JPH02306521A - 電子放出素子およびその製造方法 - Google Patents

電子放出素子およびその製造方法

Info

Publication number
JPH02306521A
JPH02306521A JP1126950A JP12695089A JPH02306521A JP H02306521 A JPH02306521 A JP H02306521A JP 1126950 A JP1126950 A JP 1126950A JP 12695089 A JP12695089 A JP 12695089A JP H02306521 A JPH02306521 A JP H02306521A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron
metal layer
cathode material
emitting device
electrically insulating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1126950A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0695450B2 (ja
Inventor
Kaoru Tomii
冨井 薫
Akira Kaneko
彰 金子
Toru Sugano
亨 菅野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP12695089A priority Critical patent/JPH0695450B2/ja
Priority to EP89119277A priority patent/EP0364964B1/en
Priority to DE68926090T priority patent/DE68926090D1/de
Priority to US07/422,883 priority patent/US5053673A/en
Priority to US07/524,117 priority patent/US5170092A/en
Priority to EP90109355A priority patent/EP0400406A1/en
Publication of JPH02306521A publication Critical patent/JPH02306521A/ja
Publication of JPH0695450B2 publication Critical patent/JPH0695450B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 との廃明は、電子放出素子(冷陰極)およびその製造方
法に関する。
従来の技術 冷陰極(電界放射型陰極)においては、電子放出のため
に、陰極エモッタの先端の曲率が10μm以下となるよ
うに針先加工され、この陰極エミッタ先端に106V/
CrrL程度の強電界が集中するように構成されている
。このような電子放出素子は、一般に電流密度が高く、
また、陰極を加熱する必要がないので、電力消費が非常
に少なく、更には、点(ポイント)電子線源として使用
することができるなどの長所を有する。
5 ヘー。
従来、多数の電子放出素子をアレイ状に配列させた電子
放出素子アレイも知られている。この電子放出素子アレ
イを平面パネルディスプレイなどに使う試みも行われて
いる(ディスプレイ1987年1月号第37頁(Dis
l)1ayR37Jan、 1987 ) )。以下、
従来の電子放出素子アレイの製造方法について図面を参
照しながら説明する。
第6図(alに示すように電気絶縁基板101の上に導
電性膜102、絶縁層103および導電性膜104を適
当なマスクを用いて順次蒸着し、複数のアレイ状に配列
した空洞105を作製する。次いで、回転斜蒸着によっ
て適当な物質107で漸次この空洞105の開口部を閉
じさせつつ、この開口部真上より陰極材料106を正蒸
着させることによって空洞105内の導電性膜102の
上にピラミッド状の陰極エミッタ突起108を形成する
。最後に、第6図(blに示すように物質107を除去
する(ジャーナル オブ アプライド フィジックス 
第39巻、第3504頁、1968年6 へ−] (J、AI)I)l  Phys、Vol 39.P3
504゜1968など))。
従来の電子放出素子アレイの製造方法の他の例を第7図
(a)〜(f)を参照しながら説明する。第7図(al
に示すように電気絶縁性の矩形基板121を複数個用意
し、その−表面上に陰極材料薄膜122を被着し、陰極
薄膜付着基板123を複数個重ね合わせて一体化した後
、この重ね合わせ基板124の各表面を機械研磨する。
次いで、第7図ら)に示すようにその広い一表面に金属
層125を蒸着し、第7図(clに示すように金属層1
25に陰極材料薄膜122の直上に位置して陰極材料薄
膜122と同程度の幅の狭い電子引出し用の窓126を
