KR840005100A - 4-퀴놀론 유도체의 제법 - Google Patents

4-퀴놀론 유도체의 제법 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

4-퀴놀론 유도체의 제법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (5)

  1. 다음의 일반식(Ⅲ)으로 표시되는 화합물 또는 그 호변 이성체를 환이형성되도록 반응시키고, R1-X(X는 할로겐을 표시, R1은 수소, 탄소수 1-8의 저급알킬, 또는 탄소수 1-4의 저급알케닐을 표시한다)를 반응시키는 것을 특징으로 하는 다음의 일반식(I)로 표시되는 화합물의 제조방법.
    여기서 R2는 수소, 탄소수 1-8의 저급알킬, 또는 탄소수 1-4의 저급알케닐을 표시하고 R3은 수소, 수산기를 0-2개 갖는 탄소수 1-8의 저급알킬, 에테르결합을 1-2개 갖는 탄소수 3-10의 저급알킬, 또는 -(CH2)n-A-(n 또는 1,2 또는 3을 표시하고 A는 아세틸기, 아세틸옥시기 또는 페녹시기를 표시한다)로 표시한다. Z는 단수 또는 복수의 치환기를 갖거나 또는 갖지 않는 페닐기(여기에서 치환기기는 수소, 할로겐, 탄소수 1-8의 저급알킬, 탄소수 1-3의 저급할로겐화알킬, 탄소수 1-4의 저급알콕시, 또는 COOR4(R4는 수소, 또는 탄소수 1-4의 저급알킬을 표시한다)이다, 또는 헤테로원자로서 질소, 산소 또는 유황을 가지는 5각 또는 6각의 불포화헤테로환기를 표시한다. R5는 저급알킬을 표시한다.
    여기서 R1, R2, R3, Z는 상기와 동일함.
  2. 다음의 일반식(Ⅲ)으로 표시되는 화합물을 환원제로 환원시킨후 환이 형성되도록 반응시키고, R1-X(X는 할로겐을 표시한다. R1은 수소, 탄소수 1-8의 저급알킬, 또는 탄소수 1-4의 저급알케닐을 표시한다)를 반응시키는 것을 특징으로 하는 다음의 일반식(I)으로 표시되는 화합물의 방법.
    여기서 R2는 수소, 탄소수 1-8의 저급알킬, 또는 탄소수 1-4의 저급알케닐을 표시하고, R3은 수소, 수산기를 0-2개 갖는 탄소수 1-8의 저급알킬, 에테르결합을 1-2개 갖는 탄소수 3-10의 저급알킬, 또는 -(CH2)n-A(n는 1,2 또는 3을 표시하고 A는 아세틸기, 아세틸옥시기, 시아노기 또는 페녹시기를 표시)를 표시한다.
    Z는 단수 또는 복수의 치환기를 갖거나 또는 갖지 않은 페닐기(여기에서 치환기는 수소, 할로겐, 탄소수 1-8의 저급알킬, 탄소수 1-3의 저급할로겐알킬, 탄소수 1-4의 저급알콕시, 또는 COOR4(R4는 수소, 또는 탄소수 1-4의 저급알킬을 표시)이다. 또는 헤테로원자로서 질소, 산소 또는 유활을 갖는 5각 또는 6각의 불포화헤테로환기를 표시한다)으로
    여기서 R1, R2, R3, Z는 상기와 동일함.
  3. 다음의 일반식(Ⅳ)로 표시되는 화합물 또는 그 호변이성체를 환이 형성되도록 반응시키고 R1-X(X는 할로겐을 표시. R1은 수소, 탄소수 1-8의 저급알킬, 또는 탄소수 1-4의 저급알케닐을 표시)를 반응시키는 것을 특징으로 하는 다음의 일반식(I)으로 표시되는 화합물의 방법.
