JPH02287546A - 感光性組成物 - Google Patents

感光性組成物

Info

Publication number
JPH02287546A
JPH02287546A JP1110604A JP11060489A JPH02287546A JP H02287546 A JPH02287546 A JP H02287546A JP 1110604 A JP1110604 A JP 1110604A JP 11060489 A JP11060489 A JP 11060489A JP H02287546 A JPH02287546 A JP H02287546A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
formula
compd
polyurethane
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1110604A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2584672B2 (ja
Inventor
Toshiaki Aoso
利明 青合
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP1110604A priority Critical patent/JP2584672B2/ja
Priority to DE69029222T priority patent/DE69029222T2/de
Priority to EP90304365A priority patent/EP0395346B1/en
Priority to US07/514,941 priority patent/US5254432A/en
Publication of JPH02287546A publication Critical patent/JPH02287546A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2584672B2 publication Critical patent/JP2584672B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/106Binder containing
    • Y10S430/107Polyamide or polyurethane

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の分野〕 本発明は平版印刷版、IC回路やフォトマスクの製造に
適する感光性組成物に関し、特に、ポジ型に作用する感
光性化合物と、耐摩耗性の優れた高分子化合物からなる
感光性組成物に関する。
〔従来の技術及びその解決すべき課題〕ポジ型に作用す
る系において、0−ナフトキノンジアジド化合物とノボ
ラック型フェノール樹脂からなる感光性組成物は、非常
に優れた感光性組成物として平版印刷版の製造やフォト
レジストとして工業的に用いられてきた。
しかしながら、主体として用いられるノボラック型フェ
ノール樹脂の性質上、基板に対する密着性が悪いこと、
皮膜がもろいこと、塗布性が劣ること、耐摩耗性が劣り
、平版印刷版に用いた時の耐剛力が十分でないこと等改
良すべき点があり、応用面での限界があった。
かかる問題を解決するため種々の高分子化合物がバイン
ダーとして検討されてきた。例えば、特公開52−41
050号公報に記載されているポリヒドロキシスチレン
又はヒドロキシスチレン共重合体は確かに皮膜性が改良
されたが、耐摩耗性が劣るという欠点を有していた。ま
た、特開昭51−34711号公報中にはアクリル酸誘
導体の構造単位を分子構造中に有する高分子化合物をバ
インダーとして用いることが提案されているが、かかる
高分子化合物は適正な現像条件の範囲が狭く、また耐摩
耗性も十分でないなどの問題があった。
更に耐摩耗性の優れた公知なポリマーとして、ポリウレ
タン樹脂があり、特公昭49−36961号公報におい
て、ポジ作用するジアゾ化合物と実質上線状のポリウレ
タン樹脂との組合わせ系について開示されている。しか
しながら、該ポリウレタン樹脂はアルカリ可溶性基を有
しておらず、本質的に水性アルカリ現像液に対する溶解
性が不十分であり、非画像部(露光部分)の感光層を完
全に除去できるように現像を行なうことは非常に困難で
あった。
更に、特開昭61−20939号公報において、アニオ
ン性ポリウレタン樹脂を使用した感光性組成物が記載さ
れている。かかるアニオン性ポリウレタン樹脂は水性で
あり、本発明の水不溶なポリウレタン樹脂とは本質的に
異なる。該アニオン性ポリウレタン樹脂は、水性のため
、有機塗布溶剤に対する溶解性が不十分であった。また
、ジアゾ化合物の安定性を劣化させるので好ましくなか
った。
更に、特開昭63−124047号明細書には、カルボ
キシル基を有するポリウレタン樹脂を使用したポジ型感
光性組成物が、特開昭63−261350号明細書には
、N−スルホニルアミド、N−スルホニルウレタン基な
どの酸性水素を有するポリウレタン樹脂を使用した感光
性組成物がそれぞれ開示されている。これらは確かに水
性アルカリ現像液に可溶で、優れた耐摩耗性を示すが、
アルミニウム基板との密着性が必ずしも十分とは言えず
、保存状態により、感光層が基板から剥離する場合があ
った。