フォトエツチング法を利用して開ける。次いで、陰極薄
膜付着基板123に分離し、第7図(dlに示すように
それぞれの基板123上の陰極材料薄膜122を先端が
鋭い山型のパターン状となるようにエツチング法によっ
て加工する。このようにして得たすべての基板123の
陰極エミッタ127の先端近辺が第7図(e)に示すよ
うに基板121から離隔7 ヘーノ し、かつ電子引出し用窓126側の金属125が基板1
21から棚状にせり出す程度まで適当な化学腐食によっ
て基板121を部分的に除去して空洞128を形成した
基板123を作製する。ここで、再び、第7図(f)に
示すように分離する前の重ね合わせ基板124と同じに
なるように基板123を重ね合わせて固定することによ
って薄膜冷陰極アレイを得ることができる(特公昭!5
4−17551号公報)。
発明が解決、しようとする課題 しかしながら、上記従来例のうち、前者の製造方法では
、空洞105内に陰極エミッタ突起108を形成する際
、回転斜蒸着と真上から行う回転蒸着を同時に行ってい
るが、この同時蒸着の制御を正確に行うことは非常に難
しい。
一方、後者の製造方法では、電子引出し用の窓126と
陰極材料薄膜122との位置合わせ精度を高めようとす
ると、絶縁基板121の板厚および陰極材料薄膜122
の膜厚の高い精度が要求される。また、重ね合わせ基板
124の分離前後での一体化固定精度が同一でなければ
ならないが、精度良く固定することは非常に(ト)難で
ある。
この発明は、上記のような従来技術の課題を解決するも
のであり、電界集中しやすく、電子引出し効率を向上さ
せることができ、また、陰極と電子引出し用電極の耐圧
を高めることができ、信頼性を向上させることができる
ようにした電子放出素子を提供し、また、陰極材と電子
引出し用窓を正確に位置合わせした電子放出素子を容易
に歩留シよく製造することができるようにした製造方法
を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段 上記目的を達成するため、この発明の電子放出素子は、
電気絶縁性基板と、この電気絶縁性基板の間でこの電気
絶縁性基板の厚さ方向に重ねられて設けられた金属層お
よび上記電気絶縁性基板の一方の面より凹入する絶縁体
層と、これら金属層および絶縁体層の中央部に設けられ
、一方が上記絶縁体層より突出された陰極材料と、上記
電気絶縁性基板における上記絶縁体層の凹入側に設けら
9 ヘ−ノ れた電子引出し用電極を備えたものである。
また、上記目的を達成するため、この発明の電子放出素
子の製造方法は、金属層およびこの金属層の中央部の陰
極材料を電気絶縁性基板間に介在させ、少なくとも一表
面に陰極材料が露出するように形成した後、陰極材料と
金属層の露出部分にマスクを形成し、このマスクおよび
上気電気絶縁性基板の上に金属層を設けた後、上記マス
クをこのマスク上の金属層と共に除去して上記陰極材料
露出部分に電子引出し用の窓を形成すると共に、上記絶
縁性基板の表面に電子引出し用電極となる金属層を残し
、上記電子引出し用の窓側における陰極材料の外周の金
属層を所定量除去し、この除去側の金属層の一部を絶縁
化処理して絶縁体層を一部を絶縁化処理して絶縁体層を
形成するようにしたものである。
そして、上記電気絶縁性基板を強固に重ね合わせるよう
に溶着法、低融点フリットガラスを用いた接着法および
耐熱性および耐熱性接着剤を用いた接着法のいずれかを
用い、また、マスクの形成10 ヘ−ジ を容易に行うよう等メッキ法で金属を上記陰極材料と上
記金属層の露出部分に付着させてマスクを形成し、また
は、上記電気絶縁性基板を光透過性材料により形成し、
上記電気絶縁性基板、金属層およヒ陰極材料の一方の面
にポジ型のフォトレジストを塗布し、上記電気絶縁性基
板の他方の面側から感光用光を照射し、現像して陰極材
料と金属層の露出部分にマスクを形成し、また、上記金
属層の一部の絶縁化処理を通常の陽極酸化法により行う
ことができる。
また、上記陰極材料の電気絶縁性基板間の肉厚を100
Å〜1μmに形成し、上記電子引出し用電極となる金属
層を、マスク除去し、陰極材料の外周の金属層をエツチ
ング除去するエツチング液に対して耐腐食性を有する材
料で形成し、上記陰極材料の外周の金属層を陽極酸化で
絶縁物化処理できるようにAI、 Taのいずれかによ
り形成し、上記陰極材料を融点温度が高く、仕事関数が
低い材料であるW、 Mo、TiC,5iC1ZrC,
LaB6のいずれかにより形成する。
作    用 この発明の電子放出素子によれば、陰極材料の先端形状
を膜厚のみで決定することができ、非常に)」八さくし
て電界集中しやすくすることができ、また、陰極材料と
電子引出し用の電極の間に空間ギャップおよび絶縁体層
を設けることにより、陰極材料と電子引出し用電極との
間の耐電圧を高めることができる。
また、この発明の電子放出素子の製造方法によれば、電
子引出し用窓や電子引出し用電極を金属層および陰極材
料の露出面に形成したマスクの除去に伴い、その上の金
属層を除去することにより形成することができるので、
