JPH024114Y2 - - Google Patents
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- JPH024114Y2 JPH024114Y2 JP9636985U JP9636985U JPH024114Y2 JP H024114 Y2 JPH024114 Y2 JP H024114Y2 JP 9636985 U JP9636985 U JP 9636985U JP 9636985 U JP9636985 U JP 9636985U JP H024114 Y2 JPH024114 Y2 JP H024114Y2
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- Japan
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- cooling water
- amount
- cooling
- ejector
- condenser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 14
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 claims description 7
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- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 8
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Landscapes
- Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は溶鋼を真空脱ガスする際に適用される
排気装置に関するものである。
排気装置に関するものである。
溶鋼中には水素、窒素等のガスが混在し歩留り
や製品品質に悪影響を及ぼすので溶鋼を脱ガス槽
に入れて真空手段を有する排気装置に連絡し、真
空脱ガスを行ういわゆる真空脱ガス処理が広く採
用されるようになつた。
や製品品質に悪影響を及ぼすので溶鋼を脱ガス槽
に入れて真空手段を有する排気装置に連絡し、真
空脱ガスを行ういわゆる真空脱ガス処理が広く採
用されるようになつた。
従来の真空脱ガス用排気装置を第２図に示す。
図において１は脱ガス槽であり受鋼鍋１Ａの上部
に連絡せられ、該脱ガス槽１には排気装置２０が
連絡する。排気装置２０は７個のスチームエジエ
クター２，３，４，５，６，７と３個のコンデン
サー８，９，１０とからなり、エジエクター２，
３，４はいわゆるブースターと呼ばれる大型のも
のであり第１段のコンデンサー８の前段に配さ
れ、エジエクター５はコンデンサー８，９間に配
され、エジエクター６，７はコンデンサー９，１
０間に配されている。そしてコンデンサー８，
９，１０には冷却水路８Ａ，９Ａ，１０Ａが連絡
している。
図において１は脱ガス槽であり受鋼鍋１Ａの上部
に連絡せられ、該脱ガス槽１には排気装置２０が
連絡する。排気装置２０は７個のスチームエジエ
クター２，３，４，５，６，７と３個のコンデン
サー８，９，１０とからなり、エジエクター２，
３，４はいわゆるブースターと呼ばれる大型のも
のであり第１段のコンデンサー８の前段に配さ
れ、エジエクター５はコンデンサー８，９間に配
され、エジエクター６，７はコンデンサー９，１
０間に配されている。そしてコンデンサー８，
９，１０には冷却水路８Ａ，９Ａ，１０Ａが連絡
している。
上記構成において、溶湯を受鋼鍋１Ａから脱ガ
ス槽１に循還させ排気装置２０により真空下に脱
ガスを行う。真空はエジエクター２，３，４，
５，６，７内のノズルから高速度のスチームジエ
ツトを噴射して脱ガス槽１内のガスを該スチーム
ジエツトに同伴吸引することにより得られる。排
気装置２０に吸引されたガスはコンデンサー８，
９，１０において冷却水路８Ａ，９Ａ，１０Ａか
らの冷却水と接触し冷却されると共に除塵され
る。上記真空脱ガス工程の初期においてはガスの
排出量は多くエジエクター５のみを作動させ、ガ
ス排出量が少なくなるにつれてエジエクター６を