従って、本発明の目的は上記欠点を克服し、基板との良
好な密着性を有し、水性アルカリ現像液に対する現像性
が優れ、高耐刷性を有する新規な感光性組成物を提供す
ることである。
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、
以下の構成を有する新規な感光性組成物を使用すること
で、上記目的が達成されることを見い出し、本発明に到
達したものである。
即ち、本発明は、0−キノンジアジド化合物と、ホスホ
ン酸基、リン酸基又はたれらのエステル基を有するポリ
ウレタン樹脂とを含有する感光性組成物に関する。
以下、本発明について詳述する。
本発明に使用されるポジ型に作用する0−キノンジアジ
ド化合物としては、好ましくはO−ナフトキノンジアジ
ド化合物が挙げられる。
本発明に使用される0−ナフトキノンジアジド化合物と
しては、−Mにスルホニルクロライド等のハロゲノスル
ホニル基を4位又は5位に有する1、2−ナフトキノン
−2−ジアジド化合物を、モノ又はポリヒドロキシフェ
ニル化合物との化学的な縮合で得られるスルホニル酸エ
ステル化合物として表わすことができる。このようなモ
ノ又はポリヒドロキシフェニル化合物として代表的なも
のはヒドロキシ基を有するベンゾフェノン化合物であり
、−例を挙げると、4−ヒドロキシベンゾフェノン、2
.4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2.2′−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、4,4′ジヒドロキシベンゾフ
エノン、2,3.4−トリヒドロキシベンゾフェノン、
2.4.6−MJヒドロキシベンゾフェノン、2,4.
4’−)ジヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4.4
’テトラヒドロキシベンゾフエノン、2. 2′4.4
′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2゜3.4.2
’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、3.3’、4.
4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン他、特開昭62
−150245号公報に示されたようなヒドロキシ基を
5個以上有するベンゾフェノン、並びにその誘導体が含
まれる。更にp−クレゾール、p−t−ブチルフェノー
ル、しゾルシン、ピロガロール、2.2’−ジヒドロキ
シビフェニル、2.2’、4.4’−テトラヒドロキシ
ビフェニルなどのヒドロキシW 換M ビフェニル化合
物も挙げることができる。
更に、米国特許第3046120号明細書に記載されて
いるフェノール−ホルムアルデヒド樹脂又は0−1m−
1又はp−クレゾール−ホルムアルデヒド樹脂などの比
較的高分子量の化合物も本発明に使用できる。
また、同じく特開昭56−1045号公報、特開昭56
−1044号公報、特公昭43−28403号公報及び
特公昭49−24361号公報等に開示された多価フェ
ノール類とアルデヒド・ケトン類との縮合物、特開昭5
9−84238号公報、特開昭59−84239号公報
に開示されたカテコール、レゾルシン、又はハイドロキ
ノンと置換フェノール類とのアルデヒド・ケトン類によ
る共縮合物、特開昭60−31138号公報記載の置換
フェノールとベンズアルデヒドとの縮合物のほか、フェ
ノールとo−1m−1又はp−クレゾール等の置換フェ
ノールとのアルデヒド・ケトン類による共縮合物、p−
ヒドロキシスチレンポリマー等も本発明に対し有効に使
用される。
本発明の1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−及
び/又は5−スルホン酸エステル化合物は、上記モノ又
はポリヒドロキシフェニル化合物1種又は2種以上と、
1.2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−及び/又は
5−スルホニルハライドを反応媒質中、塩基性触媒存在
下で反応させることにより合成される。1.2−ナフト
キノン−2−ジアジド−4−及び/又は5−スルホニル
ハライドの使用量は、ヒドロキシフェニル化合物の水酸
基の数によって適宜調整され、特に限定されるものでは
ないが、通常、水酸基1当量に対して0.1〜1モルで
ある。
塩基性触媒としては、例えばトリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリプロピルアミン、ピリジン、テトラメ
チルアンモニウムヒドロキシド等のアミン類、又は水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム等の無
機アルカリ類が用いられる。
これらの塩基性触媒の使用量は、1.2−ナフトキノン
−2−ジアジド類1モル当たり、通常、0.8〜2.0
モル、好ましくは1.0〜1.5モルである。
前記反応において、通常、反応媒質として、例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等
のケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフラン等の環状
