.3.4.5又は6の発明
において、前記R2で示される置換基が次式で表わされ
るものであるオルガノシロキサン化合物である。
す。) 第9の発明は、上記第1.2.3.4.5又は6の発明
において、前記R2で示される置換基が次式で表わされ
るものであるオルガノシロキサン化合物である。
−C迅CH暑Cルー0CHzCCHz OHC迅−0
H (式中、Xtは水素原子、メチル基又はエチル基を表わ
す。) 本発明の、上記第1の発明の一般式(1)、第3の発明
の一般式(■)および第5の発明の一般式(■)で示さ
れるシロキサン化合物は、一般式からも明らかなように
、−分子内に末端ヒドロキシル基の部分と末端にフッ素
原子を含有する置換基の部分とを同時に有することを特
徴としている。これは、一般式(1)におけるjl一般
式(IV)におけるkおよび11また一般式(VII)
におけるm、nおよびpの値が大きな高分子量のポリマ
ーとなった場合でも同様で、ポリマーを構成する分子そ
れぞれが同一分子内に末端ヒドロキシル基の部分と末端
にフッ素原子を含有する置換基の部分とを有し、さらに
、好ましいケースではポリマーの多分散度が1.1〜1
.2と分子量分布が非常によく制御されていることを特
徴としている。一般式(1)におけるj、一般式(W)
におけるkおよび!、また一般式(VII)におけるm
%nおよびpは、ポリジメチルシロキサン直鎖部のジメ
チルシロキサンユニットの個数をあられし、その範囲は
、合成樹脂へ導入した場合にポリジメチルシロキサンの
持つ機能特性の明確な発現を得るためと合成樹脂への導
入の容易性および合成の容易性から範囲をそれぞれ2〜
2000とするのがよい。
H (式中、Xtは水素原子、メチル基又はエチル基を表わ
す。) 本発明の、上記第1の発明の一般式(1)、第3の発明
の一般式(■)および第5の発明の一般式(■)で示さ
れるシロキサン化合物は、一般式からも明らかなように
、−分子内に末端ヒドロキシル基の部分と末端にフッ素
原子を含有する置換基の部分とを同時に有することを特
徴としている。これは、一般式(1)におけるjl一般
式(IV)におけるkおよび11また一般式(VII)
におけるm、nおよびpの値が大きな高分子量のポリマ
ーとなった場合でも同様で、ポリマーを構成する分子そ
れぞれが同一分子内に末端ヒドロキシル基の部分と末端
にフッ素原子を含有する置換基の部分とを有し、さらに
、好ましいケースではポリマーの多分散度が1.1〜1
.2と分子量分布が非常によく制御されていることを特
徴としている。一般式(1)におけるj、一般式(W)
におけるkおよび!、また一般式(VII)におけるm
%nおよびpは、ポリジメチルシロキサン直鎖部のジメ
チルシロキサンユニットの個数をあられし、その範囲は
、合成樹脂へ導入した場合にポリジメチルシロキサンの
持つ機能特性の明確な発現を得るためと合成樹脂への導
入の容易性および合成の容易性から範囲をそれぞれ2〜
2000とするのがよい。
また、上記第1の発明の一般式(1)、第3の発明の一
般式(W)及び第5の発明の一般式(■)で示される本
発明のシロキサン化合物を合成樹脂に導入する場合は、
目的とする合成樹脂の種類、重合体の特性や要求される
機能によっても違ってくるが、通常、一般式(1)、一
般式(IV)および一般式(VII)における1%に、
l、m%nおよびpの値でそれぞれ上方以下の物を最も
好ましく用いることができる。
般式(W)及び第5の発明の一般式(■)で示される本
発明のシロキサン化合物を合成樹脂に導入する場合は、
目的とする合成樹脂の種類、重合体の特性や要求される
機能によっても違ってくるが、通常、一般式(1)、一
般式(IV)および一般式(VII)における1%に、
l、m%nおよびpの値でそれぞれ上方以下の物を最も
好ましく用いることができる。
また、上記第1の発明、第3の発明および第5の発明の
式(II)で示されるフルオロアルキル基は、原料入手
の容易性、フルオロアルキル基の持つ機能の効果的な発
現および合成の容易性からaの範囲を3〜18とするの
がよい。
式(II)で示されるフルオロアルキル基は、原料入手
の容易性、フルオロアルキル基の持つ機能の効果的な発
現および合成の容易性からaの範囲を3〜18とするの
がよい。
また、上記第1の発明、第3の発明及び第5の発明の式
(1)、式(IV)及び式(V)で示されるヒドロキシ
ル基含有置換基は、原料入手の容易性、合成樹脂へ導入
したときの相溶性や付加したい機能への影響および合成
の容易性からhoの範囲を1〜6とし、t タh’ 、
h”、h”、 h’、h’オ!びh6 o範囲をそれ
ぞれO〜20とするのがよい。これらhoおよびhl
、 hllの値を大きくするほど合成樹脂との相溶性が
上が)本発明の化合物を合成樹脂へ導入し易くなる反面
、耐熱性などの他の物性への悪影響もでてくるので要求
特性や目的に合わせた設定とすることが好ましい。
(1)、式(IV)及び式(V)で示されるヒドロキシ
ル基含有置換基は、原料入手の容易性、合成樹脂へ導入
したときの相溶性や付加したい機能への影響および合成
の容易性からhoの範囲を1〜6とし、t タh’ 、
h”、h”、 h’、h’オ!びh6 o範囲をそれ
ぞれO〜20とするのがよい。これらhoおよびhl
、 hllの値を大きくするほど合成樹脂との相溶性が
上が)本発明の化合物を合成樹脂へ導入し易くなる反面
、耐熱性などの他の物性への悪影響もでてくるので要求
特性や目的に合わせた設定とすることが好ましい。
本発明のシロキサン化合物は、ヒドロキシル基を基準と
したシロキサン鎖本数が、上記第1の発明の一般式([
)で示される1本、第3の発明の一般式(IV)で示さ
れる2本、および第5の発明の一般式(■)で示される
3本と、3種類の構造があることを特徴としておシ、目
的とする合成樹脂や付与したい機能特性に合わせて任意
の構造のものを選択し、これらを単独もしくは混合して
用いることができる。
したシロキサン鎖本数が、上記第1の発明の一般式([
)で示される1本、第3の発明の一般式(IV)で示さ
れる2本、および第5の発明の一般式(■)で示される
3本と、3種類の構造があることを特徴としておシ、目
的とする合成樹脂や付与したい機能特性に合わせて任意
の構造のものを選択し、これらを単独もしくは混合して
用いることができる。
さらに、上記第3の発明の一般式(■)及び第5の発明
の一般式(■)で示された、ヒドロキシル基を基準とし
たシロキサン鎖本数が2本および3本の場合のそれぞれ
のシロキサン鎖長は、グラフトポリマーとして合成樹脂
の改質に使用する多くの場合は、それぞれのシロキサン
鎖長が同じものが好ましいが、目的によってはそれぞれ
違った分子鎖長を設定することもできる。また上記第3
の発明の一般式(W)中のR5およびR6%第5の発明
の一般式(■)中のR8、R9およびRIoで示される
置換基もヒドロキシル基を基準とした分子鎖本数が2本
および3本の場合で、それぞれに違った置換基を導入す
ることもできる。ただ、合成樹脂に特殊な機能を付与す
る必要がある場合や特性をより細かくコントロールする
必要がある場合以外は、製造行程が増え合成条件の許容
範囲が狭くなるため、通常はそれぞれ同一のシロキサン
鎖長およびそれぞれ同一の置換基を持つ化合物とするの
が好ましい。
の一般式(■)で示された、ヒドロキシル基を基準とし
たシロキサン鎖本数が2本および3本の場合のそれぞれ
のシロキサン鎖長は、グラフトポリマーとして合成樹脂
の改質に使用する多くの場合は、それぞれのシロキサン
鎖長が同じものが好ましいが、目的によってはそれぞれ
違った分子鎖長を設定することもできる。また上記第3
の発明の一般式(W)中のR5およびR6%第5の発明
の一般式(■)中のR8、R9およびRIoで示される
置換基もヒドロキシル基を基準とした分子鎖本数が2本
および3本の場合で、それぞれに違った置換基を導入す
ることもできる。ただ、合成樹脂に特殊な機能を付与す
る必要がある場合や特性をより細かくコントロールする
必要がある場合以外は、製造行程が増え合成条件の許容
範囲が狭くなるため、通常はそれぞれ同一のシロキサン
鎖長およびそれぞれ同一の置換基を持つ化合物とするの
が好ましい。
本発明の、上記第1の発明の一般式(1)、第3の発明
の一般式(IV)及び第5の発明の一般式(■)で示さ
れるシロキサン化合物は、分子の片側末端に存在するヒ
ドロキシル基をこれと反応可能なポリウレタンやポリエ
ステルなどの反応性水酸基の反応で得られる合成樹脂へ
反応させ、化学結合によシ組み込むことで合成樹脂の特
性改善に有用なシロキサン化合物として用いることがで
き、とくに、合成樹脂の表面改質に優れた効果を得るこ
とができる。
の一般式(IV)及び第5の発明の一般式(■)で示さ
れるシロキサン化合物は、分子の片側末端に存在するヒ
ドロキシル基をこれと反応可能なポリウレタンやポリエ
ステルなどの反応性水酸基の反応で得られる合成樹脂へ
反応させ、化学結合によシ組み込むことで合成樹脂の特
性改善に有用なシロキサン化合物として用いることがで
き、とくに、合成樹脂の表面改質に優れた効果を得るこ
とができる。
本発明の化合物の製造方法を一例を用いて簡単に説明す
る。
る。
(1) ヒドロキシル基を基準としたシロキサン鎖の
本数が1本の本発明のシロキサン化合物:まず、(トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチ
ル)ジメチルシラノールを開始剤とし、0.05〜50
モル係のリチウム系触媒の存在下でヘキサメチルシクロ
トリシロキサンを活性水素を有しない極性溶媒中でアニ
オン重合させたのちジメチルクロロシランで連鎖停止す
ることで、α末端にトリデカフルオロ〜1.1.2.2
−テトラハイドロオクチル基を、ω末端にヒドロシリル
基を持つジメチルシロキサン化合物(VII)を得る。
本数が1本の本発明のシロキサン化合物:まず、(トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチ
ル)ジメチルシラノールを開始剤とし、0.05〜50
モル係のリチウム系触媒の存在下でヘキサメチルシクロ
トリシロキサンを活性水素を有しない極性溶媒中でアニ
オン重合させたのちジメチルクロロシランで連鎖停止す
ることで、α末端にトリデカフルオロ〜1.1.2.2
−テトラハイドロオクチル基を、ω末端にヒドロシリル
基を持つジメチルシロキサン化合物(VII)を得る。
上記の操作によって得られたシロキサン化合物(VII
)と2−(2−プロペニルオキシ)エトキシトリメチル
シラン(■)を触媒の存在下にヒドロシリル化反応を行
うことで式(X)のシロキサン化合物を得る。
)と2−(2−プロペニルオキシ)エトキシトリメチル
シラン(■)を触媒の存在下にヒドロシリル化反応を行
うことで式(X)のシロキサン化合物を得る。
この式(X)のシロキサン化合物は、希塩酸σ添加もし
くはメタノール、エタノールなどのアルコールによる交
換反応によシ脱トリメチルシリル化操作を行うことで、
目的とするオルガノシロキサン化合物(XI)を得るこ
とができる。以下に式を示す。
くはメタノール、エタノールなどのアルコールによる交
換反応によシ脱トリメチルシリル化操作を行うことで、
目的とするオルガノシロキサン化合物(XI)を得るこ
とができる。以下に式を示す。
(VII)
Me
(IX)
(X)
0II)
(上記式中、Meはメチル基を表わす。)(2) ヒド
ロキシル基を基準としたシロキサン鎖の本数が2本の本
発明のシロキサン化合物:まず、(トリデカフルオロ−
1,1,2,2−テトラハイドロオクチル)ジメチルシ
ラノールを開始剤トシ、0.05〜50モル係のリチウ
ム系触媒の存在下でヘキサメチルシクロトリシロキサン
を活性水素を有しない極性溶媒中でアニオン重合させた
のちメチルジクロロシランで連鎖停止することで、α、
α′末端にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラ
ハイドロオクチル基を、ω末端にヒドロシリル基を持つ
ジメチルシロキサン化合物(XI)を得る。