従来の困難な斜蒸着と正蒸着の同時制御は不要となる。
また、電子引出し用窓と陰極材料の位置合わせを極めて
簡単に精度良く行うことができる。
実施例 以下、この発明の実施例について図面を参照しながら説
明する。
まず、電子放出素子について説明する。
第1図はこの発明の一実施例における電子放出素子を示
す概略断面図である。第1図に示すようにガラス、セラ
ミックス等からなる電気絶縁性基板1の間でAI、Ta
等からなる金属層2およびAl2O3等からなる絶縁体
層3が電気絶縁性基板1の厚さ方向に重ねられ、絶縁体
層3が電気絶縁性基板1の一方の面より凹入されている
。金属層2および絶縁体層3の中央部にWs Mo s
 T 1 c。
SiC,、ZrC,LaB6等からなる陰極材料4が設
けられ、一方が絶縁体層3より突出され、その突出端面
が電気絶縁性基板1とほぼ同一面になるように形成され
ている。陰極材料4の電気絶縁性基板1間の肉厚は10
0^〜1μm程度に形成されている。電気絶縁性基板1
における絶縁体層3の凹入側にW、 Mo 、 T a
等からなる電子引出し電極5が設けられている。また、
電子放出素子のアレイを作製する場合等、必要に応じて
電気絶縁性基板1における電子引出し用電極5とは反対
側の面に陰極材料4と電気的に接続された導電層6が設
けられる。
13 ・\−ノ 上記実施例によれば、陰極材料4の先端形状を非常に小
さくして電界集中がしやすくすることができるので、電
子引出し用電極5との間に印加する電圧が低くても効率
良く電子引出し用窓7から電子を引出すことができる。
また、陰極材料4と電子引出し用電極5との間の耐圧を
高めるため、その間に空間ギャップおよび絶縁体層3を
設けているので、信頼性を向上させることができる。
次に電子放出素子の製造方法について説明する。
第2図(atないしくk+はこの発明の一実施例におけ
る電子放出素子の製造方法を示し、第2図(atないし
くelは製造工程説明用の概略斜視図、第2図(f+な
いしfk)は第2図(e)の■−■線に沿う製造工程説
明用の概略断面図、第3図(alないしくdlは第2図
(a)ないしくdlの概略平面図である。
本実施例においては、電子放出素子アレイの製・ 遣方
法について説明する。第2図(atおよび第3図(a)
に示すようにガラス、アルミナ等の絶縁材料からなシ、
表面を十分平滑に研磨した電気絶縁性基板1を用意し、
第2図(blおよび第3図(b)に示すよ14  、、
  。
うに電気絶縁性基板1の一方の面に容易に絶縁化処理で
きるAL’l’a等からなる第1の金属層2aをストラ
イプパターンで所定の厚み(例えば0.5〜1μm)に
形成する。この第1の金属層2aのストライプパターン
はマスク蒸着法により形成し、若しくは電気絶縁性基板
1の全面に蒸着、スパッター等で形成した後、フォトエ
ツチング法を用いて形成する。なお、第1の金属層2a
のパターンは上記のようなストライプに限らず、第4図
(alに示すような格子状、第4図(blに示すような
くし歯状等、用途等に応じて所望のパターンを選択する
ことができる。
次に第2図(clおよび第3図(C)に示すように各第
1の金属層2aに上W、Mo、TtClSin、ZrC
LaB6等からなる陰極材料4をマスク蒸着、若しくは
CVD等の方法で所定の厚み(100^〜1μm)に形
成する。各陰極材料4は第1の金属層2aと同じ幅か、
若しくは狭い幅に形成する。
次に第2図(diおよび第3図(dlに示すように各陰
極材料4上から上記第1の金属層2aと同じ材料15=
−7 からなる第2の金属層2bを第1の金属層2aと同じ膜
厚でマスク蒸着法等により形成する。
上記のような複合基板8を複数枚作製し、これら複合基
板8と陰極材料4等を有しない電気絶縁性基板1を第2
図telに示すように金属層2a、2bおよび陰極材料
4が電気絶縁性基板1間に介在するようにして重ね合わ
せて一体化し、重ね合わせ体9を形成する。この重ね合
わせに際し、溶着法、低融点フリットガラスを用いた接
着法や耐熱性接着剤を用いて一体化することにより、強
固に重ね合わせることができ、後述するアレイ基体10
が丈夫なものとなる・ 次に第2図telに示すように重ね合わせ体9を一点鎖
線A、B、Cに沿ってストライプ状の陰極材料4の長手
方向を横切るように切断する。そして、それぞれの面を
機械的に研磨して第2図(f)に示すようにプレイ基体
10を得る。このアレイ基体lOの両表面には、第1と
第2の金属層2a、2bに囲まれて陰極材料4がアレイ
状に分かれて露出している(アレイ状陰極パターンとな
っている)0次に第2図(glに示すように各陰極材料
4および金属層2a、2bの露出部分に、通常の電気メ
ツキ法により、所定の厚みの金属層からなるマスク11
を選択的に形成する。なお、電気絶縁性基板1が光透過
性材料からなる場合には、アレイ基体10の一方の表面
にポジ型のフォトレジスト層を均一な膜厚で形成して加
熱乾燥し、その後、プレイ基体10の他方の面側から紫
外線でフォトレジスト層を露光し、現像してフォトレジ