作動させ、次いでエジエクター２，３，４を作動
させると言うように真空度を高めて行く。同時に
ガス排出量が少なくなれば冷却水による冷却も必
要でなくなるからコンデンサー８，９，１０への
冷却水の供給を停止する。
ス槽１に循還させ排気装置２０により真空下に脱
ガスを行う。真空はエジエクター２，３，４，
５，６，７内のノズルから高速度のスチームジエ
ツトを噴射して脱ガス槽１内のガスを該スチーム
ジエツトに同伴吸引することにより得られる。排
気装置２０に吸引されたガスはコンデンサー８，
９，１０において冷却水路８Ａ，９Ａ，１０Ａか
らの冷却水と接触し冷却されると共に除塵され
る。上記真空脱ガス工程の初期においてはガスの
排出量は多くエジエクター５のみを作動させ、ガ
ス排出量が少なくなるにつれてエジエクター６を
作動させ、次いでエジエクター２，３，４を作動
させると言うように真空度を高めて行く。同時に
ガス排出量が少なくなれば冷却水による冷却も必
要でなくなるからコンデンサー８，９，１０への
冷却水の供給を停止する。
上記従来技術においては冷却水の供給を停止し
た時点でコンデンサー８，９，１０、特にコンデ
ンサー８におけるガスの除塵が出来なくなり、ダ
スト排気装置２０のガス径路やエジエクター内に
詰まり、１ケ月に１回は排気装置２０内の掃除が
必要になる。しかし脱ガス工程を通じてコンデン
サーに冷却水を供給することは冷却水が大量に消
費されコストアツプになる。
た時点でコンデンサー８，９，１０、特にコンデ
ンサー８におけるガスの除塵が出来なくなり、ダ
スト排気装置２０のガス径路やエジエクター内に
詰まり、１ケ月に１回は排気装置２０内の掃除が
必要になる。しかし脱ガス工程を通じてコンデン
サーに冷却水を供給することは冷却水が大量に消
費されコストアツプになる。
本考案は上記従来の問題点を解決するための手
段として、脱ガス槽１に連絡し、エジエクター
２，３，４，５Ａ，５Ｂ，６Ａ，６Ｂ，７Ａ，７
Ｂ，７Ｃとコンデンサー８，９，１０，１１との
結合からなり、第１段のコンデンサー８に連絡す
る冷却水路８Ａには開閉弁８Ｂを介在させるとと
もに該開閉弁を迂回し口径が該冷却水路８Ａの口
径よりも小さいバイパス路８１を連絡したことを
特徴とする真空脱ガス用排気装置を提供するもの
である。
段として、脱ガス槽１に連絡し、エジエクター
２，３，４，５Ａ，５Ｂ，６Ａ，６Ｂ，７Ａ，７
Ｂ，７Ｃとコンデンサー８，９，１０，１１との
結合からなり、第１段のコンデンサー８に連絡す
る冷却水路８Ａには開閉弁８Ｂを介在させるとと
もに該開閉弁を迂回し口径が該冷却水路８Ａの口
径よりも小さいバイパス路８１を連絡したことを
特徴とする真空脱ガス用排気装置を提供するもの
である。
上記構成にもとづく本考案の作用は下記の通り
である。
である。
エジエクターを作動させて脱ガス槽中の溶鋼か
ら排出されるガスを吸引する。吸引されたガスは
コンデンサーにおいて冷却水路からの冷却水に接
触して冷却除塵される。ガス排出量が少なくなつ
て来たら冷却水路の開閉弁を閉じバイパス路から
コンデンサーに冷却水を供給してガスの除塵を行
う。バイパス路からの冷却水供給量は冷却水路か
ら直接冷却水を供給する場合の供給量よりも少な
くてすむ。
ら排出されるガスを吸引する。吸引されたガスは
コンデンサーにおいて冷却水路からの冷却水に接
触して冷却除塵される。ガス排出量が少なくなつ
て来たら冷却水路の開閉弁を閉じバイパス路から
コンデンサーに冷却水を供給してガスの除塵を行
う。バイパス路からの冷却水供給量は冷却水路か
ら直接冷却水を供給する場合の供給量よりも少な
くてすむ。
したがつて本考案においては脱ガス工程を通じ
てガスが第１段のコンデンサーによつて除塵され
るからガス径路やエジエクター内にダストが詰ま
ることは確実に防止され、またガス排出量が少な
くなり冷却水による冷却の必要がなくなつた場合
にはバイパス路から除塵に必要なだけの水量をコ
ンデンサーに供給するから冷却水の必要量も最小
限になりコストアツプにつながらない。
てガスが第１段のコンデンサーによつて除塵され
るからガス径路やエジエクター内にダストが詰ま
ることは確実に防止され、またガス排出量が少な
くなり冷却水による冷却の必要がなくなつた場合
にはバイパス路から除塵に必要なだけの水量をコ
ンデンサーに供給するから冷却水の必要量も最小