ロキシル基を基準としたシロキサン鎖の本数が2本の本
発明のシロキサン化合物:まず、(トリデカフルオロ−
1,1,2,2−テトラハイドロオクチル)ジメチルシ
ラノールを開始剤トシ、0.05〜50モル係のリチウ
ム系触媒の存在下でヘキサメチルシクロトリシロキサン
を活性水素を有しない極性溶媒中でアニオン重合させた
のちメチルジクロロシランで連鎖停止することで、α、
α′末端にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラ
ハイドロオクチル基を、ω末端にヒドロシリル基を持つ
ジメチルシロキサン化合物(XI)を得る。
上記の操作によって得られたシロキサン化合物(])
ト2− (2−プロペニルオキシ)エトキシトリメチル
シラン(K)を触媒の存在下にヒドロシリル化反応を行
うことで式(Xlll)のシロキサン化合物を得る。
ト2− (2−プロペニルオキシ)エトキシトリメチル
シラン(K)を触媒の存在下にヒドロシリル化反応を行
うことで式(Xlll)のシロキサン化合物を得る。
この式(XI)のシロキサン化合物は、希塩酸の添加も
しくはメタノール、エタノールなどのアルコールによる
交換反応によシ脱トリメチルシリル化操作を行うことで
、目的とするオルガノシロキサン化合物(XIV)を得
ることができる。以下に式を示(■) 0Gn) Me 塩化白金酸 (XtV) (■) (上記式中、 Meはメチル基を表わす。
しくはメタノール、エタノールなどのアルコールによる
交換反応によシ脱トリメチルシリル化操作を行うことで
、目的とするオルガノシロキサン化合物(XIV)を得
ることができる。以下に式を示(■) 0Gn) Me 塩化白金酸 (XtV) (■) (上記式中、 Meはメチル基を表わす。
(3) ヒドロキシル基を基準としたシロキサン鎖の
本数が3本の本発明のシロキサン化合物:まず、(トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチ
ル)ジメチルシラノールを開始剤トシ、0.05〜50
モル係のリチウム系触媒の存在下でヘキサメチルシクロ
トリシロキサンを活性水土を有しない極性溶媒中でアニ
オン重合させたのちトリクロロシランで連鎖停止するこ
とで、α。
本数が3本の本発明のシロキサン化合物:まず、(トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチ
ル)ジメチルシラノールを開始剤トシ、0.05〜50
モル係のリチウム系触媒の存在下でヘキサメチルシクロ
トリシロキサンを活性水土を有しない極性溶媒中でアニ
オン重合させたのちトリクロロシランで連鎖停止するこ
とで、α。
α′、Q#末端にトリデカフルオロ−1,1,2,2−
テトラハイドロオクチル基を、ω末端にヒドロシリル基
を持つジメチルシロキサン化合物(XV)を得る。
テトラハイドロオクチル基を、ω末端にヒドロシリル基
を持つジメチルシロキサン化合物(XV)を得る。
上記の操作によって得られたシロキサン化合物(XV)
と2−(2−プロペニルオキシ)エトキシトリメチルシ
ラン(IX)を触媒の存在下にヒドロシリル化反応を行
うことで式(罰)のシロキサン化合物を得る。
と2−(2−プロペニルオキシ)エトキシトリメチルシ
ラン(IX)を触媒の存在下にヒドロシリル化反応を行
うことで式(罰)のシロキサン化合物を得る。
この式(XM)のシロキサン化合物は、希塩酸の添加も
しくはメタノール、エタノールなどのアルコールによる
交換反応によシ脱トリメチルシリル化操作を行うことで
、目的とするオルガノシロキサン化合物(溜)を得るこ
とができる。
しくはメタノール、エタノールなどのアルコールによる
交換反応によシ脱トリメチルシリル化操作を行うことで
、目的とするオルガノシロキサン化合物(溜)を得るこ
とができる。
示す。
(XV)
+
CHz=CHCHtOCHxCH20SiMe葛
Me
(K)
以下に式を
(上記式中、
(XM)
0■)
Meはメチル基を表わす。
上記ヒドロキシル基を基準としたシロキサン鎖の本数が
1本、2本および3本の本発明のシロキサン化合物の製
造において、分子量及び分子量分布の制御は、上記式(
VII)、式(Xll)および式(XV)で示されるよ
うなシロキサン化合物によって決定され、分子量は開始
剤である(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラ
ハイドロオクチル)ジメチルシラノールのようなトリア
ルキルシラノールとへキサメチルシクロトリシロキサン
の割合を変えることでシロキサン鎖1本当シの数平均分
子量が約15万以下のもの(シロキサンユニットの個数
で2000以下)であれば自由に目的分子量のシロキサ
ン化合物を合成でき、これ以上の分子量のものでも重合
条件を変えることによシ調整可能である。このアニオン
重合の開始剤として使用するトリアルキルシラノールは
、目的とするアルキル基を持つトリアルキルクロロシラ
ンを加水分解することで容易に入手できる。これらのト
リアルキルクロロシランの一例としては、トリメチルク
ロロシラン、エチルジメチルクロロシラン、n−ブチル
ジメチルクロロシラン、t−ブチルジメチルクロロシラ
ン、イソプロピルジメチルクロロシラン、n−プロピル
ジメチルクロロシラン、ペンタフルオロフエニルジメチ
ルクロロシラン、3,3.3−トリフルオロプロピルジ
メチルクロロシラン、(トリデカフルオロ−1,1,2
,2−テトラハイドロオクチル)ジメチルクロロシラン
、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロデシル)ジメチルクロロシラン等の下記式で表わさ
れる化合物がある。
1本、2本および3本の本発明のシロキサン化合物の製
造において、分子量及び分子量分布の制御は、上記式(
VII)、式(Xll)および式(XV)で示されるよ
うなシロキサン化合物によって決定され、分子量は開始
剤である(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラ
ハイドロオクチル)ジメチルシラノールのようなトリア
ルキルシラノールとへキサメチルシクロトリシロキサン
の割合を変えることでシロキサン鎖1本当シの数平均分
子量が約15万以下のもの(シロキサンユニットの個数
で2000以下)であれば自由に目的分子量のシロキサ
ン化合物を合成でき、これ以上の分子量のものでも重合
条件を変えることによシ調整可能である。このアニオン
重合の開始剤として使用するトリアルキルシラノールは
、目的とするアルキル基を持つトリアルキルクロロシラ
ンを加水分解することで容易に入手できる。これらのト
リアルキルクロロシランの一例としては、トリメチルク
ロロシラン、エチルジメチルクロロシラン、n−ブチル
ジメチルクロロシラン、t−ブチルジメチルクロロシラ
ン、イソプロピルジメチルクロロシラン、n−プロピル
ジメチルクロロシラン、ペンタフルオロフエニルジメチ
ルクロロシラン、3,3.3−トリフルオロプロピルジ
メチルクロロシラン、(トリデカフルオロ−1,1,2
,2−テトラハイドロオクチル)ジメチルクロロシラン
、(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロデシル)ジメチルクロロシラン等の下記式で表わさ
れる化合物がある。
整数を表わす)で表わされる直鎖もしくは分岐状のフル
オロアルキル基を表わす。) また、本発明の化合物を合成するとき用いるリチウム系
触媒としては、金属リチウム、ブチルリチウム、水酸化
リチウム、もしくは次式で表わされるリチウムトリアル
キルシラル−ト等を挙げることができ、これらの21!
1類以上を混合物として用いることもできる。
オロアルキル基を表わす。) また、本発明の化合物を合成するとき用いるリチウム系
触媒としては、金属リチウム、ブチルリチウム、水酸化
リチウム、もしくは次式で表わされるリチウムトリアル
キルシラル−ト等を挙げることができ、これらの21!
1類以上を混合物として用いることもできる。
(式中、R” s R”およびR”は、炭素原子数1〜
4のアルキル基、フェニル基、ペンタフルオロフェニル
基、又は式(II) CaHbF 2a−b+1 ・・・・・・・・・・(II) (式(II)中、aは3〜18の整数、bは0から2a
(式中、R”、R12およびR”は上記と同じ意味を表
わす。) これらのリチウム系触媒以外のもの、例えばナトリウム
系触媒やカリウム系触媒等の他のアルカリ金属系化合物
でも反応は可能だが、目的シロキサン化合物の収率が低
く触媒として使用するには不適当である。
4のアルキル基、フェニル基、ペンタフルオロフェニル
基、又は式(II) CaHbF 2a−b+1 ・・・・・・・・・・(II) (式(II)中、aは3〜18の整数、bは0から2a
(式中、R”、R12およびR”は上記と同じ意味を表
わす。) これらのリチウム系触媒以外のもの、例えばナトリウム
系触媒やカリウム系触媒等の他のアルカリ金属系化合物
でも反応は可能だが、目的シロキサン化合物の収率が低
く触媒として使用するには不適当である。
また、アニオン重合に用いる触媒量は重合開始剤である
トリアルキルシラノールに対して0605〜50モル係
の範囲であることが望ましく、特に0.05〜10モル
係の範囲が好ましい。これは、下限の0.05モル係未
満では重合速度が遅く実用的でなく、また、上限は合成
スケールが小さい場合および高分子量を合成する場合で
添加する触媒の絶対量が少なく計量が不正確になるとき
は50モル係以下、通常は10モル係以下の使用量が好
ましい。50モル係を越え100モル%までの量をもち
いても問題なく合成ができるが、危険な触媒を多量に扱
うととKよる安全性や製造効率の低下および製造コスト
のアップ等のデメリットがでてくるため、特に必要があ
る場合以外は好ましくない。
トリアルキルシラノールに対して0605〜50モル係
の範囲であることが望ましく、特に0.05〜10モル
係の範囲が好ましい。これは、下限の0.05モル係未
満では重合速度が遅く実用的でなく、また、上限は合成
スケールが小さい場合および高分子量を合成する場合で
添加する触媒の絶対量が少なく計量が不正確になるとき
は50モル係以下、通常は10モル係以下の使用量が好
ましい。50モル係を越え100モル%までの量をもち
いても問題なく合成ができるが、危険な触媒を多量に扱
うととKよる安全性や製造効率の低下および製造コスト
のアップ等のデメリットがでてくるため、特に必要があ
る場合以外は好ましくない。
合成に際して用いる活性水素を有しない極性溶媒として
は、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドが好適であシ、これら2種類以上の混合物を
用いることもできるが、これらの中でもテトラヒドロフ
ランが特に好ましい。活性水素を有する溶媒では反応が
阻害され、非極性溶媒では反応がほとんど進行しないた
め、これらを反応溶媒として用いることはできない。
は、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシドが好適であシ、これら2種類以上の混合物を
用いることもできるが、これらの中でもテトラヒドロフ
ランが特に好ましい。活性水素を有する溶媒では反応が
阻害され、非極性溶媒では反応がほとんど進行しないた
め、これらを反応溶媒として用いることはできない。
反応温度は、0〜50℃の範囲が良く、特に15〜25
℃の範囲が好ましい。0℃以下では重合速度が遅くなシ
実用的ではなく、50℃を越えると生成したポリシロキ
サンの分子量分布が広くなり好ましくない。
℃の範囲が好ましい。0℃以下では重合速度が遅くなシ
実用的ではなく、50℃を越えると生成したポリシロキ
サンの分子量分布が広くなり好ましくない。
反応時間は、反応温度によって異なるが、ヘキサメチル
シクロトリシロキサンが約95%消費された時点で反応
を停止するのが好ましく、反応温度15℃〜20℃の場
合10〜20時間が適当である。必要以上に反応時間を
長くすることは、分子量分布が広くなるため好ましくな
い。