ストからなるマスク11に代えることもできる。
マスク11の形成後、その上から第2図(hlに示すよ
うに電子引出し用電極5を形成するためのW、MOlT
a等からなる金属層を真空蒸着法等により形成する。そ
して、マスク11を適当な溶媒でエツチング除去するこ
とにより第2図(itに示すようにマスクll上の金属
層も共に除去し、各電子引出し用の窓7を形成すると共
に、アレイ基体10の表面に電子引出し用電極5を残す
ことができる。
この時電子引出し用電極5は前記アレイ間で電気的に分
割して複数の独立した変誌電極としても良17 へ−ジ いO 次に第2図(jlに示すように各電子引出し用の窓7に
臨み各陰極材料4を囲んでいる金属層2a、2bを化学
エツチング等により所定の深さ、例えば100Å〜5μ
m除去し、各陰極材料4を所定長さ突出させる。このエ
ツチングにより電子引出し用電極5および陰極材料4が
腐食されないように各材料を選ぶ必要がある。
次に第2図(k+に示すように金属層2a、2bの除去
側を所定の厚みで絶縁物化処理して絶縁体層3aを形成
する。金属層2a、2bに上記のようにAI、Taを用
いると、通常の陽極酸化法によりこれを絶縁物化処理す
ることができる。そして、必要に応じて、横列方向に並
ぶ陰極材料4を一つに接続したい場合には、アレイ基体
10における電子引出し用電極5とは反対側の面に導電
層を形成する。
このようにして得られた電子放出素子アレイは、第5図
に示すように裏面に発光層12を備えた透明絶縁基板1
3と組み合わせ、平面パネルディス18 ヘーノ プレイとして使用することができる。
このように、上記実施例によれば、重ね合わせ体9を陰
極材料4のパターンを横切るように切断するだけで、陰
極材料4がアレイ状に分布して露出したアレイ基体10
を得ることができ、しかも、電子引出し用窓7や電子引
出し電極5を、各陰極材料4の蕗出面に選択的に形成し
ておいたマスク11の除去に伴い、その上の金属層を除
去することにより形成することができるので、従来の困
難な斜め蒸着と正蒸着の同時制御は不要となシ、しかも
、電子引出し用窓7と陰極材料4の位置合わせをきわめ
て簡単に精度良く行うことができる。
なお、この発明は上記実施例に限らない。
上記実施例では、第1の金属層2aを所定のパターンで
形成しているが、電気絶縁性基板1の全面に形成し、こ
の第1の金属層2a上に陰極材料4を所定のパターンで
形成し、その上から第2の金属層2bを全面に形成して
もよい。また、上記実施例はいずれも、二次元アレイで
あったが、−次元アレイであってもよく、この場合、重
ね合わ19 ヘ一/ せ体として、2枚の基板間に1層の陰極材料層だけが介
在しているものを使う。つまシ、陰極材料4のパターン
のある電気絶縁性基板1と無い電気絶縁性基板1を一枚
づつ接着し、重ね合わせ体を作るか、陰極材料4のパタ
ーンのある電気絶縁性基板を2枚、パターン形成面同士
接着し、重ね合わせ体を作るようにする。また、二次元
アレイの作成を、複数の一次元アレイを作成してから、
これを組み付けるようにしてもよい。また、点状アレイ
に限らず、線状アレイでもよい。また、電子放出素子ア
レイは平面パネルディスプレイに限らず、プリンター等
に使用することができる。また、アレイには限らず、素
子単体でもよい。
発明の効果 以上述べたようにこの発明の電子放出素子によれば、陰
極材料の先端形状を膜厚のみで決定することができ、非
常に小さくして電界集中しやすくすることができ、した
がって、電子引出し効率を向上させることができる。ま
た、陰極材料と電子引出し用の電極の間に空間ギャップ
および絶縁体層を設けることにより、陰極材料と電子引
出し用電極との間の耐電圧を高めることができ、したが
って、信頼性を向上させることができる。
また、この発明の電子放出素子の製造方法によれば、電
子引出し用窓や電子引出し用電極を金属層および陰極材
料の露出面に形成したマスクの除去に伴い、その上の金
属層を除去することにより形成することができるので、
従来の困難な斜蒸着と正蒸着の同時制御は不要となる。
したがって、容易に歩留シよく製造することができる。
また、電子引出し用窓と陰極材料の位置合わせを極めて
簡単に精度良く行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例における電子放出素子を示
す概略断面図、第2図(alないしくk+はこの発明の
一実施例における電子放出素子の製造方法を示し、第2
図(alないしくelは製造工程説明用の概略斜視図、
第2図fflないしくk+は第2図telのn−n線に
沿う製造工程説明用の概略断面図、第3図(atないし
くdlは第2図(atないしくdiの概略平面図、第4
21 ・\−ノ 図(a)、(blはそれぞれ金属層および陰極材料の他
の例のパターンを示す部分正面図、第5図はこの発明に
より得られた電子放出素子アレイの利用例を示す概略斜
視図、第6図(al、(blおよび第71g(at〜(
flはそれぞれ従来の電子放出素子アレイの製造方法を
