JPH0230687A - グレーズドセラミック基板の製造方法 - Google Patents

グレーズドセラミック基板の製造方法

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JPH0230687A
JPH0230687A JP17714088A JP17714088A JPH0230687A JP H0230687 A JPH0230687 A JP H0230687A JP 17714088 A JP17714088 A JP 17714088A JP 17714088 A JP17714088 A JP 17714088A JP H0230687 A JPH0230687 A JP H0230687A
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JP
Japan
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glaze
glaze layer
ceramic substrate
layer
weight
Prior art date
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Pending
Application number
JP17714088A
Other languages
English (en)
Inventor
Keizo Kato
慶三 加藤
Takao Hirano
平野 隆男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Noritake Co Ltd
Original Assignee
Noritake Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0230687A publication Critical patent/JPH0230687A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はグレーズドセラミック基板の製造方法に関し、
さらに詳しくはその上に発熱抵抗体と該発熱抵抗体に給
電するリード部(電極膜)等からなる薄膜回路が形成さ
れるサーマルプリントヘッド等に使用されるグレーズド
セラミック基板の製造方法に関する。
[従来技術および発明が解決しようとする課題]従来、
感熱記録方式のプリンタ装置の基幹部品であるサーマル
ヘッドにおいては、発熱抵抗体と感熱紙との接触を改善
するために基板表面にグレーズの凸部を形成することが
望まれており、この凸部の形成方法としては、エツチン
グ法および印刷法等が採用されてきた。
しかし、エツチング法にあっては、エツチング深さとの
関係でグレーズ層以外の部分までエツチングされ、表面
平滑性が悪く、またグレーズ層の一部分が完全にエツチ
ングされ、セラミック基板が露出してしまい、微細な配
線の形成が困難なことがあり、一方、凸部上部に微細な
薄膜リード線を形成する際、凸部先端エツジ部分が鋭利
だとその部分で断線が生じるため、凸部断面形状を台形
または円弧形とする必要があるが、台形または円弧形を
得ることは容易ではない等の問題点があり、得られる製
品形状、生産性、作業工程の簡略さ等から印刷法が賞月
されている。
しかし、この印刷法にあっても次に示す課題がある。
すなわち、グレーズ焼成時にガラスが流動するため、■
凸部の直線性を保持することが難しい、■同一基板上に
複数の凸部を形成する場合、それぞれの凸部の間隔を正
確に制御することが難しい等である。
本発明は前記のような状況に鑑み、高精度な断面形状の
凸部を有するグレーズドセラミック基板の製造方法を提
供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 本発明者らは前記目的を達成するために鋭意研究を行な
ったところ、セラミック基板の表面にグレーズペースト
を印刷し、グレーズ焼成することによってグレーズ層を
形成し、次いで該グレーズ層を電着砥石を用いて研削加
工した後、熱処理することにより、グレーズ層の任意の
断面形状の凸部を寸法精度良くつくることができるとい
う知見を得て、本発明に至ったものである。
すなわち本発明はセラミック基板上にグレーズペースト
を印刷し、グレーズの軟化点以上の温度でグレーズ焼成
することによってグレーズ層を形成し、外周面にR状の
凹部を有する電着砥石で前記グレーズ層を研削加工して
R状の凸部を形成し、しかる後にグレーズの軟化点以上
でグレーズ焼成温度以下の温度で熱処理することを特徴
とするグレーズドセラミック基板の製造方法である。
まず本発明は絶縁性セラミック基板上にグレーズ層を形
成する。グレーズの好ましい組成は5iO250〜60
重量%、AjzOi5〜lO重量%、CaO4〜12重
量%、BaO3〜25重量%、SrO0〜24重量%お
よびその他゛の成分0〜20重量%である。
この組成のグレーズペーストを印刷し、グレーズ焼成を
行なう。
次に、形成されたグレーズ層を電着砥石で研削加工を行
なう。具体的には第1図に示すような円盤状の保持体の
外周面に電着法によりダイヤモンド、立方晶窒化硼素等
の砥粒を定着させた電着砥石車を用いる。同図において
、1は保持体、2は電着砥粒層、3は電着砥石車をそれ
ぞれ示す。また、被研削物であるグレーズ層を研削加工
する電着砥石車3の研削面(外周面)の断面形状は第2
図に示すような深さ81幅すのR状の凹部を有している