シクロトリシロキサンが約95%消費された時点で反応
を停止するのが好ましく、反応温度15℃〜20℃の場
合10〜20時間が適当である。必要以上に反応時間を
長くすることは、分子量分布が広くなるため好ましくな
い。
また、2−(2−プロペニルオキシ)エタノールの末端
のヒドロキシル基をトリメチルシリル基で保護した、上
記式(X)で示される化合物2−(2−プロペニルオキ
シ)エトキシトリメチルシランは、2− (2−フロベ
ニルオキシ)エタノールとへキサメチルジシラザンをト
リメチルクロロシランの存在下に反応させることで容易
に得られる。
のヒドロキシル基をトリメチルシリル基で保護した、上
記式(X)で示される化合物2−(2−プロペニルオキ
シ)エトキシトリメチルシランは、2− (2−フロベ
ニルオキシ)エタノールとへキサメチルジシラザンをト
リメチルクロロシランの存在下に反応させることで容易
に得られる。
また、ヒドロシリル化反応において、用いられる触媒と
しては、一般に周期律表第■属の金属元素の錯化合物を
用いることができ、特に塩化白金酸、または白金もしく
はロジウムと各種オレフィンとのコンプレックスなどが
好ましく用いられ、その添加量は塩化白金酸の場合で上
記式(VII)、式(XH)および式(XV)で示され
るそれぞれのシロキサン化合物1モルに対して、触媒−
jd I X 10”−’モルからi x io−’モ
ルの範囲を好ましく用いることができる。I X 10
−”モルを越える量では触媒によジシロキサン鎖が切断
さるる可能性が高くなる上、触媒壁がかさむ等のデメリ
ットが出てくる。
しては、一般に周期律表第■属の金属元素の錯化合物を
用いることができ、特に塩化白金酸、または白金もしく
はロジウムと各種オレフィンとのコンプレックスなどが
好ましく用いられ、その添加量は塩化白金酸の場合で上
記式(VII)、式(XH)および式(XV)で示され
るそれぞれのシロキサン化合物1モルに対して、触媒−
jd I X 10”−’モルからi x io−’モ
ルの範囲を好ましく用いることができる。I X 10
−”モルを越える量では触媒によジシロキサン鎖が切断
さるる可能性が高くなる上、触媒壁がかさむ等のデメリ
ットが出てくる。
lXl0−’モル未満では微量の水分や妨害物質などの
影響を受は易く反応がスムーズに進行しない場合が生じ
ることがある。反応温度としては、50〜150℃が好
ましく、80〜120℃が最も好ましい。50℃以下で
は反応がスムーズに進行しなかったシ反応時間が掛かシ
すぎる等の問題が生じることが6り、150℃以上では
シロキサン鎖の切断や2−(2−プロペニルオキシ)エ
トキシトリメチルシラン等のオレフィンのトリメチルシ
リル基保護部位の脱トリメチルシリル化等による副反応
が進行することがあり好ましくない。
影響を受は易く反応がスムーズに進行しない場合が生じ
ることがある。反応温度としては、50〜150℃が好
ましく、80〜120℃が最も好ましい。50℃以下で
は反応がスムーズに進行しなかったシ反応時間が掛かシ
すぎる等の問題が生じることが6り、150℃以上では
シロキサン鎖の切断や2−(2−プロペニルオキシ)エ
トキシトリメチルシラン等のオレフィンのトリメチルシ
リル基保護部位の脱トリメチルシリル化等による副反応
が進行することがあり好ましくない。
上記ヒドロキシル基を基準としたシロキサン鎖の本数が
1本、2本および3本の本発明のシロキサン化合物の製
造において、上記式(■)で示される化合物2−(2−
プロペニルオキシ)エトキシトリメチルシランにかえ、
3−アリルオキシプロパン−1,2−ジオールをヘキサ
メチルジシラザンとトリメチルクロロシランの存在下で
反応させることで得られる下式(鳥)の1,2−ビス(
トリメチルシロキシ)−3−アリルオキシプロパンまた
は下式(El’)の1−トリメチルシロキシ−3−アリ
ルオキシプロパン−2−オールを用いることで、分子末
端に1級と2級の反応性の違う2個のヒドロキシル基を
持ったシロキサン化合物を得ることができる。
1本、2本および3本の本発明のシロキサン化合物の製
造において、上記式(■)で示される化合物2−(2−
プロペニルオキシ)エトキシトリメチルシランにかえ、
3−アリルオキシプロパン−1,2−ジオールをヘキサ
メチルジシラザンとトリメチルクロロシランの存在下で
反応させることで得られる下式(鳥)の1,2−ビス(
トリメチルシロキシ)−3−アリルオキシプロパンまた
は下式(El’)の1−トリメチルシロキシ−3−アリ
ルオキシプロパン−2−オールを用いることで、分子末
端に1級と2級の反応性の違う2個のヒドロキシル基を
持ったシロキサン化合物を得ることができる。
CHz=CHCHz−OCHzCHCHz−O3iMe
g ””(X%I)O3iMe。
g ””(X%I)O3iMe。
CH2= CHCH2−0CHx CHCHt −OS
i Mes (X■′)H (これらの式中、Meはメチル基を表わす。)また、2
−(2−プロペニルオキシ)メチル−2−アルキルプロ
パン−1,3−ジオールをヘキサメチルジシラザンとト
リメチルクロロシランの存在下で反応させることで得ら
れる下式(XK)の1゜3ビス(トリメチルシロキシ)
−2−(2−プロペニルオキシ)メチル−2−アルキル
プロパンを用いることで、分子末端に1級の2個のヒド
ロキシル基を持ったシロキサン化合物を得ることができ
る。
i Mes (X■′)H (これらの式中、Meはメチル基を表わす。)また、2
−(2−プロペニルオキシ)メチル−2−アルキルプロ
パン−1,3−ジオールをヘキサメチルジシラザンとト
リメチルクロロシランの存在下で反応させることで得ら
れる下式(XK)の1゜3ビス(トリメチルシロキシ)
−2−(2−プロペニルオキシ)メチル−2−アルキル
プロパンを用いることで、分子末端に1級の2個のヒド
ロキシル基を持ったシロキサン化合物を得ることができ
る。
CHz=CHCHz−OCHzCCHt−O3iMes
”(XIK)CH2−O3iMe3 (式中、Meはメチル基を表わし、X2は水素原子又は
メチル基を表わす。) また、ヒドロキシル基含有置換基のアルキレンオキサイ
ド部位の長さは、通常のポリアルキレンオキサイドの合
成法(「油化学」第31巻第5号(1982) p25
3〜p261 )によ多自由に合成できる。
”(XIK)CH2−O3iMe3 (式中、Meはメチル基を表わし、X2は水素原子又は
メチル基を表わす。) また、ヒドロキシル基含有置換基のアルキレンオキサイ
ド部位の長さは、通常のポリアルキレンオキサイドの合
成法(「油化学」第31巻第5号(1982) p25
3〜p261 )によ多自由に合成できる。
以上と同様にして、α(、α′、α“)位にフッ素原子
含有基を、ω位に1個以上のヒドロキシル基を有する上
記第1〜9の発明にかかるオルガノシロキサン化合物を
得ることができる。
含有基を、ω位に1個以上のヒドロキシル基を有する上
記第1〜9の発明にかかるオルガノシロキサン化合物を
得ることができる。
以下に実施例をあげて本発明をさらに詳細に説明するが
、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるもの
ではない。
、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるもの
ではない。
参考例1
1−(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル)−9−ヒドロデカメチルペンタシロキサ
ンの製造 撹拌装置と冷却装置を取)付けた11三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン100Mと(トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチ
ル)ジメチルシラノール100.0.9(0,238モ
ル)とへキサメチルシクロトリシロキサン52.9&(
0,238モル)をN、気流下で仕込み、ブチルリチウ
ムヘキサン溶液“(1,5モル/J)0.79ゴを添加
し、20℃で10時間重合させた。
ドロオクチル)−9−ヒドロデカメチルペンタシロキサ
ンの製造 撹拌装置と冷却装置を取)付けた11三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン100Mと(トリ
デカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチ
ル)ジメチルシラノール100.0.9(0,238モ
ル)とへキサメチルシクロトリシロキサン52.9&(
0,238モル)をN、気流下で仕込み、ブチルリチウ
ムヘキサン溶液“(1,5モル/J)0.79ゴを添加
し、20℃で10時間重合させた。
次に、ジメチルクロロシラン24.7.9(0,261
モル)とトリエチルアミン27gを加え1時間撹拌し重
合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した
塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた。
モル)とトリエチルアミン27gを加え1時間撹拌し重
合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した
塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/100
v*Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロ
キサン化合物を11ぼ定量的な収率で得た。得られたシ
ロキサン化合物の’H−NMRスペクトル、IRスペク
トル、GPC(ゲルパーミェーションクロマトグラフィ
ー)のそれぞれの分析結果および5i−H差足量データ
は下記の通シであり、次式の構造と確認された。
v*Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロ
キサン化合物を11ぼ定量的な収率で得た。得られたシ
ロキサン化合物の’H−NMRスペクトル、IRスペク
トル、GPC(ゲルパーミェーションクロマトグラフィ
ー)のそれぞれの分析結果および5i−H差足量データ
は下記の通シであり、次式の構造と確認された。
’ H−NMR(CD C1s ) : δppm0.
18 (5i(CHs)t、s、30H)0.53〜1
.80 (SiCルCHy t broad g 4 H)4.
55 (5i−H,m、IH) I R(KBr ) 2970cI!L−” (C−H) 2250cr/L−” (Si−H) 1260ctu−’ (S 1−CHs )1250〜
I 150crIL−” (CFt、 CFa )11
20〜1050cnL″″’(Si−0)GPC(トル
エン)ポリスチレン換算分子量数平均分子fjk (I
Vn) 850重量平均分子量(IVw)
930多分散度(IVw/Mn ) 1.1(
なお、計算値による分子量は7o2)Si−H基の定量
データ H(ppm) 1442 (1)pm
)H(ppm)よシの計算分子量 693実施例1 1−(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル)−9−(3−(2−ヒドロキシエトキシ
)プロピル1デカメチルペンタシロキサンの展進 撹拌装置と冷却装置を取シ付けたlll三元丸底フラス
コ参考例工で得られた1−(トリデカフルオロ−1,1
,2,2−テトラハイドロオクチル)−9−ヒドロデカ
メチルペンタシロキサン69.3JFを仕込み100℃
に加熱した。塩化白金酸5.2×10−4.9 (1,
OX 10−’モル)を添加したのちに2−(2−プロ
ペニルオキシ)エトキシトリメチルシラン19.1 g
(0,11モル)を適下にて添加した。適下終了後、反
応温度100℃を保ったまま5時間熟成させた後、メタ
ノール7011を用いて脱トリメチルシリル化反応を行
った。
18 (5i(CHs)t、s、30H)0.53〜1
.80 (SiCルCHy t broad g 4 H)4.
