KR900003245A - 오가노실록산 화합물 - Google Patents

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요시노리 아쿠쯔
다카하루 나카노
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Abstract

내용 없음

Description

오가노실록산 화합물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (24)

  1. 하기 일반식(I)의 오가노실록산 화합물.
    (I)
    상기식(I)에서, j는 2 내지 2000의 정수를 나타내고, R¹은 펜타플루오로페닐기 또는 하기 식 (II)의 직쇄 또는 측쇄상 플루오로알킬기를 나타내며, R²는 3-(m-하이드록시페닐)프로필기, 3-(o-하이드록시페닐)프로필기, 3-(p-하이드록시페닐)프로필기, 하기식 (Ⅲ)의 치환기, 하기 식(Ⅳ)의 치환기 또는 하기 식(Ⅴ)의 치환기를 나타내고, R³및 R⁴는 각각 독립적으로 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다.
    CaHbF2a-b+1(II)
    (Ⅲ)
    [상기식에서, a는 3 내지 18의 정수이고, b는 0 내지 2a의 정수이며, h°은 1 내지 6의 정수이고, h¹, h², hh³, h⁴, h5및 h6은 각각 독립적으로 0 내지 20의 정수이며, X¹및 X²는 수소원자, 메틸기 또는 에틸기이다.]
  2. 제 1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)중의 R¹로 나타낸 치환기가 3,3,3-트리플루오로프로필기, 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라하이드로옥틸기 또는 펜타데카플로오로-1,1,2,2-테트라하이드로데실기인 오가노실록산 화합물.
  3. 하기 일반식(Ⅵ)의 오가노실록산 화합물.
    상기식(Ⅵ)에서, k및 l은 각각 2 내지 2000의 정수를 나타내고, R5및 R6은 각각 독립적으로 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기, 펜타플루오로페닐기 또는 하기식(Ⅱ)의 직쇄 또는 측쇄상 플루오로알킬기를 나타내는데 이들 중에서 적어도 하나는 상기한 치환기 중에서 불소원자를 함유하는 치환기이며, R²는 3-(m-하이드록시페닐)프로필기, 3-(o-하이드록시페닐)프로필기, 3-(p-하이드록시페닐)프로필기, 하기 식(Ⅲ)의 치환기, 하기 식(Ⅳ)의 치환기 또는 하기 식(Ⅴ)의 치환기이며, R7은 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다.
    CaHbF2a-b+1(Ⅱ)
    [상기식에서, a는 3 내지 18의 정수이고, b는 0내지 2a의 정수이며, h˚은 1 내지 6의 정수이고, h¹,h²,hh³,h⁴,h5및 h6은 각각 독립적으로 0 내지 20의 정수이며, X¹및 X²는 수소원자, 메틸기 또는 에틸기이다.]
  4. 제 3항에 있어서, 일반식(Ⅳ)중의 R5및 R6에 나타낸 치환기가 각각 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라하이드로옥틸기 또는 헵타데카플루오로-1,1,2,2-테트라하이드로데실기이며 R5및 R6중에서 적어도 하나는 상기한 치환기 중에서 불소원자를 함유치환기인 오가노실록산 화합물.
  5. 하기 일반식(Ⅶ)의 오가노실록산 화합물.
    상기식(Ⅶ)에서 m, n 및 p는 각각 독립적으로 2 내지 2000의 정수를 나타내고, R8, R9및 R10은 각각 독립적으로 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기, 펜타플루오로페닐기 또는 하기 식(Ⅱ)의 직쇄 또는 측쇄상 플루오로알킬기를 나타내는데 이들중의 적어도 하나는 상기한 치환기 중에서 불소원자를 함유하는 치환기이며, R²는 3-(m-하이드록시페닐)프로필기, 3-(o-하이드록시페닐)프로필기, 3-(p-하이드록시페닐)프로필기, 하기 식(Ⅲ)의 치환기, 하기 식(Ⅳ)의 치환기 또는 하기 식(Ⅴ)의 치환기를 나타낸다.
    [상기식에서, a는 3 내지 18의 정수이고,b는 0 내지 2a의 정수이며, h˚은 1 내지 6의 정수이고, h¹,h²,h³,h⁴,h5및 h6은 각각 독립적으로 0 내지 20의정수이며, X¹및 X²는 수소원자, 메틸기 또는 에틸기이다.]
  6. 제 5항에 있어서, 일반식(Ⅶ)중의 R8, R9및 R10으로 나타낸 치환기가 각각 탄소원자수 1 내지 4의 알킬기, 3,3,3-트리플루오로프로필기, 트리데카플루오로-1,1,2,2-테트라하이드로옥틸기 또는 헵타데카플루오로-1,1,2,2-테트라하이드로데실기이며, R8, R9및 R10중에서 적어도 하나는 상기한 치환기 중에서 불소원자를 함유하는 치환기인 오가노실록산 화합물.
  7. 제 1항에 있어서, R²로 나타낸 치환기가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    -(CH₂)₃(OCH₂CH₂)-OH
  8. 제 2항에 있어서, R²로 나타낸 치환기가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    -(CH₂)₃(OCH₂CH₂)-OH
  9. 제 3항에 있어서, R²로 나타낸 치환기가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    -(CH₂)₃(OCH₂CH₂)-OH
  10. 제 4항에 있어서, R²로 나타낸 치환기가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    -(CH₂)₃(OCH₂CH₂)-OH
  11. 제 5항에 있어서, R²로 나타낸 치환기가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    -(CH₂)₃(OCH₂CH₂)-OH
  12. 제 6항에 있어서, R²로 나타낸 치환기가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    -(CH₂)₃(OCH₂CH₂)-OH
  13. 제 1항에 있어서, R²로 나타낸 치환기가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    (상기식에서, X¹은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다)
  14. 제 2항에 있어서, R²로 나타낸 치환기가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    (상기식에서, X¹은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다)
  15. 제 3항에 있어서, R²로 나타낸 치환기가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    (상기식에서, X¹은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다)
  16. 제 4항에 있어서, R²로 나타낸 치환기가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    (상기식에서, X¹은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다)
  17. 제 5항에 있어서, R²로 나타낸 치환기가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    (상기식에서, X¹은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다)
  18. 제 6항에 있어서, R²로 나타낸 치환기가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    (상기식에서, X¹은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다)
  19. 제 1항에 있어서, R²가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    (상기식에서, X²은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다)
  20. 제 2항에 있어서, R²가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    (상기식에서, X²은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다)
  21. 제 3항에 있어서, R²가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    (상기식에서, X²은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다)
  22. 제 4항에 있어서, R²가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    (상기식에서, X²은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다)
  23. 제 5항에 있어서, R²가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    (상기식에서, X²은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다)
  24. 제 6항에 있어서, R²가 하기식의 치환기인 오가노실록산 화합물.
    (상기식에서, X²은 수소원자, 메틸기 또는 에틸기를 나타낸다)
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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