JPH0238555A - カラー薄膜の製造方法 - Google Patents

カラー薄膜の製造方法

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Publication number
JPH0238555A
JPH0238555A JP63188389A JP18838988A JPH0238555A JP H0238555 A JPH0238555 A JP H0238555A JP 63188389 A JP63188389 A JP 63188389A JP 18838988 A JP18838988 A JP 18838988A JP H0238555 A JPH0238555 A JP H0238555A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
thin
thin film
islands
transparent
Prior art date
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Pending
Application number
JP63188389A
Other languages
English (en)
Inventor
Takayuki Yamada
孝行 山田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Casio Computer Co Ltd
Original Assignee
Casio Computer Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Casio Computer Co Ltd filed Critical Casio Computer Co Ltd
Priority to JP63188389A priority Critical patent/JPH0238555A/ja
Publication of JPH0238555A publication Critical patent/JPH0238555A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/0015Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterized by the colour of the layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Printing Methods (AREA)
  • Duplication Or Marking (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は特有の色彩を表現するカラー薄膜の製造方法
に関する。
で、特有の色彩を表現する方法として、陶磁器の釉薬の
ように、ガラスの粉と金属微粒子を混ぜて陶磁器の表面
に塗り、加熱してガラスを溶かすことにより、カラスの
薄膜の中に金属微粒子を埋め込む方法が知られている。
しかし、上述した陶磁器の釉薬のような方法では、ガラ
スよりも融点が低い基板には適用することができず、基
板の素材が限定されてしまうという問題がある。
[発明の目的] この発明は上述した事情に鑑みてなされたもので、その
目的とするところは、必ずしも透明部材の融点よりも高
い素材の基板を用いる必要がなく、どのような素材の基
板にも良好にカラー薄膜を形成することができるカラー
薄膜の製造方法を提供することにある。
[従来技術とその問題点] 従来、透明薄膜中に金属の微粒子を埋め込ん[発明の要
点] この発明は上述した目的を達成するために、基板上に直
接もしくは間接的に金属等の不透明物質よりなる島状の
不完全薄膜を形成し、この不完全薄膜上にその急開を埋
めて覆う透明物質よりなる完全薄膜を形成し、これらを
順次繰り返して積層形成することを要点とする。
[実施例] 以下、第1図〜第4図を参照して、この発明の一実施例
を説明する。
カラー薄膜を製造する場合には、まず、第1図に示すよ
うに、ガラス基板lの上面に金(Au)を真空蒸着して
島状の不完全薄膜2を形成する。この島状の不完全薄膜
2は、薄膜になる手前の状態であり、金(Au)の真空
蒸着による薄膜生成の初期過程で極〈普通にできるが、
パターンマスクを用いた蒸着によっても形成することが
できる。
このように基板1上に島状の不完全薄膜2が形成された
後は、第2図に示すように、酸化シリコンを蒸着させて
透明な完全薄膜3を形成する。この透明な完全薄膜3は
酸化シリコンの蒸着により不完全薄膜2の各急開を埋め
るとともに、各島を覆って形成される。
この後、第3図に示すように、透明な完全薄膜3上に再
び金(Au)を真空蒸着させて上述と同様な島状の不完
全薄膜2を形成する。そして、第4図に示すように、最
上部に形成された島状の不完全薄膜2上に上述と同様に
酸化シリコンを蒸着させて透明な完全薄膜3を形成する
この工程を順次繰り返すことにより、酸化シリコンより
なる透明な完全薄膜3・・・中に金(Au)の微粒子が
埋め込まれた状態と同じ状態となる。しかも、この完全
薄膜3・・・の全体の膜厚が充分に厚くなれば、その膜
全体の色は金(Au)特有の深赤色となる。なお、最後
は酸化シリコンよりなる透明な完全薄膜3が形成される
したがって、このようなカラー薄膜の製造方法によれば
、金(Au)よりなる島状の不完全薄膜2と酸化シリコ
ンよりなる透明な完全薄膜3とを蒸着により順次繰り返
して積層する方法であるから、透明物質よりも低い融点
の基板にも簡単かつ容易にカラー薄膜を形成することが
できる。しかも、このカラー薄膜は透明な完全薄膜3・
・・中に金(Au)の微粒子を埋め込んだ状態と同じで
あるから、上述したように金(Au)が呈する特有の色
彩を表現することができる。
なお、この発明は上述した実施例に限定されず、種々変
形応用が可能である。例えば、島状の不完全薄膜2に用
いられる微粒子は金(Au)に限らず、銀(Ag)等の
他の金属微粒子を用いても良く、しかも1種類の金属微
粒子を順次積層形成する必要はなく、各層毎に異なる金
属微粒子を積層形成しても良い。このよにすれば、各金
属微粒子の混色が得られる。また、上述した実施例では
ガラス基板lの上面に直接島状の不完全薄膜2を形成し
たが、これに限らず、ガラス基板lの上に酸化シリコン
を蒸着して透明な薄膜を形成し、この透明な薄膜上に上
述したように島状の不完全薄膜および透明な完全薄膜を
順次形成するようにしても良い。また、完全薄膜3は酸
化シリコンに限らず、他の透明な物質を用いても良く、
基板もガラス基板lに限らず、他の素材の基板を用いる
こともできる。さらに、島状の不完全薄膜2および透明
な完全薄膜3は必ずしも蒸着によって形成する必要はな
く、印刷、塗布等によっても形成することができる。
[発明の効果] 以上詳細に説明したように、この発明に係るカラー薄膜
の製造方法によれば、基板上に直接もしくは間接的に金
属等の不透明物質よりなる島状の不完全薄膜を形成し、
この本完全薄膜上にその急開を埋めて覆う透明物質より
なる完全薄膜を形成し、これらを順次繰り返して積層形
成するようにしたので、必ずしも透明部材の融点よりも
高い素材の基板を用いる必要はなく、どのような素材の
基板にも良好にカラー薄膜を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第4図はこの発明のカラー薄膜の製造過程を示
し、第1図はガラス基板」二に島状の不完全薄膜を形成
した状態を示す図、第2図はその島状の不完全薄膜上に
透明な完全薄膜を形成した状態を示す図、第3図はその
透明な完全薄膜上に再び島状の不完全薄膜を形成した状
態を示す図、第4図はその最上部の島状の不完全薄膜上
にさらに透明な完全薄膜を形成した状態を示す図である
。 1・・・・・・ガラス基板、2・・・・・・島状の不完
全薄膜、3・・・・・・透明な完全薄膜。 特 許 出 願 人 カシオ計算機株式会社 Cつ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板上に直接もしくは間接的に金属等の不透明物質より
    なる島状の不完全薄膜を形成し、この不完全薄膜上にそ
    の島間を埋めて覆う透明物質よりなる完全薄膜を形成し
    、これを順次繰り返して積層形成することを特徴とする
    カラー薄膜の製造方法。
JP63188389A 1988-07-29 1988-07-29 カラー薄膜の製造方法 Pending JPH0238555A (ja)

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JP63188389A JPH0238555A (ja) 1988-07-29 1988-07-29 カラー薄膜の製造方法

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JPH0238555A true JPH0238555A (ja) 1990-02-07

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JP (1) JPH0238555A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0565650A (ja) * 1991-09-10 1993-03-19 Alps Electric Co Ltd 光学機能素子の製造方法
US6565465B2 (en) 2000-05-17 2003-05-20 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Continuously variable belt transmission

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0565650A (ja) * 1991-09-10 1993-03-19 Alps Electric Co Ltd 光学機能素子の製造方法
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