55 (5i−H,m、IH) I R(KBr ) 2970cI!L−” (C−H) 2250cr/L−” (Si−H) 1260ctu−’ (S 1−CHs )1250〜
I 150crIL−” (CFt、 CFa )11
20〜1050cnL″″’(Si−0)GPC(トル
エン)ポリスチレン換算分子量数平均分子fjk (I
Vn) 850重量平均分子量(IVw)
930多分散度(IVw/Mn ) 1.1(
なお、計算値による分子量は7o2)Si−H基の定量
データ H(ppm) 1442 (1)pm
)H(ppm)よシの計算分子量 693実施例1 1−(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル)−9−(3−(2−ヒドロキシエトキシ
)プロピル1デカメチルペンタシロキサンの展進 撹拌装置と冷却装置を取シ付けたlll三元丸底フラス
コ参考例工で得られた1−(トリデカフルオロ−1,1
,2,2−テトラハイドロオクチル)−9−ヒドロデカ
メチルペンタシロキサン69.3JFを仕込み100℃
に加熱した。塩化白金酸5.2×10−4.9 (1,
OX 10−’モル)を添加したのちに2−(2−プロ
ペニルオキシ)エトキシトリメチルシラン19.1 g
(0,11モル)を適下にて添加した。適下終了後、反
応温度100℃を保ったまま5時間熟成させた後、メタ
ノール7011を用いて脱トリメチルシリル化反応を行
った。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/1001
*Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的に収率で得た。得られたシロキ
サン化合物の’H−NMRスペクトル、IRスペクトル
、CI−PC(ゲルパーミェーションクロマトグラフィ
ー)、粘度のそれぞれの分析結果および水酸基定量デー
タは下記の通シであシ、次式の構造と確認された。
*Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的に収率で得た。得られたシロキ
サン化合物の’H−NMRスペクトル、IRスペクトル
、CI−PC(ゲルパーミェーションクロマトグラフィ
ー)、粘度のそれぞれの分析結果および水酸基定量デー
タは下記の通シであシ、次式の構造と確認された。
’H−NMR(CDCls): δppm0、18
(5i(CHs)z 、 s、 30H)0.53〜
1.80 (5iCHtCHz−s broad t 8H)3
.30〜3.70 (−CHzO−broad、6H) IR(KBr) 3650〜3200cWL−’ (−OH)2970
cm−” (C−H) 1260cIrL−” (S i −CHa )12
50〜1150CrrL−’ (CF2.CFs )1
120〜1050m ’ (Si−0)GPC(トル
エン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
930重量平均分子i(IVw)
1020多分散度(IVw/M n )1.1(なお、
計算値による分子量は8o3)水酸基の定量データ 0H重量% 2.0(wt%〕OH
Cwt係〕よシの計算分子量 850粘度(25℃) 18センチボイズ 参考例2 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基を、ω位にヒドロシリル基を有するジメ
チルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた21三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン400m1と(ト
リデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオク
チル)ジメチルシラノール5.0g(0,0119モル
)とへキサメチルシクロトリシロキサン350.5g(
1,57モル)をN、気流下で仕込み、ブチルリチウム
ヘキサン溶液(1,5モル/A?)0.040ゴを添加
し、20℃で15時間重合させた。
(5i(CHs)z 、 s、 30H)0.53〜
1.80 (5iCHtCHz−s broad t 8H)3
.30〜3.70 (−CHzO−broad、6H) IR(KBr) 3650〜3200cWL−’ (−OH)2970
cm−” (C−H) 1260cIrL−” (S i −CHa )12
50〜1150CrrL−’ (CF2.CFs )1
120〜1050m ’ (Si−0)GPC(トル
エン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
930重量平均分子i(IVw)
1020多分散度(IVw/M n )1.1(なお、
計算値による分子量は8o3)水酸基の定量データ 0H重量% 2.0(wt%〕OH
Cwt係〕よシの計算分子量 850粘度(25℃) 18センチボイズ 参考例2 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基を、ω位にヒドロシリル基を有するジメ
チルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取り付けた21三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン400m1と(ト
リデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオク
チル)ジメチルシラノール5.0g(0,0119モル
)とへキサメチルシクロトリシロキサン350.5g(
1,57モル)をN、気流下で仕込み、ブチルリチウム
ヘキサン溶液(1,5モル/A?)0.040ゴを添加
し、20℃で15時間重合させた。
次に、ジメチルクロロシラン1.24 F (0,01
31モル)とトリエチルアミン2gを加え1時間撹拌し
重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成し
た塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥させた。
31モル)とトリエチルアミン2gを加え1時間撹拌し
重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成し
た塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10 m
xHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
xHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および5i−H−1定量データは下記
の通りであった。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および5i−H−1定量データは下記
の通りであった。
I R(KBr )
2970cIrL−’ (C−H)
2250CrIL−’ (Si−H)
1260crn−” (S i −OH5)1250
〜1150cIrL−’ (CF2 、CFs )11
20〜1050c11L−’ (Si−0)GPC(
)ルエン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IV
n) 32660重量平均分子量(IVw) 3
5930多分散度(IVw/M n ) 1.
1Si−H基の定量データ H(ppm) 32.1 (p
pm)H(ppm)よシの計算分子i 31153粘度
(25℃) 1385センチボイズ 実施例2 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位に3−(3−ヒドロキシ−2−エ
チル−2−メタノールプロポキシ)プロピル基を有する
ジメチルシロキサン化合物の製造撹拌装置と冷却装置を
取り付けた21三口丸底フラスコに参考例2で得られた
ジメチルシロキサン化合物311.5gとトルエン10
0rnlを仕込み100℃に加熱した。塩化白金酸5.
2xlO−’N(1,0X10−″7モル)を添加した
のちに1,3−ビス(トリメチルシロキシ)−2−(2
−プロペニルオキシ)メチル−2−エチルプロパン3.
51(0,011モル)を滴下にて添加した。滴下終了
後、反応温度100℃を保ったま120時間熟成させた
後、メタノール300Iを用いて脱トリメチルシリル化
反応を行った。
〜1150cIrL−’ (CF2 、CFs )11
20〜1050c11L−’ (Si−0)GPC(
)ルエン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IV
n) 32660重量平均分子量(IVw) 3
5930多分散度(IVw/M n ) 1.
1Si−H基の定量データ H(ppm) 32.1 (p
pm)H(ppm)よシの計算分子i 31153粘度
(25℃) 1385センチボイズ 実施例2 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位に3−(3−ヒドロキシ−2−エ
チル−2−メタノールプロポキシ)プロピル基を有する
ジメチルシロキサン化合物の製造撹拌装置と冷却装置を
取り付けた21三口丸底フラスコに参考例2で得られた
ジメチルシロキサン化合物311.5gとトルエン10
0rnlを仕込み100℃に加熱した。塩化白金酸5.
2xlO−’N(1,0X10−″7モル)を添加した
のちに1,3−ビス(トリメチルシロキシ)−2−(2
−プロペニルオキシ)メチル−2−エチルプロパン3.
51(0,011モル)を滴下にて添加した。滴下終了
後、反応温度100℃を保ったま120時間熟成させた
後、メタノール300Iを用いて脱トリメチルシリル化
反応を行った。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10zy
xHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
xHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の通シ
であった。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の通シ
であった。
I R(KBr )
3650〜3200ロー”(−OH)
2970c1rL−’ (C7H)
1260crIL−’ (S i −OH5)1250
〜1150cm−’ (CFz 、CFs )1120
〜1050c!rL−” (Si−0)GPC()ル
エン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
32600重量平均分子量(IVw) 37
700多分散度(IVw/M n ) 1.
2水酸基の定量データ OH重量% 0.11 (wt%〕
OHCwt%〕よシの計算分子量 31000粘度(2
5℃) 1424センチボイズ 参考例3 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位にヒドロシリル基を有するジメチ
ルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた5i三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン200 Q++t
A!と(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハ
イドロオクチル)ジメチルシラノール12.0.9(0
,0285モル)とへキサメチルシクロトリシロキサン
1981.1&(8,90モル)をN、気流下で仕込み
、ブチルリチウムヘキサン溶液(1,5モJ’/l )
0.0951nlを添加し、20℃で20時間重合さ
せた。
〜1150cm−’ (CFz 、CFs )1120
〜1050c!rL−” (Si−0)GPC()ル
エン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
32600重量平均分子量(IVw) 37
700多分散度(IVw/M n ) 1.
2水酸基の定量データ OH重量% 0.11 (wt%〕
OHCwt%〕よシの計算分子量 31000粘度(2
5℃) 1424センチボイズ 参考例3 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位にヒドロシリル基を有するジメチ
ルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた5i三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン200 Q++t
A!と(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハ
イドロオクチル)ジメチルシラノール12.0.9(0
,0285モル)とへキサメチルシクロトリシロキサン
1981.1&(8,90モル)をN、気流下で仕込み
、ブチルリチウムヘキサン溶液(1,5モJ’/l )
0.0951nlを添加し、20℃で20時間重合さ
せた。
次に、ジメチルクロロシラン2.97 g(0,031
3モル)とトリエチルアミン3.17.9を加え1時間
撹拌し重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、
生成した塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥させた。
3モル)とトリエチルアミン3.17.9を加え1時間
撹拌し重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、
生成した塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10m+
mHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
mHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
’F’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および5i−H差足量データは下
記の通シであった。
’F’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および5i−H差足量データは下
記の通シであった。
I R(KBr )
2970ニー” (C−H)
2250cm−凰 (Si−H)
1260crn−” (S i −CH5)1250〜
1150α−’ (CFt −CFs )1120〜1
050cWL−” (Si−0)GPC()ルエン)ポ
リスチレン換算分子量数平均分子it (IVn)
63410重量平均分子量(IVw) 7593
0多分散度(IVw/Mn ) 1.2Si−
H基の定量データ H[ppm) 15.1 (pp
m)H(ppm)よシの計算分子量 66225粘度
(25℃) 3538センチボイズ 実施例 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位に3−(2,3−ジヒドロキシプ
ロポキシ)プロピル基を有するジメチルシロキサン化合
物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた31三口丸底フラスコ
に参考例3で得られたジメチルシロキサン化合物662
.2!iとトルエン500M1を仕込み100℃に加熱
した。塩化白金酸5.2X10″″5y(1,0X10
−’モル)を添加したのちに1−トリメチルシロキシ−
3−アリルオキシプロパン−2−オール2.2519(
0,011モル)を滴下にて添加した。滴下終了後、反
応温度100℃を保ったtま20時間熟成させた後、メ
タノール300.9を用いて脱トリメチルシリル化反応
を行った。
1150α−’ (CFt −CFs )1120〜1
050cWL−” (Si−0)GPC()ルエン)ポ
リスチレン換算分子量数平均分子it (IVn)
63410重量平均分子量(IVw) 7593
0多分散度(IVw/Mn ) 1.2Si−
H基の定量データ H[ppm) 15.1 (pp
m)H(ppm)よシの計算分子量 66225粘度
(25℃) 3538センチボイズ 実施例 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位に3−(2,3−ジヒドロキシプ
ロポキシ)プロピル基を有するジメチルシロキサン化合
物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた31三口丸底フラスコ
に参考例3で得られたジメチルシロキサン化合物662
.2!iとトルエン500M1を仕込み100℃に加熱
した。塩化白金酸5.2X10″″5y(1,0X10
−’モル)を添加したのちに1−トリメチルシロキシ−
3−アリルオキシプロパン−2−オール2.2519(
0,011モル)を滴下にて添加した。滴下終了後、反
応温度100℃を保ったtま20時間熟成させた後、メ
タノール300.9を用いて脱トリメチルシリル化反応
を行った。
こうして得られた反応物の低沸点を100℃/10+g
Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
’7’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の
通シであった。
’7’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の
通シであった。
I R(KBr )
3650〜3200crrL−’ (−OH)2970
crrL−’ (C−H) 1260cm−” (S i −CH5)1250〜1
150cIL−’ (CFt 、CFs )1120〜
1050crIL−’ (Si−0)GPC()ルエン
)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
65100重量平均分子ft (IVw) 78
100多分散度(IVw/Mn ) 1.2水
酸基の定量データ OH重i% 0.051(wt%〕
OH(wt%〕よりo計算分子i 66700粘度(
25℃) 3890センチポイズ 参考例4 α位にヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハ
イドロデシル基をω位にヒドロシリル基を有するジメチ
ルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取υ付けた51三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン2000mと(ヘ
プタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロデ
シル)ジメチルシラノールioo、。
crrL−’ (C−H) 1260cm−” (S i −CH5)1250〜1
150cIL−’ (CFt 、CFs )1120〜
1050crIL−’ (Si−0)GPC()ルエン
)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
65100重量平均分子ft (IVw) 78
100多分散度(IVw/Mn ) 1.2水
酸基の定量データ OH重i% 0.051(wt%〕
OH(wt%〕よりo計算分子i 66700粘度(
25℃) 3890センチポイズ 参考例4 α位にヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハ
イドロデシル基をω位にヒドロシリル基を有するジメチ
ルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取υ付けた51三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン2000mと(ヘ
プタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロデ
シル)ジメチルシラノールioo、。
!!(0゜1915モル)とへキサメチルシクロトリシ
ロキサン1803.61 (8,10モル)をNt気流
下で仕込み、ブチルリチウムへキサン溶!(1,5%ル
/l ) 0.64dをffi加し、20’C−7’1
5時間重合させた。
ロキサン1803.61 (8,10モル)をNt気流
下で仕込み、ブチルリチウムへキサン溶!(1,5%ル
/l ) 0.64dをffi加し、20’C−7’1
5時間重合させた。
次に、ジメチルクロロシラン19.9.17(0,21
1モル)とトリエチルアミン21.4Nを加え1時間撹