示す工程説明図である。 1・・・電気絶縁性基板、2..2a、2b・・・金属
層、3・・・絶縁体層、4・・・陰極材料、5・・・電
子引出し用電極、6・・・導電層、7・・・電子引出し
用窓、8・・・複合基板、9・・・重ね合わせ体、10
・・・アレイ基体、11・・・マスク、12・・・発光
層、13・・・透明絶縁基板0 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名第1
図 第3図− (OO(bン (C〕         (d) 第4図 第5図 12歎層 第6図 第7図 (久) o8 (b) 惺Hしi=が二103

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電気絶縁性基板と、この電気絶縁性基板の間でこ
    の電気絶縁性基板の厚さ方向に重ねられて設けられた金
    属層および上記電気絶縁性基板の一方の面より凹入する
    絶縁体層と、これら金属層および絶縁体層の中央部に設
    けられ、一方が上記絶縁体層より突出された陰極材料と
    、上記電気絶縁性基板における上記絶縁体層の凹入側に
    設けられた電子引出し用電極を備えたことを特徴とする
    電子放出素子。
  2. (2)陰極材料の電気絶縁性基板間の肉厚が100Å〜
    1μmである請求項1記載の電子放出素子。
  3. (3)電子引出し用電極がエッチング液に対して耐腐食
    性を有する材料からなる請求項1または2記載の電子放
    出素子。
  4. (4)陰極材料の外周の金属層がAl、Taから選ばれ
    る請求項1ないし3のいずれかに記載の電子放出素子。
  5. (5)陰極材料がW、Mo、TiC、SiC、ZrC、
    LaB_6から選ばれる請求項ないし4のいずれかに記
    載の電子放出素子。
  6. (6)金属層およびこの金属層の中央部の陰極材料を電
    気絶縁性基板間に介在させ、少なくとも一表面に陰極材
    料と金属層が露出するように形成した後、陰極材料と金
    属層の露出部分にマスクを形成し、このマスクおよび上
    記電気絶縁性基板の上に金属層を設けた後、上記マスク
    をこのマスク上の金属層と共に除去して上記陰極材料露
    出部分に電子引出し用の窓を形成すると共に、上記絶縁
    性基板の表面に電子引出し用電極となる金属層を残し、
    上記電子引出し用の窓側における陰極材料の外周の金属
    層を所定量除去し、この除去側の金属層の一部を絶縁化
    処理して絶縁体層を形成することを特徴とする電子放出
    素子の製造方法。
  7. (7)電気絶縁性基板の重ね合わせを溶着法、低融点フ
    リットガラスを用いた接着法および耐熱性接着剤を用い
    た接着法のいずれかにより行う請求項6記載の電子放出
    素子の製造方法。
  8. (8)メッキ法で金属を陰極材料と金属層の露出部分に
    付着させてマスクを形成する請求項6または7記載の電
    子放出素子の製造方法。
  9. (9)電気絶縁性基板を光透過性材料により形成し、上
    記電気絶縁性基板、金属層および陰極材料の一方の面に
    ポジ型のフォトレジストを塗布し、上記電気絶縁性基板
    の他方の面側から感光用光を照射し、現像して陰極材料
    と金属層の露出部分にマスクを形成する請求項6または
    7記載の電子放出素子の製造方法。
  10. (10)金属層の一部の絶縁化処理を陽極酸化法により
    行う請求項6記載の電子放出素子の製造方法。
  11. (11)電子引出し用電極となる金属層を、マスク除去
    し、陰極材料の外周の金属層をエッチング除去するエッ
    チング液に対して耐腐食性を有する材料で形成する請求
    項6ないし10のいずれかに記載の電子放出素子の製造
    方法。
  12. (12)陰極材料の外周の金属層をAl、Taのいずれ
    かにより形成する請求項6ないし11のいずれかに記載
    の電子放出素子の製造方法。
  13. (13)陰極材料をW、Mo、TiC、SiC、ZrC
    、LaB_6のいずれかにより形成する請求項6ないし
    12のいずれかに記載の電子放出素子の製造方法。
JP12695089A 1988-10-17 1989-05-19 電子放出素子およびその製造方法 Expired - Lifetime JPH0695450B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12695089A JPH0695450B2 (ja) 1989-05-19 1989-05-19 電子放出素子およびその製造方法
EP89119277A EP0364964B1 (en) 1988-10-17 1989-10-17 Field emission cathodes
DE68926090T DE68926090D1 (de) 1988-10-17 1989-10-17 Feldemissions-Kathoden