。なお、同図のrはR状の凹部の曲率半径を示す。
この電着砥石車を回転させ、外周面に被研削物であるグ
レーズ層を接触させることによって研削加工を行ない、
被研削物表面(グレーズ層)に第3図に示すような断面
形状がR状の凸部を形成する。同図において、4はグレ
ーズ層、5はセラミック基板を示し、またAはR状の凸
部の高さ、BはR状の凸部の幅、CはR状の凸部以外の
平面部のグレーズ層の厚み、RはR状の凸部の曲率半径
をそれぞれ示す。
この研削加工されたグレーズ層をグレーズの軟化点以上
の温度で熱処理を行う。熱処理温度がグレーズの軟化点
未満では研削によって荒れた面の回復ができない。また
、グレーズ焼成温度以上ではグレーズが流動してしまっ
て研削加工によって形成した凸部の形状がくずれてしま
う。この際の熱処理時間は5〜30分が適当である。
このような本発明のグレーズドセラミック基板の製造方
法によれば、寸法精度の優れたR状の凸部を形成するこ
とが可能である。さらに同一基板状に複数のR状の凸部
を形成する場合、それぞれの間隔を正確に制御すること
が可能である。
[実施例] 以下、本発明を実施例に基づき具体的に説明する。
実施例1 セラミック基板上に、5iO250重量%、AJ20s
8重量%、CaO12重量%、Ba024重量%および
その他の成分8重量%からなるグレ−ズペースト(軟化
点850℃)をスクリーン印刷し、1220℃で15分
グレーズ焼成することによって120μmのグレーズ層
を形成する。そして第1〜2図に示すような人工ダイヤ
モンド#800を定着させたニッケル電着砥石車で研削
加工を行なった。
但し、電着砥石車のR状の四部は、a−80μm1b−
2,68sSr C曲率半径) −11mである。
研削加工後、900℃で5分間熱処理をして、第3図に
示すような断面形状がR状の凸部を有するグレーズドセ
ラミック基板を得た。グレーズ層のR状の凸部は、A−
80μm、 B−2,86m、R(曲率半径) =IL
mrIl、 C−20μmであった。
実施例2 セラミック基板上に、5iO255重量%、A1203
8重量%、CaO5重量%、Ba0 3重量%、5r0
22重量%およびその他の成分10重量%からなるグレ
ーズペースト(軟化点940℃)をスクリーン印刷し、
1300℃で30分グレーズ焼成することによって12
0μmのグレーズ層を形成する。そして第1〜2図に示
すような人工グイヤモンド#800を定着させたニッケ
ル電着砥石車で研削加工をを行なった。但し、電着砥石
車のR状の凹部は、a−40μm、 b −1,13m
!Rs r−4gである。
研削加工後、1000℃で5分間熱処理をして、第3図
に示すような断面形状がR状の凸部を有するグレーズド
セラミック基板を得た。グレーズ層のR状の凸部は、A
−40μm5B−1,13#、R−4m5C=L5ur
nであった。
以上の結果から明らかなように、本発明の製造方法によ
り、電着砥石車外周面のR状の凹部形状に一致するR状
の凸部を有するグレーズ層を形成することができた。
[発明の効果] 以上説明したように本発明の製造方法によれば、高精度
な断面形状のR状の凸部を有するグレーズ層をセラミッ
ク基板上に形成することができる。
また同一基板上に複数のR状の凸部を設けた場合それぞ
れのR状の凸部の間隔を正確に制御することができる。
従って、本発明の製造方法は、グレーズドセラミック基
板の製造方法として好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明で用いられる電着砥石車の概略図、 第2図は、第1図の電着砥石車の研削部分の拡大図、そ
して、 第3図は、本発明により得られるグレーズドセラミック
基板の断面図。 1:保持体 2:電着砥粒層 3:電着砥石車 4:グレーズ層 5:セラミック基板 特許出願人 株式会社 ノリタケ カンパニーリミテド

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、セラミック基板上にグレーズ層を形成してなるグレ
    ーズドセラミック基板において、基板上にグレーズペー
    ストを形成し、グレーズの軟化点以上の温度でグレーズ
    焼成することによってグレーズ層を形成し、外周面にR
    状の凹部を有する電着砥石によって前記グレーズ層を研
    削加工してR状の凸部を形成し、しかる後にグレーズの
    軟化点以上でグレーズ焼成温度以下の温度で再度熱処理
    することを特徴とするグレーズドセラミック基板の製造
    方法。 2、前記グレーズの化学組成がSiO_250〜60重
    量%、Al_2O_35〜10重量%、CaO4〜1量
    %、BaO3〜2重量%、SrO0〜24重量%および
    その他の成分0〜20重量%である請求項1に記載のグ
    レーズドセラミック基板の製造方法。
JP17714088A 1988-07-18 1988-07-18 グレーズドセラミック基板の製造方法 Pending JPH0230687A (ja)

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ID=16025881

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100796567B1 (ko) * 2007-12-20 2008-01-21 김종길 도로시설물용 지주의 안전보호커버

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