    여기서 R2는 수소, 탄소수 1-8의 저급알킬, 또는 탄소수 1-4의 저급알케닐을 표시하고, R3은 수소, 수산기를 0-2개 갖는 탄소수 1-8의 저급알킬, 에테르결합을 1-2개 갖는 탄소수 3-10의 저급알킬, 또는 -(CH2)n-A(n는 1,2 또는 3을 표시하고, A는 아세틸기, 아세틸옥시기, 시아노기 또는 페녹시기를 표시)를 표시한다.
    Z는 단수 또는 복수의 치환기를 갖거나, 또는 갖지 않는 페닐기(여기에서 치환기는 수소, 할로겐, 탄소수 1-8의 저급알킬, 탄소수 1-3의 저급할로겐알킬, 탄소수 1-4의 저급알콕시, 또는 COOR4(R4는 수소, 또는 탄소수 1-4의 저급알킬을 표시한다)이다. 또는 헤테로원자로서 질소, 산소 또는 유황을 가지는 5각 또는 6각의 불포화헤테로환기를 표시한다.
    여기서 R1, R2, R3, Z는 상기와 동일함.
  4. 다음의 일반식(Ⅴ)로 표시되는 화합물에 다음의 일반식(Ⅵ)으로 표시되는 화합물을 반응시키고, R1-X(X는 할로겐을 표시한다. R1은 수소, 탄소수 1-8의 저급알킬, 또는 탄소수 1-4의 저급알케닐을 표시한다)를 반응시키는 것을 특징으로 하는 다음의 일반식(I)으로 표시되는 화합물의 방법.
    여기서 R3는 수소, 수산기를 0-2개 갖는 탄소수 1-8의 저급알킬, 에테르결합을 1-2개 갖는 탄소수 3-10의 저급알킬, 또는 -(CH2)n-A(n는 1,2 또는 3을 표시하고 A는 아세틸기, 아세틸옥시기, 시아노기 또는 페녹시기를 표시)를 표시한다.
    여기서 R2는 수소, 탄소수 1-8의 저급알킬, 또는 탄소수 1-4의 저급알케닐을 표시하고, Z는 단수 또는 복수의 치환치를 가지거나 또는 갖지않는 페닐기(여기에서 치환기는 수소, 할로겐, 탄소수 1-8의 저급알킬, 탄소수 1-3의 저급할로겐화알킬, 탄소수 1-4의 알킬을 표시한다)이다.또는 헤테로원자로서 질소, 산소 또는 유황을 가지는 5각 또는 6각의 불포화헤테로환기를 표시한다.
    여기서 R1, R2, R3, Z는 상기와 동일함.
  5. 다음의 일반식(Ⅶ)로 표시되는 화합물에 다음의 일반식(Ⅷ)로 표시되는 화합물을 반응시키고, R1-X(X는 할로겐을 표시한다. R1은 수소, 탄소수 1-8의 저급알킬, 또는 탄소수 1-4의 저급알케닐을 표시한다) 반응시키는 것을 특징으로 하는 다음의 일반식(I)으로 표시되는 화합물의 제조방법.
    여기서 R2는 수소, 탄소수 1-8의 저급알킬, 또는 탄소수 1-4의 저급알케닐을 표시하고, R3는 수소, 수산기를 0-2개 갖는 탄소수 1-8의 저급알킬, 에테르결합을 1-2개 갖는 탄소수 3-10의 저급알킬, 또는 -(CH2)n-A(n는 1,2 또는 3을 표시하고 A는 아세틸기, 아세틸옥시기, 시아노기 또는 페녹시기를 표시)를 표시한다.
    ZCHO (Ⅷ)
    여기서 Z는 단수 또는 복수의 치환기를 갖거나, 또는 갖지않은 페닐기(여기에서 치환기는 수소, 할로겐, 탄소수 1-8의 저급알킬, 탄소수 1-3의 저급할로겐화알킬, 탄소수 1-4의 저급알콕시, 또는 COOR4R4는 수소, 또는 탄소수 1-4의 저급알킬을 표시한다)이다.또는 헤테로원자로서 질소, 산소 또는 유황을 갖는 5각 또는 6각의 불포화헤테로환기를 표시한다.
    여기서 R1, R2, R3, Z는 상기와 동일함.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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