拌し重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生
成した塩を水洗にょシ除去した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥させた。
1モル)とトリエチルアミン21.4Nを加え1時間撹
拌し重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生
成した塩を水洗にょシ除去した後、無水硫酸ナトリウム
で乾燥させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100’C/10w
Hgの条件で2時間かけて溶去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
Hgの条件で2時間かけて溶去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
ゲルパーミェーションクロマトクラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および5i−H差足量データは下記の
通シであった。
ゲルパーミェーションクロマトクラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および5i−H差足量データは下記の
通シであった。
I R(KBr )
2970cR−1(C−H)
2250m−’ (Si−H)
1260crrt−’ (S i −CR2)1250
〜1150cm−’ (CFz 、CFs )1120
〜1050CrrL−’ (Si−0)GPC()ルエ
ン)ポリスチレン換算分子量数平均分子f(IVn)
11710i量平均分子量(IVw) 128
96多分散度(IVw/M n ) L l5
i−H基の定量データ H(ppm) 103.3 (pp
m)H(ppm)よシの計算分子−3L 9680
粘度(25℃) 147センチポイズ 実施例4 α位にヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハ
イドロデシル基をω位に3−(2−ヒドロキシエトキシ
)プロピル基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた31三口丸底フラスコ
に参考例4で得られたシロキサン化合物968、Oog
とトルエン4001rL11を仕込み100℃に加熱し
た。塩化白金酸5.2 x 10−’ 、!i+ (1
,Oxlo−6モル)を添加したのちに(2−プロペニ
ルオキシ)トリメチルシラン14.4.9(0,11モ
ル)を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度100
℃を保ったまま20時間熟成させた後、メタノール50
01を用いて脱トリメチルシリル化反応を行った。
〜1150cm−’ (CFz 、CFs )1120
〜1050CrrL−’ (Si−0)GPC()ルエ
ン)ポリスチレン換算分子量数平均分子f(IVn)
11710i量平均分子量(IVw) 128
96多分散度(IVw/M n ) L l5
i−H基の定量データ H(ppm) 103.3 (pp
m)H(ppm)よシの計算分子−3L 9680
粘度(25℃) 147センチポイズ 実施例4 α位にヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハ
イドロデシル基をω位に3−(2−ヒドロキシエトキシ
)プロピル基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた31三口丸底フラスコ
に参考例4で得られたシロキサン化合物968、Oog
とトルエン4001rL11を仕込み100℃に加熱し
た。塩化白金酸5.2 x 10−’ 、!i+ (1
,Oxlo−6モル)を添加したのちに(2−プロペニ
ルオキシ)トリメチルシラン14.4.9(0,11モ
ル)を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度100
℃を保ったまま20時間熟成させた後、メタノール50
01を用いて脱トリメチルシリル化反応を行った。
こうして得られた反応物の低沸分を100”C/10闘
Hgの条件で2時間がけて溶去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
Hgの条件で2時間がけて溶去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
’r’ルバーミエーションクロマトクラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の
通シであった。
’r’ルバーミエーションクロマトクラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の
通シであった。
IR(KBr)
3650〜3200cm−’ (−OR)2970σ−
’ (C−H) 1260cm−’ (S i −CR2)1250〜1
150cIrL−” (CFt 、CFs )1120
−1050cIIL−” (Si−0)GPC()ルエ
ン)ポリスチレン換算分子量数平均分子−’jjk (
IVn) 11840重量平均分子i(IVw)
13020多分散(IVw/Mn )
1.1水酸基の定曾データ OH重量% 0.17 (wt%〕
OHCwt%〕よシの計算分子量 1ooo。
’ (C−H) 1260cm−’ (S i −CR2)1250〜1
150cIrL−” (CFt 、CFs )1120
−1050cIIL−” (Si−0)GPC()ルエ
ン)ポリスチレン換算分子量数平均分子−’jjk (
IVn) 11840重量平均分子i(IVw)
13020多分散(IVw/Mn )
1.1水酸基の定曾データ OH重量% 0.17 (wt%〕
OHCwt%〕よシの計算分子量 1ooo。
粘 度(25℃)
179センチポイズ
参考例5
α位に3.3.3− )リフルオロプロピル基をω位に
ヒドロシリル基を有するジメチルシロキサン化合物の製
造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた21三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン800dと(3,
3,3−トリフルオロプロピル)ジメチルシラノール1
0.0II(0,0581モル)とヘキサメチルシクロ
トリシロキサン567.2.9(2,55モル)をN2
気流下で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液1.5モ
ル/l)0.1911Llを添加し、20℃で15時間
重合させた。
ヒドロシリル基を有するジメチルシロキサン化合物の製
造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた21三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン800dと(3,
3,3−トリフルオロプロピル)ジメチルシラノール1
0.0II(0,0581モル)とヘキサメチルシクロ
トリシロキサン567.2.9(2,55モル)をN2
気流下で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液1.5モ
ル/l)0.1911Llを添加し、20℃で15時間
重合させた。
次に、ジメチルクロロシラン6、04 & (0,06
39モル)とトリエチルアミン6.5.9を加え1時間
撹拌し重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、
生成した塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥させた。
39モル)とトリエチルアミン6.5.9を加え1時間
撹拌し重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、
生成した塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10 m
xHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
xHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
’F’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および5i−H差足量データは下
記の通シであった。
’F’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および5i−H差足量データは下
記の通シであった。
I R(KBr )
2970cIrL−’ (C−H)
2250CrIL−” (Si−H)
1260cIIL−” (S i −OH5)1250
〜1150crIL−” (CFt 、CFs )11
20〜1050c1rL−’ (Si−0)GPC()
ルエン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn
) 9520重量平均分子量(IVW) 10
490多分散度(IVw/Mn ) 1.1S
i−H基の定量データ H(pprn) 112.5 (
ppm)H(ppm)よシの計算分子量 8890粘
度(25℃) 116センチボイズ 実施例5 α位に3.3.3−トリフルオロプロピル基をω位に3
−(2−ヒドロキシエトキシ)プロピル基を有するジメ
チルシロキサン化合物の製造撹拌装置と冷却装置を堰シ
付けた11三口丸底フラスコに参考例5で得られたシロ
キサン化合物88、911とトルエン50mを仕込み1
00℃に加熱り、 f、−0塩化白金酸5.2 x 1
0−’ I (1,Oxl O−丁モル)を添加したの
ちに2−(2−プロペニルオキシ)エトキシトリメチル
シラン1.91.9 (0,011モル)を滴下にて添
加した。滴下終了後、反応温度100℃を保ったまま2
0時間熟成させた後、メタノール300gを用いて脱ト
リメチルシリル化反応を行った。
〜1150crIL−” (CFt 、CFs )11
20〜1050c1rL−’ (Si−0)GPC()
ルエン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn
) 9520重量平均分子量(IVW) 10
490多分散度(IVw/Mn ) 1.1S
i−H基の定量データ H(pprn) 112.5 (
ppm)H(ppm)よシの計算分子量 8890粘
度(25℃) 116センチボイズ 実施例5 α位に3.3.3−トリフルオロプロピル基をω位に3
−(2−ヒドロキシエトキシ)プロピル基を有するジメ
チルシロキサン化合物の製造撹拌装置と冷却装置を堰シ
付けた11三口丸底フラスコに参考例5で得られたシロ
キサン化合物88、911とトルエン50mを仕込み1
00℃に加熱り、 f、−0塩化白金酸5.2 x 1
0−’ I (1,Oxl O−丁モル)を添加したの
ちに2−(2−プロペニルオキシ)エトキシトリメチル
シラン1.91.9 (0,011モル)を滴下にて添
加した。滴下終了後、反応温度100℃を保ったまま2
0時間熟成させた後、メタノール300gを用いて脱ト
リメチルシリル化反応を行った。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10mm
Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
’F’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の
通シであった。
’F’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の
通シであった。
I R(KBr )
3650〜3200cm−” (−OH)2970cI
rL−’ (C−H) 1260ci ’ (Si−CHs )1250〜11
50cm−’ (CFt 、CFs )1120〜10
5105O” (Si−0)GPC()ルエン)ポリス
チレン換算分子量数平均分子量(IVn) 117
00重量平均分子量(IVw) 12800多分散
度(IVw/Mn ) 1.1水酸基の定量デ
ータ OH重量% 0.18 Cwt%〕
OH(wt%〕よシの計算分子量 9400粘 度(
25℃) 167センチポイズ 参考例6 α位にペンタフルオロフェニル基をω位にヒドロシリル
基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた11三口丸底底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン100rnlと
ペンタフルオロフエニルジメチルシラノール10.0g
(0,04127モル)とへキサメチルシクロトリシロ
キサン194.0g(0,138モル)をN、気流下で
仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液(1,5モル/l
)0.147dを添加し、20℃で15時間重合させた
。
rL−’ (C−H) 1260ci ’ (Si−CHs )1250〜11
50cm−’ (CFt 、CFs )1120〜10
5105O” (Si−0)GPC()ルエン)ポリス
チレン換算分子量数平均分子量(IVn) 117
00重量平均分子量(IVw) 12800多分散
度(IVw/Mn ) 1.1水酸基の定量デ
ータ OH重量% 0.18 Cwt%〕
OH(wt%〕よシの計算分子量 9400粘 度(
25℃) 167センチポイズ 参考例6 α位にペンタフルオロフェニル基をω位にヒドロシリル
基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた11三口丸底底フラス
コに予め乾燥させたテトラヒドロフラン100rnlと
ペンタフルオロフエニルジメチルシラノール10.0g
(0,04127モル)とへキサメチルシクロトリシロ
キサン194.0g(0,138モル)をN、気流下で
仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液(1,5モル/l
)0.147dを添加し、20℃で15時間重合させた
。
次に、ジメチルクロロシラン4.29 、P (0,0
454モル)とトリエチルアミン4.6yを加え1時間
撹拌し重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、
生成した塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥させた。
454モル)とトリエチルアミン4.6yを加え1時間
撹拌し重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、
生成した塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10 m
mHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
mHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
/7’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および5i−H差足量データは下
記の通りであった。
/7’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および5i−H差足量データは下
記の通りであった。
I R(KBr )
2970m−” (C−H)
2250α−’ (Si−H)
1260cm″″’ (Si−CHs )1120〜1
050C1rL−” (Si−0)GPC()ルエン)
ポリスチレン換算分子量数平均分子ft(IVn)
5807重量平均分子i (IVw) 63
70多分散度(IVw/Mn ) 1.1Si
−H基の定量データ H(ppm) 203.3 (pp
m)H(ppm)よりの計算分子−i 4920粘
度(25°C) 64センチポイズ 実施例6 α位にペンタフルオロフェニル基をω位に3−(2−ヒ
ドロキシエトキシ)プロピル基を有するジメチルシロキ
サン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取υ付けた11三口丸底フラスコ
に参考例6で得られたシロキサン化合物49、:lとト
ルエン50−を仕込み100″CIC加熱した。塩化白
金酸5.2 x 10−’ I (1,0xlO−?モ
ル)を添加したのちに2−(2−プロペニルオキシ)エ
トキシトリメチルシラン1.91.f(0,011モル
)を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度100℃
を保ったまま20時間熟成させた後、メタノール300
1を用いて脱トリメチルシリル化反応を行った。
050C1rL−” (Si−0)GPC()ルエン)
ポリスチレン換算分子量数平均分子ft(IVn)
5807重量平均分子i (IVw) 63
70多分散度(IVw/Mn ) 1.1Si
−H基の定量データ H(ppm) 203.3 (pp
m)H(ppm)よりの計算分子−i 4920粘
度(25°C) 64センチポイズ 実施例6 α位にペンタフルオロフェニル基をω位に3−(2−ヒ
ドロキシエトキシ)プロピル基を有するジメチルシロキ
サン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取υ付けた11三口丸底フラスコ
に参考例6で得られたシロキサン化合物49、:lとト
ルエン50−を仕込み100″CIC加熱した。塩化白
金酸5.2 x 10−’ I (1,0xlO−?モ
ル)を添加したのちに2−(2−プロペニルオキシ)エ
トキシトリメチルシラン1.91.f(0,011モル
)を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度100℃
を保ったまま20時間熟成させた後、メタノール300
1を用いて脱トリメチルシリル化反応を行った。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10++
mHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
mHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
’7’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の
通υであった。
’7’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の
通υであった。
I R(KBr)
3650〜3200crrt−’ (−0H)297
0crIL−’ (C−H) 1260cm−” (S i −CHs )125
0〜1150cIrL−’ (CFz、CFs )
1120〜105105O’ (Si−0)GPC(
)ルエン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IV
n) 5300重量平均分子量(IVw)
6310多分散度(IVw/Mn ) 1.
2水酸基の定量データ 0Hffif% 0.33 (wt
%〕OH(wt%)よシの計算分子量 5150粘
度(25℃) 86センチボイズ 参考例7 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位にヒドロシリル基を有するジメチ
ルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた51三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン1000−と(ト
リデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオク
チル)ジメチルシラノール50.01 (0,119モ
ル)とヘキサメチルシクロトリシロキサン1130.2
15.08モル)をN、気流下で仕込み、ブチルリチウ
ムヘキサン溶液(1,5モル/Aり0.407dを添加
し、20℃で15時間重合させた。
0crIL−’ (C−H) 1260cm−” (S i −CHs )125
0〜1150cIrL−’ (CFz、CFs )
1120〜105105O’ (Si−0)GPC(
)ルエン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IV
n) 5300重量平均分子量(IVw)
6310多分散度(IVw/Mn ) 1.