US07/422,883 US5053673A (en) 1988-10-17 1989-10-17 Field emission cathodes and method of manufacture thereof
US07/524,117 US5170092A (en) 1989-05-19 1990-05-16 Electron-emitting device and process for making the same
EP90109355A EP0400406A1 (en) 1989-05-19 1990-05-17 Electron-emitting device and process for making the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12695089A JPH0695450B2 (ja) 1989-05-19 1989-05-19 電子放出素子およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02306521A true JPH02306521A (ja) 1990-12-19
JPH0695450B2 JPH0695450B2 (ja) 1994-11-24

Family

ID=14947909

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12695089A Expired - Lifetime JPH0695450B2 (ja) 1988-10-17 1989-05-19 電子放出素子およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0695450B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100286450B1 (ko) * 1998-04-10 2001-04-16 구자홍 전계방출 이미터 및 그의 제조방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100286450B1 (ko) * 1998-04-10 2001-04-16 구자홍 전계방출 이미터 및 그의 제조방법

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0695450B2 (ja) 1994-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5170092A (en) Electron-emitting device and process for making the same
EP0364964B1 (en) Field emission cathodes
EP0434001B1 (en) Electron emission device and method of manufacturing the same
JPH0799666B2 (ja) 集積真空超小型電子素子の製造方法及びその構造
JP2001357773A (ja) カーボンナノチューブを利用した電界放出アレイ及びその製造方法
JPH09134687A (ja) 電界放出表示素子とその製造方法
US6977381B2 (en) Gating grid and method of making same
JPH08264109A (ja) 粒子放出装置、電界放出型装置及びこれらの製造方法
US5691600A (en) Edge electron emitters for an array of FEDS
JPH05211029A (ja) 電子放出素子及びその製造方法
JPH02306521A (ja) 電子放出素子およびその製造方法
US5676818A (en) Process for the production of a microtip electron source
JPH02306519A (ja) 電子放出素子およびその製造方法
US6319082B1 (en) Method of making an electron emission device by anode oxidation
JP2961422B2 (ja) 電極の形成方法
JPH03190034A (ja) 電子放出素子とその製造方法
JPH02250233A (ja) 電子放出素子アレイの製造方法
JPH03295130A (ja) 電子放出素子
JPH02239539A (ja) 電子放出素子アレイの製造方法
JPH02170327A (ja) 電子放出素子
KR0181255B1 (ko) 전계방출표시소자 및 그 제조방법
JPH05299011A (ja) 電界放出素子及びその製造方法
JPH0467526A (ja) 電子放出素子の製造方法
JPH0212793A (ja) 多色化固体表示装置の製造法
JPS6380437A (ja) 電子放出素子