限になりコストアツプにつながらない。
本考案を第１図に示す一実施例によつて説明す
れば、図において１は受鋼槽１Ａの上部に連絡し
ている脱ガス槽であり、該脱ガス槽１には排気装
置２０が連絡する。排気装置２０は10個のスチー
ムエジエクター２，３，４，５Ａ，５Ｂ，６Ａ，
６Ｂ，７Ａ，７Ｂ，７Ｃと４個のコンデンサー
８，９，１０，１１とからなりエジエクター２，
３，４はブースターと呼ばれる大型のエジエクタ
ーであつて第１段のコンデンサー８の前段に配さ
れ、エジエクター５Ａ，５Ｂはコンデンサー８，
９間に並列的に配され、エジエクター６Ａ，６Ｂ
はコンデンサー９，１０間に並列的に配され、エ
ジエクター７Ａ，７Ｂはコンデンサー１０，１１
間に並列的に配されている。更にコンデンサー
９，１１間にはエジエクター７Ｃが差渡されてい
る。そしてコンデンサー８，９，１０，１１には
冷却水路８Ａ，９Ａ，１０Ａ，１１Ａが連絡し、
該冷却水路８Ａ，９Ａ，１０Ａ，１１Ａには電磁
開閉弁８Ｂ，９Ｂ，１０Ｂ，１１Ｂが介在し、第
１段のコンデンサー８の冷却水路８Ａには電磁開
閉弁８Ｂを迂回するバイパス路８１Ａが連絡し、
該バイパス路８１Ａには開閉弁８１Ｂが介在す
る。該バイパス路８１Ａの口径は冷却水路８Ａの
口径よりも小さくする。例えば冷却水路８Ａの口
径を450mmとするとバイパス路８１Ａの口径は150
mm程度とする。
れば、図において１は受鋼槽１Ａの上部に連絡し
ている脱ガス槽であり、該脱ガス槽１には排気装
置２０が連絡する。排気装置２０は10個のスチー
ムエジエクター２，３，４，５Ａ，５Ｂ，６Ａ，
６Ｂ，７Ａ，７Ｂ，７Ｃと４個のコンデンサー
８，９，１０，１１とからなりエジエクター２，
３，４はブースターと呼ばれる大型のエジエクタ
ーであつて第１段のコンデンサー８の前段に配さ
れ、エジエクター５Ａ，５Ｂはコンデンサー８，
９間に並列的に配され、エジエクター６Ａ，６Ｂ
はコンデンサー９，１０間に並列的に配され、エ
ジエクター７Ａ，７Ｂはコンデンサー１０，１１
間に並列的に配されている。更にコンデンサー
９，１１間にはエジエクター７Ｃが差渡されてい
る。そしてコンデンサー８，９，１０，１１には
冷却水路８Ａ，９Ａ，１０Ａ，１１Ａが連絡し、
該冷却水路８Ａ，９Ａ，１０Ａ，１１Ａには電磁
開閉弁８Ｂ，９Ｂ，１０Ｂ，１１Ｂが介在し、第
１段のコンデンサー８の冷却水路８Ａには電磁開
閉弁８Ｂを迂回するバイパス路８１Ａが連絡し、
該バイパス路８１Ａには開閉弁８１Ｂが介在す
る。該バイパス路８１Ａの口径は冷却水路８Ａの
口径よりも小さくする。例えば冷却水路８Ａの口
径を450mmとするとバイパス路８１Ａの口径は150
mm程度とする。
上記構成において、溶湯を受鋼鍋１Ａから脱ガ
ス槽１に循環させ排気装置２０により真空下に脱
ガスを行う。真空はエジエクター２，３，４，５
Ａ，５Ｂ，６Ａ，６Ｂ，７Ａ，７Ｂ，７Ｃ内のノ
ズルから高速度のスチームジエツトを噴射して脱
ガス槽１内のガスを該スチームジエツトに同伴吸
引することにより得られる。排気装置１１に吸引
されたガスはコンデンサー８，９，１０，１１に
おいて冷却水路８Ａ，９Ａ，１０Ａ，１１Ａの電
磁開閉弁８Ｂ，９Ｂ，１０Ｂ，１１Ｂを開いて冷
却水を噴射することによつて冷却水と接触して冷
却されかつ除塵される。上記真空脱ガス工程の初
期においてはガスの排出量は多くエジエクター５
Ａ，５Ｂのみ作動させ、ガス排出量が少なくなる
につれてエジエクター６Ａ，６Ｂを作動させ、次
いでエジエクター２，３，４を作動させると言う
ように真空度を漸時高めて行く。ガス排出量が所
定量以下になると冷却水による冷却が必要でなく
なるからこの時点で電磁開閉弁８Ｂ，９Ｂ，１０
Ｂ，１１Ｂを閉じて冷却水路８Ａ，９Ａ，１０
Ａ，１１Ａからの冷却水の供給を遮断する。この
時冷却水路８Ａのバイパス路８１Ａの開閉弁８１
Ｂを常時開いておくと冷却水は冷却水路８Ａの電
磁開閉弁８Ｂが閉じた状態でバイパス路８１Ａを
迂回してコンデンサー８内へ噴射される。このよ
うにしてガス中に含まれるダストはコンデンサー
８において除去される。この際の冷却水量は本実
施例の場合には冷却水路８Ａから直接供給する場
合の約1/9になる。本考案においては通常バイパ
ス路を迂回する冷却水の供給量を冷却水路８１Ａ