2水酸基の定量データ 0Hffif% 0.33 (wt
%〕OH(wt%)よシの計算分子量 5150粘
度(25℃) 86センチボイズ 参考例7 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位にヒドロシリル基を有するジメチ
ルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた51三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン1000−と(ト
リデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオク
チル)ジメチルシラノール50.01 (0,119モ
ル)とヘキサメチルシクロトリシロキサン1130.2
15.08モル)をN、気流下で仕込み、ブチルリチウ
ムヘキサン溶液(1,5モル/Aり0.407dを添加
し、20℃で15時間重合させた。
次に、ジメチルクロロシラン12.35.9 (0,1
306モル)とトリエチルアミン14.9を加え1時間
撹拌し重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、
生成した塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥させた。
306モル)とトリエチルアミン14.9を加え1時間
撹拌し重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、
生成した塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10 r
xHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収車で得た。
xHgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収車で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
’F’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および5i−H差足量データは下
記の通シであった。
’F’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および5i−H差足量データは下
記の通シであった。
IR(KBr)
2970cm−’ (C−H)
2250の一’ (Si−H)
1260cm−’ (S i −CR2)1250〜
1150cm−’ (CFt−CFa )1120
〜1050σ−’(Si−Q)GPC()ルエン)ポリ
スチレン換算分子量数平均分子量(IVn) 11
910重量平均分子fft (IVw) 1285
0多分散度(IVw/Mn ) 1.1Si−
H基の定量データ H(ppm) 101.6 〔pp
m)H(ppm)よりの計算分子量 9843粘度(
25℃) 165センチボイズ 実施例7 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位に3−(2−ヒドロキシエトキシ
)プロピル基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた、31三口丸底フラス
コに参考例7で得られたシロキサン化合物984、3
Fとトルエン400mを仕込みioo℃に加熱した。塩
化白金酸5.2 x 10−’ 9 (1,0xlff
″6モル)を添加したのちに2−(2−プロペニルオキ
シ)エトキシトリメチルシラン19.1g(0,11モ
ル)を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度100
℃を保った櫨ま20時間熟成させた後、メタノール50
0.9を用いて脱トリメチルシリル化反応を行った。
1150cm−’ (CFt−CFa )1120
〜1050σ−’(Si−Q)GPC()ルエン)ポリ
スチレン換算分子量数平均分子量(IVn) 11
910重量平均分子fft (IVw) 1285
0多分散度(IVw/Mn ) 1.1Si−
H基の定量データ H(ppm) 101.6 〔pp
m)H(ppm)よりの計算分子量 9843粘度(
25℃) 165センチボイズ 実施例7 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位に3−(2−ヒドロキシエトキシ
)プロピル基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた、31三口丸底フラス
コに参考例7で得られたシロキサン化合物984、3
Fとトルエン400mを仕込みioo℃に加熱した。塩
化白金酸5.2 x 10−’ 9 (1,0xlff
″6モル)を添加したのちに2−(2−プロペニルオキ
シ)エトキシトリメチルシラン19.1g(0,11モ
ル)を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度100
℃を保った櫨ま20時間熟成させた後、メタノール50
0.9を用いて脱トリメチルシリル化反応を行った。
とうして得られた反応物の低沸分を100℃/10nm
Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の通シ
であった。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の通シ
であった。
I R(KBr )
3650〜3200crIL ” (−OH)297
0cIrL−’ (C−H) 1260cm−’ (S i −CR2)1250〜
1150cm−” (CFt 、CFs )1120
〜1050CIlL−’ (Si−0)GPC()ル
エン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
12500重量平均分子it (IVw)
13700多分散度(IVw/Mn ) 1.
1水酸基の定量データ OH重量% 0.17 (wt%)
OH(wt%〕よシの計算分子量 10000粘度(2
5℃) 204センチポイズ 参考例8 α、α′位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テト
ラハイドロオクチル基をω位にヒドロシリル基を有する
ジメチルシロキサン化合物(ヒドロシリル基基準のシロ
キサン鎖が2本)の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた51三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン10001Ltと
(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロ
オクチル)ジメチルシラノール50.0g(0,119
モル)とへキサメチルシクロトリシロキサン1130.
2N(5,08モル)をN、気流下で仕込み、ブチルリ
チウムヘキサン溶液(1,5モル//)0.404を添
加し、20℃で15時間重合させた。
0cIrL−’ (C−H) 1260cm−’ (S i −CR2)1250〜
1150cm−” (CFt 、CFs )1120
〜1050CIlL−’ (Si−0)GPC()ル
エン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
12500重量平均分子it (IVw)
13700多分散度(IVw/Mn ) 1.
1水酸基の定量データ OH重量% 0.17 (wt%)
OH(wt%〕よシの計算分子量 10000粘度(2
5℃) 204センチポイズ 参考例8 α、α′位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テト
ラハイドロオクチル基をω位にヒドロシリル基を有する
ジメチルシロキサン化合物(ヒドロシリル基基準のシロ
キサン鎖が2本)の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた51三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラヒドロフラン10001Ltと
(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロ
オクチル)ジメチルシラノール50.0g(0,119
モル)とへキサメチルシクロトリシロキサン1130.
2N(5,08モル)をN、気流下で仕込み、ブチルリ
チウムヘキサン溶液(1,5モル//)0.404を添
加し、20℃で15時間重合させた。
次に、メチルジクロロシラン7.51N(0,0653
モル)とトリエチルアミン14Fを加え1時間撹拌し重
合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した
塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた。
モル)とトリエチルアミン14Fを加え1時間撹拌し重
合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した
塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10+m
Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および5i−H差足量データは下記の
通りであ!5.GPCデータおよびH(ppm)よりの
分子量の値が、同条件、同スケールで添加クロロシラン
の種類のみを変えた参考例7(ヒドロシリル基基準のシ
ロキサン鎖が1本ンの値のほぼ2倍であることから、次
式のヒドロシリル基基準のシロキサン鎖が2本の構造の
ものと確認された。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および5i−H差足量データは下記の
通りであ!5.GPCデータおよびH(ppm)よりの
分子量の値が、同条件、同スケールで添加クロロシラン
の種類のみを変えた参考例7(ヒドロシリル基基準のシ
ロキサン鎖が1本ンの値のほぼ2倍であることから、次
式のヒドロシリル基基準のシロキサン鎖が2本の構造の
ものと確認された。
I R(KBr )
2970cm−’ (C−H)
2250cm−’ (Si−H)
1260cm−” (S i −CR2)1250〜
1150cm−” (CFt −CFs )1120
〜1050crrL−’ (Si−0)GPC(トル
エン)ポリスチレン換算分゛子量数平均分子量(IVn
) 19740重量平均分子量(IVw) 2
3720多分散度(IVw/Mn ) 1.2
Si−H基の定量データ HCppm) 53.9 (pp
m)H(ppm)よ)の計算分子量 18550粘度
(25℃) 423センチポイズ 実施例8 α、α′位にトリデカフルオロ−1,I、 2.2−テ
トラハイドロオクチル基をω位に3−(2−ヒドロキシ
エトキシ)フロビル基を有するジメチルシロキサン化合
物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた31三口丸底フラスコ
に参考例8で得られたシロキサン化合物185.5.9
とトtvエンLOOxlを仕込み100’GK加熱シタ
。塩化白金25.2 X I O” F (1,OX
10−7モル)を添加したのちに2−(2−プロペニル
オキシ)エトキシトリメチルシラン1.91g(0,0
11モル)を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度
100℃を保ったまま20時間熟成させた後、メタノー
ル300Iを用いて脱トリメチルシリル化反応を行った
。
1150cm−” (CFt −CFs )1120
〜1050crrL−’ (Si−0)GPC(トル
エン)ポリスチレン換算分゛子量数平均分子量(IVn
) 19740重量平均分子量(IVw) 2
3720多分散度(IVw/Mn ) 1.2
Si−H基の定量データ HCppm) 53.9 (pp
m)H(ppm)よ)の計算分子量 18550粘度
(25℃) 423センチポイズ 実施例8 α、α′位にトリデカフルオロ−1,I、 2.2−テ
トラハイドロオクチル基をω位に3−(2−ヒドロキシ
エトキシ)フロビル基を有するジメチルシロキサン化合
物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた31三口丸底フラスコ
に参考例8で得られたシロキサン化合物185.5.9
とトtvエンLOOxlを仕込み100’GK加熱シタ
。塩化白金25.2 X I O” F (1,OX
10−7モル)を添加したのちに2−(2−プロペニル
オキシ)エトキシトリメチルシラン1.91g(0,0
11モル)を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度
100℃を保ったまま20時間熟成させた後、メタノー
ル300Iを用いて脱トリメチルシリル化反応を行った
。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10mH
gの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン
化合物をほぼ定量的な収率で得た。
gの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサン
化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
’F’ルバーミエーションクロマトクラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の
通ヤであシ、次式の構造と確認された。
’F’ルバーミエーションクロマトクラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の
通ヤであシ、次式の構造と確認された。
IR(KBr)
3650〜3200α−’(−OH)
2970cIIL−’ (C−H)
1260crrt−’ (S i −CR2)125
0〜1150儒−’ (CFz 、CFa )1120
〜1050crrL−’ (Si−0)・GPC(ト
ルエン)ポリスチレン換算分子量数平均分子f (IV
n) 22360重量平均分子量(IVw)
24600多分散度(IVw/Mn ) 1.
1水酸基の定量データ OH重量係 0.086 (wt%
)OH(wt%〕よシの計算分子量 19800粘度(
25℃) 482センチポイズ 参考例9 α、α′、α“位にトリデカフルオロ−1,1,2,2
−テトラハイドロオクチル基をω位にヒドロシリル基を
有するジメチルシロキサン化合物(ヒドロシリル基基準
のシロキサン鎖が3本)の製造撹拌装置と冷却装置を取
シ付けた5ノ三ロ丸底フラスコに予め乾燥させたテトラ
ヒドロフラン1009dと(トリデカフルオロ−1,1
,2,2−テトラハイドロオクチル)ジメチルシラノー
ル50.0.9(0,119モル)とへキサメチルシク
ロトリシロキサン1130.2JF(5,08モル)を
N、気流下で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液(1
,5モル/l)Q、4Qiuを添加し、20℃で15時
間重合させた。
0〜1150儒−’ (CFz 、CFa )1120
〜1050crrL−’ (Si−0)・GPC(ト
ルエン)ポリスチレン換算分子量数平均分子f (IV
n) 22360重量平均分子量(IVw)
24600多分散度(IVw/Mn ) 1.
