JPH0459782A - 含フッ素ジメチルクロロシランの製造方法 - Google Patents
含フッ素ジメチルクロロシランの製造方法Info
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- JPH0459782A JPH0459782A JP2168038A JP16803890A JPH0459782A JP H0459782 A JPH0459782 A JP H0459782A JP 2168038 A JP2168038 A JP 2168038A JP 16803890 A JP16803890 A JP 16803890A JP H0459782 A JPH0459782 A JP H0459782A
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- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 26
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 24
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title claims abstract description 24
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims abstract description 19
- -1 ethylene compound Chemical class 0.000 claims abstract description 16
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 abstract description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 4
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 6
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 3
- 101100030361 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) pph-3 gene Proteins 0.000 description 2
- 125000005192 alkyl ethylene group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002221 fluorine Chemical class 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100040996 Cochlin Human genes 0.000 description 1
- 101000748988 Homo sapiens Cochlin Proteins 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 125000006551 perfluoro alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/14—Preparation thereof from optionally substituted halogenated silanes and hydrocarbons hydrosilylation reactions
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、含フッ素有機基を有するエチレン化合物とジ
メチルクロロシランとの反応により、高収率で含フッ素
ジメチルクロロシランを製造する方法に関する。
メチルクロロシランとの反応により、高収率で含フッ素
ジメチルクロロシランを製造する方法に関する。
(従来技術)
含フッ素アルキルエチレンとジメチルクロロシランを反
応させることによって含フッ素ジメチルクロロシランが
得られることは知られている。この反応式は次式で示さ
れる。
応させることによって含フッ素ジメチルクロロシランが
得られることは知られている。この反応式は次式で示さ
れる。
CB。
RfCH=CHz + H−5i−CjICB。
CB。
RfCHzCHl 5i−C1
Cl。
(式中、Rfは含フッ素有機基を示す)(発明が解決し
ようとする課H) 上記反応は、白金錯体或いはパーオキサイドを触媒とし
て行われているが、その収率が低いのが問題となってい
る。
ようとする課H) 上記反応は、白金錯体或いはパーオキサイドを触媒とし
て行われているが、その収率が低いのが問題となってい
る。
従って本発明は、含フッ素アルキルエチレン等の含フッ
素有機基を有するエチレン化合物とジメチルクロロシラ
ンとの反応により、含フッ素ジンチルクロロシランを高
収率で製造することを目的とする。
素有機基を有するエチレン化合物とジメチルクロロシラ
ンとの反応により、含フッ素ジンチルクロロシランを高
収率で製造することを目的とする。
(課題を達成するための手段)
本発明の含フッ素ジメチルクロロシランの製造方法は、
含フッ素有機基を有するエチレン化合物とジメチルクロ
ロシランとの反応を、ロジウム錯体の存在下で行なうも
のである。
含フッ素有機基を有するエチレン化合物とジメチルクロ
ロシランとの反応を、ロジウム錯体の存在下で行なうも
のである。
即ち、反応触媒としてロジウム錯体を用いることによっ
て従来より短時間で且つ高収率で含フッ素ジメチルクロ
ロシランを得ることに成功したものである。
て従来より短時間で且つ高収率で含フッ素ジメチルクロ
ロシランを得ることに成功したものである。
21±上レゴ【1隻
本発明において出発原料として使用されるエチレン化合
物は、置換基として1価または2価の含フッ素有機基が
、エチレンから水素原子1個を除いたビニル残基に結合
しているものであり、この含フッ素有機基としては、例
えば CIF!tやl + C@P!II(11mはそ
れぞれ1以上、好ましくは1〜10の整数) 等で示されるパーフルオロアルキル基、パーフルオロア
ルキレン基、 C3F、0(−CFCFZO−)−CF−CF、
CF3 (n、p、qはそれぞれ0以上の整数、好ましくはn、
p+qはそれぞれ0〜1oの整数)等で示されるパーフ
ルオロアルキルエーテル基、パーフルオロアルキレンエ
ーテル基等のパーフルオロカーボンの他、これらの基の
フッ素原子の一部が水素原子で置換されたポリフルオロ
カーボンであってもよい。
物は、置換基として1価または2価の含フッ素有機基が
、エチレンから水素原子1個を除いたビニル残基に結合
しているものであり、この含フッ素有機基としては、例
えば CIF!tやl + C@P!II(11mはそ
れぞれ1以上、好ましくは1〜10の整数) 等で示されるパーフルオロアルキル基、パーフルオロア
ルキレン基、 C3F、0(−CFCFZO−)−CF−CF、
CF3 (n、p、qはそれぞれ0以上の整数、好ましくはn、
p+qはそれぞれ0〜1oの整数)等で示されるパーフ
ルオロアルキルエーテル基、パーフルオロアルキレンエ
ーテル基等のパーフルオロカーボンの他、これらの基の
フッ素原子の一部が水素原子で置換されたポリフルオロ
カーボンであってもよい。
この、1価または2価の含フッ素有機基で置換されたエ
チレン化合物としては、これに限定されるものではない
が、代表例として以下のものを例示することができる。
チレン化合物としては、これに限定されるものではない
が、代表例として以下のものを例示することができる。
CFsCToCTo 、CtFsCH=C1h 、
CJtCH=CHz 。
CJtCH=CHz 。
CaF*CH=CHz l C6F13CH=CH!