から直接供給する場合の1/3〜1/10にすることが
望ましい。上記範囲以下では除塵効果が低下し上
記範囲以上では冷却水が浪費される。
ス槽１に循環させ排気装置２０により真空下に脱
ガスを行う。真空はエジエクター２，３，４，５
Ａ，５Ｂ，６Ａ，６Ｂ，７Ａ，７Ｂ，７Ｃ内のノ
ズルから高速度のスチームジエツトを噴射して脱
ガス槽１内のガスを該スチームジエツトに同伴吸
引することにより得られる。排気装置１１に吸引
されたガスはコンデンサー８，９，１０，１１に
おいて冷却水路８Ａ，９Ａ，１０Ａ，１１Ａの電
磁開閉弁８Ｂ，９Ｂ，１０Ｂ，１１Ｂを開いて冷
却水を噴射することによつて冷却水と接触して冷
却されかつ除塵される。上記真空脱ガス工程の初
期においてはガスの排出量は多くエジエクター５
Ａ，５Ｂのみ作動させ、ガス排出量が少なくなる
につれてエジエクター６Ａ，６Ｂを作動させ、次
いでエジエクター２，３，４を作動させると言う
ように真空度を漸時高めて行く。ガス排出量が所
定量以下になると冷却水による冷却が必要でなく
なるからこの時点で電磁開閉弁８Ｂ，９Ｂ，１０
Ｂ，１１Ｂを閉じて冷却水路８Ａ，９Ａ，１０
Ａ，１１Ａからの冷却水の供給を遮断する。この
時冷却水路８Ａのバイパス路８１Ａの開閉弁８１
Ｂを常時開いておくと冷却水は冷却水路８Ａの電
磁開閉弁８Ｂが閉じた状態でバイパス路８１Ａを
迂回してコンデンサー８内へ噴射される。このよ
うにしてガス中に含まれるダストはコンデンサー
８において除去される。この際の冷却水量は本実
施例の場合には冷却水路８Ａから直接供給する場
合の約1/9になる。本考案においては通常バイパ
ス路を迂回する冷却水の供給量を冷却水路８１Ａ
から直接供給する場合の1/3〜1/10にすることが
望ましい。上記範囲以下では除塵効果が低下し上
記範囲以上では冷却水が浪費される。
第１図は本考案にかかる一実施例の系統図、第
２図は従来例の系統図である。 図中、１……脱ガス槽、２，３，４，５Ａ，５
Ｂ，６Ａ，６Ｂ，７Ａ，７Ｂ，７Ｃ……エジエク
ター、８，９，１０，１１……コンデンサー、８
Ａ……冷却水路、８Ｂ，９Ｂ，１０Ｂ，１１Ｂ…
…電磁開閉弁、８１Ａ……バイパス路。
２図は従来例の系統図である。 図中、１……脱ガス槽、２，３，４，５Ａ，５
Ｂ，６Ａ，６Ｂ，７Ａ，７Ｂ，７Ｃ……エジエク
ター、８，９，１０，１１……コンデンサー、８
Ａ……冷却水路、８Ｂ，９Ｂ，１０Ｂ，１１Ｂ…
…電磁開閉弁、８１Ａ……バイパス路。
Claims (1)
- 脱ガス槽に連絡し、エジエクターとコンデンサ
ーとの結合からなり、第１段のコンデンサーに連
絡する冷却水路には開閉弁を介在させるとともに
該開閉弁を迂回し口径が該冷却水路の口径よりも
小さいバイパス路を連絡したことを特徴とする真
空脱ガス用排気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9636985U JPH024114Y2 (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9636985U JPH024114Y2 (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS626360U JPS626360U (ja) | 1987-01-14 |
| JPH024114Y2 true JPH024114Y2 (ja) | 1990-01-31 |
Family
ID=30962035
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9636985U Expired JPH024114Y2 (ja) | 1985-06-25 | 1985-06-25 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH024114Y2 (ja) |
-
1985
- 1985-06-25 JP JP9636985U patent/JPH024114Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS626360U (ja) | 1987-01-14 |
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