1水酸基の定量データ OH重量係 0.086 (wt%
)OH(wt%〕よシの計算分子量 19800粘度(
25℃) 482センチポイズ 参考例9 α、α′、α“位にトリデカフルオロ−1,1,2,2
−テトラハイドロオクチル基をω位にヒドロシリル基を
有するジメチルシロキサン化合物(ヒドロシリル基基準
のシロキサン鎖が3本)の製造撹拌装置と冷却装置を取
シ付けた5ノ三ロ丸底フラスコに予め乾燥させたテトラ
ヒドロフラン1009dと(トリデカフルオロ−1,1
,2,2−テトラハイドロオクチル)ジメチルシラノー
ル50.0.9(0,119モル)とへキサメチルシク
ロトリシロキサン1130.2JF(5,08モル)を
N、気流下で仕込み、ブチルリチウムヘキサン溶液(1
,5モル/l)Q、4Qiuを添加し、20℃で15時
間重合させた。
次に、トリクロロシラン5.90JF(0,0435モ
ル)とトリエチルアミン1411を加え1時間撹拌し重
合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した
塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた。
ル)とトリエチルアミン1411を加え1時間撹拌し重
合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成した
塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100°C/10m
Hgの条件で2時間かけて溶去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をはぼ定量的な収率で得た。
Hgの条件で2時間かけて溶去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をはぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果およびS i −H差足量データは下
記の通シであ!り、GPCデータおよびH(ppm)よ
シの分子量の値が、同条件、同スケールで添加クロロシ
ランの種類のみを変えた参考例7(ヒドロシリル基基準
のシロキサン鎖が1本)の値のほぼ3倍であることから
、次式のヒドロシリル基基準のシロキサン鎖が3本の構
造のものと確認された。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果およびS i −H差足量データは下
記の通シであ!り、GPCデータおよびH(ppm)よ
シの分子量の値が、同条件、同スケールで添加クロロシ
ランの種類のみを変えた参考例7(ヒドロシリル基基準
のシロキサン鎖が1本)の値のほぼ3倍であることから
、次式のヒドロシリル基基準のシロキサン鎖が3本の構
造のものと確認された。
I R(KBr )
2970c++t−” (C−H)
2250cWL−” (Si−H)
1260信−” (S i −CR2)1250〜1
150c!IL−’ (CF2 、CFs )11
20〜1050儂−” (Si−0)GPC()ルエ
ン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
33790重量平均分子量(IVw) 377
10多分散度(IVw/Mn ) 1.1Si
−H基の定量データ H(pi)m) 33.8 (
ppm)H(ppm)よシの計算分子量 29590
粘度(25℃) 681センチポイズ 実施例9 α、α′、α“位にトリデカフルオロ−1,1,2,2
−テトラハイドロオクチル基をω位に3−(2−ヒドロ
キシエトキシ)プロピル基を有するジメチルシロキサン
化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた21三口丸底フラスコ
に参考例9で得られ九シロキサン化合物295.9Ii
とトルエン100−を仕込み100℃に加熱した。塩化
白金酸5.2 X 10−” #(1,OX10−7モ
ル)を添加したのちに2− (2−プロペニルオキシ)
エトキシトリメチルシラン1.9111(0,011モ
ル)を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度100
℃を保ったまま20時間熟成させた後、メタノール30
0gを用いて脱トリメチルシリル化反応を行った。
150c!IL−’ (CF2 、CFs )11
20〜1050儂−” (Si−0)GPC()ルエ
ン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
33790重量平均分子量(IVw) 377
10多分散度(IVw/Mn ) 1.1Si
−H基の定量データ H(pi)m) 33.8 (
ppm)H(ppm)よシの計算分子量 29590
粘度(25℃) 681センチポイズ 実施例9 α、α′、α“位にトリデカフルオロ−1,1,2,2
−テトラハイドロオクチル基をω位に3−(2−ヒドロ
キシエトキシ)プロピル基を有するジメチルシロキサン
化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた21三口丸底フラスコ
に参考例9で得られ九シロキサン化合物295.9Ii
とトルエン100−を仕込み100℃に加熱した。塩化
白金酸5.2 X 10−” #(1,OX10−7モ
ル)を添加したのちに2− (2−プロペニルオキシ)
エトキシトリメチルシラン1.9111(0,011モ
ル)を滴下にて添加した。滴下終了後、反応温度100
℃を保ったまま20時間熟成させた後、メタノール30
0gを用いて脱トリメチルシリル化反応を行った。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10mH
gの条件で2時間かけて溶去し、釜残に目的シロキサン
化合物をほぼ定量的な収率で得た。
gの条件で2時間かけて溶去し、釜残に目的シロキサン
化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPCC
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の通シ
であシ、次式の構造と確認された。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の通シ
であシ、次式の構造と確認された。
I R(KBr )
3650〜3200cm−” (−OH)2970c
rrL−’ (C−H) 1260crrt−” (S i −CHs )12
50〜1150crrL−’ (CFt −CFs
)1120〜1050crrL−’ (Si−0)
GPC()ルエン)ポリスチレン換算分子量数平均分子
量(IVn) 31800重量平均分子量(IVw
) 38120多分散度(IVw/Mn )
1.2水酸基の定量データ OH重量% 0.057(w錫〕O
H(wt%〕よシの計算分子i 29800粘 度(
25℃) 753センチボイス 参考例10 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位にヒドロシリル基を有するジメチ
ルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた31三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラ、ヒ゛ドロフラン500vtl
と(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイド
ロオクチル)ジメチルシラノール25.0M0.060
モル)とへキサメチルシクロトリシロキサン565.1
/ (2,54モル)をN、気流下で仕込み、ブチル
リチウムへキサン溶液(1,5モル#)0.20mを添
加し、20℃で15時間重合させ念。
rrL−’ (C−H) 1260crrt−” (S i −CHs )12
50〜1150crrL−’ (CFt −CFs
)1120〜1050crrL−’ (Si−0)
GPC()ルエン)ポリスチレン換算分子量数平均分子
量(IVn) 31800重量平均分子量(IVw
) 38120多分散度(IVw/Mn )
1.2水酸基の定量データ OH重量% 0.057(w錫〕O
H(wt%〕よシの計算分子i 29800粘 度(
25℃) 753センチボイス 参考例10 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位にヒドロシリル基を有するジメチ
ルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた31三口丸底フラスコ
に予め乾燥させたテトラ、ヒ゛ドロフラン500vtl
と(トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイド
ロオクチル)ジメチルシラノール25.0M0.060
モル)とへキサメチルシクロトリシロキサン565.1
/ (2,54モル)をN、気流下で仕込み、ブチル
リチウムへキサン溶液(1,5モル#)0.20mを添
加し、20℃で15時間重合させ念。
次に、ジメチルクロロシラン6、17 、F (0,0
65モル)とトリエチルアミン71を加え1時間撹拌し
重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成し
た塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥させた。
65モル)とトリエチルアミン71を加え1時間撹拌し
重合を停止させた。合成物を分液ロートに移し、生成し
た塩を水洗によシ除去した後、無水硫酸ナトリウムで乾
燥させた。
仁うして得られた反応物の低沸分を100℃/10na
Hgの条件で2時間かけて溜表し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
Hgの条件で2時間かけて溜表し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および5i−H差足量データは下記の
通りであった。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および5i−H差足量データは下記の
通りであった。
I R(KBr )
2970cm−’ (C−H)
2250ぼ一’ (Si−H)
1260cWL−’ (Si−CHs )1250
〜1150cm−’ (CFt −CFs )11
20〜1050cIrL ’ (Si−0)GPC(
)ルエン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IV
n) 12320重量平均分子量(IVw)
13550多分散度(IVw/M n ) 1
1Si−H基の定量データ H(ppm) 99.3 〔pp
m)H(ppm)よシの計算分子i 10070粘
度(25℃) 172センチボイズ 実施例1O α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位に−CHt CHt CHt (
0CHtCHt)−OF(基を有するジメチルシロキサ
ン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた2!三口丸底フラスコ
に参考例10で得られたシロキサン化合物100.71
1とトルエン400−を仕込み100℃に加熱した。塩
化白金酸5.2x 10−’I (1,0XIO−’モ
ル)を添加したのちにCHt = CHCHt(OCH
,CHt)−0Si(CH,) (日本油脂■製、ユ
ニオツクスPKA−5002をシリル化後、蒸留にて単
離精製)4.8.9(0,011モル)を添加した。そ
のまま反応温度100℃を保ち20時間熟成させた後、
メタノール500Iを用いて脱トリメチルシリル化反応
を行った。
〜1150cm−’ (CFt −CFs )11
20〜1050cIrL ’ (Si−0)GPC(
)ルエン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IV
n) 12320重量平均分子量(IVw)
13550多分散度(IVw/M n ) 1
1Si−H基の定量データ H(ppm) 99.3 〔pp
m)H(ppm)よシの計算分子i 10070粘
度(25℃) 172センチボイズ 実施例1O α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基をω位に−CHt CHt CHt (
0CHtCHt)−OF(基を有するジメチルシロキサ
ン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた2!三口丸底フラスコ
に参考例10で得られたシロキサン化合物100.71
1とトルエン400−を仕込み100℃に加熱した。塩
化白金酸5.2x 10−’I (1,0XIO−’モ
ル)を添加したのちにCHt = CHCHt(OCH
,CHt)−0Si(CH,) (日本油脂■製、ユ
ニオツクスPKA−5002をシリル化後、蒸留にて単
離精製)4.8.9(0,011モル)を添加した。そ
のまま反応温度100℃を保ち20時間熟成させた後、
メタノール500Iを用いて脱トリメチルシリル化反応
を行った。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10mm
)Igの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
)Igの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキ
サン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、Gpcc
ゲルパーミェーションクロマトクラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の通シ
であった。
ゲルパーミェーションクロマトクラフィー)、粘度のそ
れぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の通シ
であった。
I R(KBr )
3650〜3200cML−’ (−OH)2970
cm−” (C−H) 1260cm−’ (S i −CH5)1250〜
1150cm−’ (CFz−CFs )1120
〜1050CIrL−” (Si−0)GPC()ル
エン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
11400重量平均分子量(IVw) 13
700多分散度(IVw/Mn ) 1.2水
酸基の定量データ OH重量% 0.16 (wt%〕
OH(wt%〕よシの計算分子量 10630粘度(
25℃) 241センチポイズ 実施例11 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基を0位に3−(o−ヒドロキシフェニル
)プロピル基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた21三口丸底フラスコ
に参考例10で得られたシロキサン化合物100.71
9とトルエン3QQm/を仕込み80℃に加熱した。塩
化白金酸5.2X10″″’ Ii(1,0X10−’
モル)を添加したのちにo−(2−プロペニル)フェノ
ール1.5g(0,011モル)を添加した。
cm−” (C−H) 1260cm−’ (S i −CH5)1250〜
1150cm−’ (CFz−CFs )1120
〜1050CIrL−” (Si−0)GPC()ル
エン)ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
11400重量平均分子量(IVw) 13
700多分散度(IVw/Mn ) 1.2水
酸基の定量データ OH重量% 0.16 (wt%〕
OH(wt%〕よシの計算分子量 10630粘度(
25℃) 241センチポイズ 実施例11 α位にトリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイ
ドロオクチル基を0位に3−(o−ヒドロキシフェニル
)プロピル基を有するジメチルシロキサン化合物の製造 撹拌装置と冷却装置を取シ付けた21三口丸底フラスコ
に参考例10で得られたシロキサン化合物100.71
9とトルエン3QQm/を仕込み80℃に加熱した。塩
化白金酸5.2X10″″’ Ii(1,0X10−’
モル)を添加したのちにo−(2−プロペニル)フェノ
ール1.5g(0,011モル)を添加した。
そのまま反応温度80℃を保ち5時間熟成させた。
こうして得られた反応物の低沸分を100℃/10tm
Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
Hgの条件で2時間かけて溜去し、釜残に目的シロキサ
ン化合物をほぼ定量的な収率で得た。
得られたシロキサン化合物のIRスペクトル、GPC(
’7’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の
通シであった。
’7’ルバーミエーションクロマトグラフィー)、粘度
のそれぞれの分析結果および水酸基定量データは下記の
通シであった。
I R(KBr )
3650〜3200cm−’ (−OH)2970ct
rL−’ (C−H) 1260att−’ (S i −CH3)1250〜
1150crrt−’ (CFt −CFs )112
0〜1050α−’ (Si−0)GPC()ルエン)
ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
11950重量平均分子it (IVw) 142
20多分散度(IVw/Mn ) 1.2水酸
基の定量データ OH重’i% 0.17 (wt%