、 C6F13CH=CH! 。
、 C6F13CH=CH! 。
CHz=CHCbP+zCH=CHz 。
P22〜」1生
本発明において反応触媒として用いられるロジウム錯体
としては、例えばRhCf (PPbs)3゜RhCf
(CO)(PPbs)z 、[Rh(CHsCOO)
z]z 。
としては、例えばRhCf (PPbs)3゜RhCf
(CO)(PPbs)z 、[Rh(CHsCOO)
z]z 。
[RhCl (Czlla) z]□、 [RhCj
! (CJs)]z (ここでC?HIは2価配位子;
ノルボルナジェンを示す)、Rh(C1(+C0CHz
COCHs)s (式中、phはフェニル基を示す)等
の錯体が好適である。これらのロジウム錯体は、前記エ
チレン化合物1モル当たり1.0X10−’〜1.0X
10−’モル、特に1.0X10−’〜1.0X10−
3モルの範囲で使用されることが好適である。
! (CJs)]z (ここでC?HIは2価配位子;
ノルボルナジェンを示す)、Rh(C1(+C0CHz
COCHs)s (式中、phはフェニル基を示す)等
の錯体が好適である。これらのロジウム錯体は、前記エ
チレン化合物1モル当たり1.0X10−’〜1.0X
10−’モル、特に1.0X10−’〜1.0X10−
3モルの範囲で使用されることが好適である。
反−息
含フッ素有機基を有するエチレン化合物とジメチルクロ
ロシランとの反応は、上記のロジウム錯体の存在下にお
いて、例えばオートクレーブ中、50〜250℃、好ま
しくは70〜150℃の範囲で行われる。上記エチレン
化合物とジメチルクロロシランとの配合比は、一般にジ
メチルクロロシランを該エチレン化合物中のエチレン量
の1.0〜5.0倍モル、好ましくは1.1〜2.0倍
モルとすることが望ましい。
ロシランとの反応は、上記のロジウム錯体の存在下にお
いて、例えばオートクレーブ中、50〜250℃、好ま
しくは70〜150℃の範囲で行われる。上記エチレン
化合物とジメチルクロロシランとの配合比は、一般にジ
メチルクロロシランを該エチレン化合物中のエチレン量
の1.0〜5.0倍モル、好ましくは1.1〜2.0倍
モルとすることが望ましい。
この反応は、前述した反応式に従って進行し、例えば上
記エチレン化合物として1官能性のものを使用した場合
には、下記一般式(I)CI。
記エチレン化合物として1官能性のものを使用した場合
には、下記一般式(I)CI。
RfCHzCHz Si C1(1)CF3
式中、Rfは1価の含フッ素有機基を示す、で表わされ
る含フッ素ジメチルクロロシ、ランが高収率で得られる
。この含フッ素ジメチルクロロシランは、シリル化剤、
シリカ処理剤及び界面活性剤原料等として有用である。
る含フッ素ジメチルクロロシ、ランが高収率で得られる
。この含フッ素ジメチルクロロシランは、シリル化剤、
シリカ処理剤及び界面活性剤原料等として有用である。
また上記エチレン化合物として2官能性のものを使用し
た場合には、下記一般式(If)、式中、Rf’ は2
価の含フッ素有機基である、で表わされるジメチルクロ
ロシランが得られる。
た場合には、下記一般式(If)、式中、Rf’ は2
価の含フッ素有機基である、で表わされるジメチルクロ
ロシランが得られる。
このジメチルクロロシランは、主鎖フッ素変性ハイブリ
ッドフロロシリコーン用原料として有用である。
ッドフロロシリコーン用原料として有用である。
(実施例)
裏蓋■上
撹拌器、内温温度針を備えた300II+7!オートク
レーブに、 n C4FqCH=CH2179g ジメチルクロロシラン 98gRh (、e
(PPbs)a (ウィルキンソン錯体)0.11
g を仕込み、100℃で4時間、加熱攪拌を行なった。
レーブに、 n C4FqCH=CH2179g ジメチルクロロシラン 98gRh (、e
(PPbs)a (ウィルキンソン錯体)0.11
g を仕込み、100℃で4時間、加熱攪拌を行なった。
反応後、25℃に冷却し、反応生成物を取出し、ガスク
ロマトグラフィーにより定量したところ、n−C4Fq
CH=CH2の転化率93%であり、下記式、II CaFqCHzCHzSi C1 CO。
ロマトグラフィーにより定量したところ、n−C4Fq
CH=CH2の転化率93%であり、下記式、II CaFqCHzCHzSi C1 CO。
で表わされるジメチルクロロシランの選択率93%であ
った。
った。
1蓋1
実施例1で使用した300m lオートクレーブに、C
Hz=CHC6F+ zcH=cIh
177 gジメチルクロロシラン 122gR
h C1(PPh3) s O,08
gを仕込み、110℃で6時間、加熱攪拌した。
Hz=CHC6F+ zcH=cIh
177 gジメチルクロロシラン 122gR
h C1(PPh3) s O,08
gを仕込み、110℃で6時間、加熱攪拌した。
反応後、実施例1と同様にして反応生成物の定量を行な
ったところ、CUt・CHCiF+zCH=CHzの転
化率99%であり、下記式、 CB、 Cf13で示され
る付加反応生成物の選択率79%であった。
ったところ、CUt・CHCiF+zCH=CHzの転
化率99%であり、下記式、 CB、 Cf13で示され
る付加反応生成物の選択率79%であった。
裏施■主
実施例1で用いた300m lオートクレーブに、(H
FPO3量体エチレン) ジメチルクロロシラン 61gRh Cl
(PPhx) 3 0.09 gを仕込
み、100°Cで6時間、加熱攪拌した。