〕OH(wt%〕ヨシノ計算分子量 10000粘度(
25℃) 310センチボイズ 〔発明の効果〕 本発明によるα(、α′ α“)位にフッ素原子含有基
をω位VC1個以上のヒドロキシル基を有するシロキサ
ン化合物をこれと反応可能なポリウレタンやポリエステ
ルなどの反応性水酸基の反応によシ得られる合成樹脂へ
反応させ、化学結合によυ組み込んだ場合下記のような
効果を得ることができる。
rL−’ (C−H) 1260att−’ (S i −CH3)1250〜
1150crrt−’ (CFt −CFs )112
0〜1050α−’ (Si−0)GPC()ルエン)
ポリスチレン換算分子量数平均分子量(IVn)
11950重量平均分子it (IVw) 142
20多分散度(IVw/Mn ) 1.2水酸
基の定量データ OH重’i% 0.17 (wt%
〕OH(wt%〕ヨシノ計算分子量 10000粘度(
25℃) 310センチボイズ 〔発明の効果〕 本発明によるα(、α′ α“)位にフッ素原子含有基
をω位VC1個以上のヒドロキシル基を有するシロキサ
ン化合物をこれと反応可能なポリウレタンやポリエステ
ルなどの反応性水酸基の反応によシ得られる合成樹脂へ
反応させ、化学結合によυ組み込んだ場合下記のような
効果を得ることができる。
1)反応性基がポリウレタンやポリエステルなどの合成
樹脂と化学的に結合するため、経時後の特性の低下を抑
えることができる。
樹脂と化学的に結合するため、経時後の特性の低下を抑
えることができる。
2)フルオロアルキル基が同一分子内に存在することに
より、フッ素原子含有置換基のもつ撥水性、防汚性、離
型性、非接着性、撥油性、低摩擦性および耐着雪性など
従来のトリメチルシロキシ基末端のポリシロキサン化合
物では得られない、もしくは、さらに優れたフルオロア
ルキル基特有の諸機能をポリシロキサンの持つ特性を損
なうことなく付与することができる。
より、フッ素原子含有置換基のもつ撥水性、防汚性、離
型性、非接着性、撥油性、低摩擦性および耐着雪性など
従来のトリメチルシロキシ基末端のポリシロキサン化合
物では得られない、もしくは、さらに優れたフルオロア
ルキル基特有の諸機能をポリシロキサンの持つ特性を損
なうことなく付与することができる。
3)分子量分布が1.1〜1.2と非常に狭いものでは
、分子鎖長がそろっているため合成樹脂へ導入した場合
も分子鎖長のふぞろいのものに比べよシ均一な構造をと
9、加えてアニオンリビング重合による本発明の化合物
は、従来の酸性触媒や塩基性触媒による平衡化反応では
どうしても避けられなかった除去不可能なジメチルシロ
キサンの環状物の生成がないためこれが原因となっての
物性低下やブリードおよび製品のばらつきが抑えられ諸
物性の向上が可能である。
、分子鎖長がそろっているため合成樹脂へ導入した場合
も分子鎖長のふぞろいのものに比べよシ均一な構造をと
9、加えてアニオンリビング重合による本発明の化合物
は、従来の酸性触媒や塩基性触媒による平衡化反応では
どうしても避けられなかった除去不可能なジメチルシロ
キサンの環状物の生成がないためこれが原因となっての
物性低下やブリードおよび製品のばらつきが抑えられ諸
物性の向上が可能である。
4)グラフトポリマーとして合成樹脂の撥水性、防汚性
、離型性、非接着性、撥油性、低摩擦性等の特性の改善
に使用した場合も、シロキサ/の持つ機能に加えフルオ
ロアルキル基特有の機能を付与することができる上、分
子鎖長がそろっているため一定の構造をとらせることが
可能で、しかも使用目的に合わせシロキサン部分とフル
オロアルキル基部分の分子鎖長を変えることで特性をコ
ントロールすることができ、これまでのフルオロアルキ
ル基を持たないジメチルシロキサンタイプに比べさらに
高性能を要求される用途、特に合成樹脂の表面改質など
へと広く展開でき、る。また、従来得られていた特性を
よシ少ない使用量で実現することができるため、対象と
なる合成樹脂の基本物性に与えるシロキサンによる悪影
響を極力抑えることができる。
、離型性、非接着性、撥油性、低摩擦性等の特性の改善
に使用した場合も、シロキサ/の持つ機能に加えフルオ
ロアルキル基特有の機能を付与することができる上、分
子鎖長がそろっているため一定の構造をとらせることが
可能で、しかも使用目的に合わせシロキサン部分とフル
オロアルキル基部分の分子鎖長を変えることで特性をコ
ントロールすることができ、これまでのフルオロアルキ
ル基を持たないジメチルシロキサンタイプに比べさらに
高性能を要求される用途、特に合成樹脂の表面改質など
へと広く展開でき、る。また、従来得られていた特性を
よシ少ない使用量で実現することができるため、対象と
なる合成樹脂の基本物性に与えるシロキサンによる悪影
響を極力抑えることができる。
5)合成樹脂との反応性基であるヒドロキシル基を基準
とした1から3本までシロキサン鎖の本数、要求に応じ
て制御されたシロキサン鎖の鎖長、シロキサン鎖末端の
フッ素原子含有置換基の3条件を任意に設定した化合物
を得ることができ、目的合成樹脂の要求機能特性に合わ
せてより微妙なコントロールされた特性が付与できる。
とした1から3本までシロキサン鎖の本数、要求に応じ
て制御されたシロキサン鎖の鎖長、シロキサン鎖末端の
フッ素原子含有置換基の3条件を任意に設定した化合物
を得ることができ、目的合成樹脂の要求機能特性に合わ
せてより微妙なコントロールされた特性が付与できる。
6)さらに5)に加え、ヒドロキシル基部位のアルキレ
ンオキサイドの分子鎖長や種類を変えることで合成樹脂
への相溶性を上げることができ、よシカ−な導入が可能
となる。
ンオキサイドの分子鎖長や種類を変えることで合成樹脂
への相溶性を上げることができ、よシカ−な導入が可能
となる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)一般式が( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
I ) 〔一般式( I )において、jは2〜2000の整数を
表わし、R^1はペンタフルオロフェニル基、または下
記式(II) CaHbF2a−b+1・・・・・・・・・・・・(I
I) (式(II)中、aは3〜18の整数、bは0から2aの
整数を表わす)で表わされる直鎖もしくは分岐状のフル
オロアルキル基である置換基を表わし、R^2は3−(
m−ヒドロキシフェニル)プロピル基、3−(o−ヒド
ロキシフェニル)プロピル基、3−(p−ヒドロキシフ
ェニル)プロピル基、下記式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
III) (式(III)中、h^0は1〜6の整数を表わし、h^
1およびh^2はそれぞれ0〜20の整数を表わす)で
示される置換基、下記式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
IV) (式(IV)中、X^1は水素原子、メチル基又はエチル
基を表わし、h^0は1〜0の整数を表わし、h^1、
h^2、h^3、h^4、h^5およびh^6はそれぞ
れ0〜20の整数を表わす)で示される置換基、または
下記式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
V) (式(V)中、X^2は水素原子、メチル基又はエチル
基を表わし、h^2は1〜6の整数を表わし、h^1、
h^2、h^3、h^4、h^5およびh^6はそれぞ
れ0〜20の整数を表わす)で示される置換基を表わし
、R^3およびR^4はそれぞれ炭素原子数1〜4のア
ルキル基又はフェニル基を表わす。〕 で示されるオルガノシロキサン化合物。 (2)請求項(1)に記載のオルガノシロキサン化合物
において、一般式( I )中のR^1で示される置換基
が、3,3,3−トリフルオロプロピル基、トリデカフ
ルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル基、
または、ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラ
ハイドロデシル基であるオルガノシロキサン化合物。 (3)一般式が(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
VI) 〔一般式(VI)において、kおよびlはそれぞれ2〜2
000の整数を表わし、R^5およびR^6はそれぞれ
炭素原子1〜4のアルキル基、ペンタフルオロフェニル
基、または下記式(II) CaHbF2a−b+1・・・・・・・・・・(II) (式(II)中、aは3〜18の整数、bは0から2aの
整数を表わす)で表わされる直鎖又は分岐状のフルオロ
アルキル基である置換基を表わし、R^5及びR^6の
うち少なくとも1つは前記置換基のうちフッ素原子含有
置換基であり、R^2は3−(m−ヒドロキシフェニル
)プロピル基、3−(o−ヒドロキシフェニル)プロピ
ル基、3−(p−ヒドロキシフェニル)プロピル基、下
記式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
III) (式(III)中、h^0は1〜6の整数を表わし、h^
1およびh^2はそれぞれ0〜20の整数を表わす)で
示される置換基、下記式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・(IV) (式(IV)中、X^1は水素原子、メチル基又はエチル
基を表わし、h^0は1〜6の整数を表わし、h^1、
h^2、h^3、h^4、h^5およびh^6はそれぞ
れ0〜20の整数を表わす)で示される置換基、又は下
記式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・(V) (式(V)中、X^2は水素原子、メチル基又はエチル
基を表わし、h^0は1〜60整数を表わし、h^1、
h^2、h^3、h^4、h^5およびh^6はそれぞ
れ0〜20の整数を表わす)で示される置換基を表わし
、R^7は炭素原子数1〜4のアルキル基又はフェニル
基を表わす。〕 で示されるオルガノシロキサン化合物。 (4)請求項(3)に記載のオルガノシロキサン化合物
において、一般式(IV)中のR^5およびR^6で示さ
れる置換基がそれぞれ炭素原子数1〜4のアルキル基、
3,3,3−トリフルオロプロピル基、トリデカフルオ
ロ−1,1,2,2−テトラハイドロオクチル基、又は
ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロ
デシル基であり、R^5及びR^6のうち少なくとも1
つは前記置換基のうちフッ素原子含有置換基であるオル
ガノシロキサン化合物。 (5)一般式が(VII) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・(
VII) 〔一般式(VII)において、nおよびpはそれぞれ2〜
2000の整数を表わし、R^8、R^9およびR^1
^0はそれぞれ炭素原子数1〜4のアルキル基、ペンタ
フルオロフェニル基、又は下記式(II) CaHbF2a−b+1・・・・・・・・・・(II) (式(II)中、aは3〜18の整数、bは0から2aの
整数を表わす)で表わされる直鎖もしくは分岐状のフル
オロアルキル基である置換基を表わし、R^8、R^9
及びR^1^0のうち少なくとも1つは前記置換基のう
ちフッ素原子含有置換基であり、R^2は3−(m−ヒ
ドロキシフェニル)プロピル基、3−(o−ヒドロキシ
フェニル)プロピル基、3−(p−ヒドロキシフェニル
)プロピル基、下記式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・(III) (式(III)中、h^0は1〜6の整数を表わし、h^
1およびh^2はそれぞれ0〜20を整数を表わす)で
示される置換基、下記式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・(IV) (式(IV)中、X^1は水素原子、メチル基もしくはエ
チル基を表わし、h^0は1〜6の整数を表わし、h^
1、h^2、h^3、h^4、h^5およびh^6はそ
れぞれ0〜20の整数を表わす)で示される置換基、又
は下記式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・・・・・・・
・(V) (式(V)中、X^2は水素原子、メチル基又はエチル
基を表わし、h^0は1〜6の整数を表わし、h^1、
h^2、h^3、h^4、h^5およびh^6はそれぞ
れ0〜20の整数を表わす)で示される置換基を表わす
。〕 で示されるオルガノシロキサン化合物。 (6)請求項(5)に記載のオルガノシロキサン化合物
において、一般式(VII)中のR^8、R^9およびR
^1^0で示される置換基がそれぞれ炭素原子数1〜4
のアルキル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基、
トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラハイドロオ
クチル基、またはヘプタデカフルオロ−1,1,2,2
−テトラハイドロデシル基であり、R^8、R^9及び
R^1^0のうち少なくとも1つは前記置換基のうちフ
ッ素原子含有置換基であるオルガノシロキサン化合物。 (7)請求項(1)、(2)、(3)、(4)、(5)
又は(6)において、前記R^2で示される置換基が次
式で表わされるものであるオルガノシロキサン化合物。 −CH_2CH_2CH_2−OCH_2CH_2−O
H(8)請求項(1)、(2)、(3)、(4)、(5
)又は(6)において、前記R^2で示される置換基が
次式で表わされるものであるオルガノシロキサン化合物
。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X^1は水素原子、メチル基又はエチル基を表
わす。) (9)請求項(1)、(2)、(3)、(4)、(5)
又は(6)において、前記R^2で示される置換基が次
式で表わされるものであるオルガノシロキサン化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、X^2は水素原子、メチル基又はエチル基を表
わす。)
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63192316A JP2739211B2 (ja) | 1988-08-01 | 1988-08-01 | オルガノシロキサン化合物 |
KR1019890010840A KR900003245A (ko) | 1988-08-01 | 1989-07-31 | 오가노실록산 화합물 |
US07/388,076 US5047491A (en) | 1988-08-01 | 1989-08-01 | Polyorganosiloxane compounds |
EP19890114189 EP0355497A3 (en) | 1988-08-01 | 1989-08-01 | Polyorganosiloxane compounds |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63192316A JP2739211B2 (ja) | 1988-08-01 | 1988-08-01 | オルガノシロキサン化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0242089A true JPH0242089A (ja) | 1990-02-13 |
JP2739211B2 JP2739211B2 (ja) | 1998-04-15 |
Family
ID=16289256
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63192316A Expired - Lifetime JP2739211B2 (ja) | 1988-08-01 | 1988-08-01 | オルガノシロキサン化合物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5047491A (ja) |
EP (1) | EP0355497A3 (ja) |
JP (1) | JP2739211B2 (ja) |
KR (1) | KR900003245A (ja) |
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- 1989-08-01 US US07/388,076 patent/US5047491A/en not_active Expired - Lifetime
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JPH1180359A (ja) * | 1997-09-12 | 1999-03-26 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | 表面改質剤 |
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Publication number | Publication date |
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KR900003245A (ko) | 1990-03-26 |
US5047491A (en) | 1991-09-10 |
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EP0355497A3 (en) | 1991-01-16 |
JP2739211B2 (ja) | 1998-04-15 |
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