FPO3量体エチレン) ジメチルクロロシラン 61gRh Cl
(PPhx) 3 0.09 gを仕込
み、100°Cで6時間、加熱攪拌した。
反応後、実施例1と同様にして反応生成物の定量を行な
ったところ、HFPOS量体エチレンの転化率86%、
下記式、 比較例1〜8 実施例1と同様の反応をRh Cf (PPh3)3の
代わりに各種触媒を使用して反応を行った。付加反応生
成物の選択率等の結果を表−2に示す。
ったところ、HFPOS量体エチレンの転化率86%、
下記式、 比較例1〜8 実施例1と同様の反応をRh Cf (PPh3)3の
代わりに各種触媒を使用して反応を行った。付加反応生
成物の選択率等の結果を表−2に示す。
表−2
で表わされる付加反応生成物の選択率88%であった。
実施例3〜6
実施例1と同様の反応をRh C1(PPhs)sの代
わりに各種ロジウム触媒0.1gを使用して反応を行な
った。その結果を表−1に示す。
わりに各種ロジウム触媒0.1gを使用して反応を行な
った。その結果を表−1に示す。
表−1
RhCl (CO) (PPhs) z[RhC1(C
2H4) !] ! Rh (CHsCOCHzCOCHz) 3(発明の効
果) 本発明によれば、 従来低数率でしか得られなが った含フッ素ジメチルクロロシランを高収率で得ること
が可能となった。
2H4) !] ! Rh (CHsCOCHzCOCHz) 3(発明の効
果) 本発明によれば、 従来低数率でしか得られなが った含フッ素ジメチルクロロシランを高収率で得ること
が可能となった。
Claims (1)
- (1)含フッ素有機基を有するエチレン化合物とジメチ
ルクロロシランとをロジウム錯体の存在下において反応
させることを特徴とする含フッ素ジメチルクロロシラン
の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2168038A JPH0459782A (ja) | 1990-06-26 | 1990-06-26 | 含フッ素ジメチルクロロシランの製造方法 |
US07/720,705 US5196560A (en) | 1990-06-26 | 1991-06-25 | Process for preparing fluorine-containing dimethylchlorosilanes |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2168038A JPH0459782A (ja) | 1990-06-26 | 1990-06-26 | 含フッ素ジメチルクロロシランの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0459782A true JPH0459782A (ja) | 1992-02-26 |
Family
ID=15860670
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2168038A Pending JPH0459782A (ja) | 1990-06-26 | 1990-06-26 | 含フッ素ジメチルクロロシランの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5196560A (ja) |
JP (1) | JPH0459782A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5250490A (en) * | 1991-12-24 | 1993-10-05 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Noble metal supported on a base metal catalyst |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0115943B1 (en) * | 1983-01-26 | 1987-10-21 | Sagami Chemical Research Center | Process for preparing polyfluoroalkyl-substituted compounds |
JPS61148184A (ja) * | 1984-12-22 | 1986-07-05 | Chisso Corp | 片末端カルボキシル基含有シロキサン化合物 |
JP2739211B2 (ja) * | 1988-08-01 | 1998-04-15 | チッソ株式会社 | オルガノシロキサン化合物 |
-
1990
- 1990-06-26 JP JP2168038A patent/JPH0459782A/ja active Pending
-
1991
- 1991-06-25 US US07/720,705 patent/US5196560A/en not_active Expired - Lifetime
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
J.ORGANOMET.CHEM.=1984 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5196560A (en) | 1993-03-23 |
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