エーテル類、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等の
環状ケトン類、NN−ジメチルホルムアミド、N、N−
ジメチルアセトアミド等のアミド類、T−ブチロラクト
ン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等のエステル類、ピ
ロリドン、N−メチルピロリドン又は水が用いられる。
これらの反応媒質の使用量は、ヒドロキシフェニル化合
物100重量部に対して、通常、100〜1000重量
部である。また、この反応の反応温度は、通常、−30
〜60℃、好ましくは40℃である。
これらの1.2−ナフトキノン−2−ジアジド化合物の
添加量は全組成物の固形分に対し5〜70重量%、好ま
しくは10〜50重量%である。
また、必要に応じて、1.2−ナフトキノン−2−ジア
ジド化合物を2種以上併用してもよい。
一方、本発明に好適に使用されるポリウレタン樹脂とし
ては主に主鎖中にホスホン酸基、リン酸基、又はそれら
のエステル基を有するポリウレタン樹脂であり、必要に
応じ更にカルボキシル基を有するポリウレタン樹脂でも
よい。
好ましくは以下の一般式(!)で表わされるジイソシア
ネート化合物と、−数式(II)、(I[I)又は(T
V)で表わされるホスホン酸、リン酸又はこれらのアル
キル又はアリールエステル基を有するジオール化合物と
の反応生成物を基本骨格とするポリウレタン樹脂が含ま
れる。
0CN−R,−NGO(1) Z 式中、R3は置換基(例えば、アルキル、アラルキル、
アリール、アルコキシ、ハロゲノの各層が好ましい。)
を有していてもよい二価の脂肪族又は芳香族炭化水素を
示す。必要に応じて、R4中にはイソシアネート基と反
応しない他の官能基、例えばエステル、ウレタン、アミ
ド、ウレイド基を有していてもよい。
R,は水素原子、置換基(例えば、シアノ、ニトロ、ハ
ロゲン原子(−F、−C1,−Br、−1)、−CON
H,、−COOR& 、 −OR& 、−NICONI
IRイーN)ICOOR& 、−NIICORい一0C
ONHRi 、C0N11Ri(ココテ、R6は炭素数
1〜10のアルキル基、炭素数7〜15のアラルキル基
を示す。)などの各層が含まれる。)を有していてもよ
いアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリ
ーロキシ基を示し、好ましくは水素原子、炭素数1〜8
個のアルキル、炭素数6〜15個の了り−ル基を示す。
R1、R4、R2はそれぞれ同一でも相異していてもよ
く、単結合、置換基(例えば、アルキル、アラルキル、
アリール、アルコキシ、ハロゲノの各層が好ましい。)
を有していてもよい二価の脂肪族又は芳香族炭化水素を
示す。好ましくは炭素数1〜20個のアルキレン基、炭
素数6〜15個のアリーレン基、更に好ましくは炭素数
1〜8個のアルキレン基を示す。必要に応じて、Rコ、
R4、R2中にイソシアネート基と反応しない他の官能
基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、
ウレイド、エーテル基を有していてもよい。なお、R2
、R3、R4、R,のちの2又は3個で環を形成しても
よい。
Ar基は置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水
素を示し、好ましくは炭素数6〜15個の芳香族基を示
す。
す。ただし、R’l、R11はそれぞれ同一でも相異し
ていてもよく、水素原子、ナトリウム、カリウム、アル
キル基又はアリール基を示し、好ましくは水素原子、炭
素数1〜8個のアルキル基又は炭素数6〜15個のアリ
ール基を示す。
−数式(1)で示されるジイソシアネート化合物として
、具体的には以下に示すものが含まれる。
即ち、2,4−トリレンジイソシアネート、2゜4−ト
リレンジイソシアネートの二量体、2.6−トリレンジ
イソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、m
−キシリレンジイソシアネート、4.4′−ジフェニル
メタンジイソシアネート、1.5−ナフチレンジイソシ
アネート、3゜3′−ジメチルビフェニル−4,4′−
ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート化合
物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキ
サメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート
、ダイマー酸ジイソシアネート等の如き脂肪族ジイソシ
アネート化合物;ンソホロンジイソシアネート、4.4
’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、
メチルシクロヘキサン−2,4(又は2.6)ジイソシ
アネート、■。
3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の如き
脂肪環ジイソシアネート化合物;1,3−ブチレングリ
コール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付
加体等の如きジオールとジイソシアネートとの反応物で
あるジイソシアネート化合物等が挙げられる。
一般式(TI)、(I[I)又は(IV)で示されるホ
スホン酸、リン酸又はこれらのエステル基を有するジオ
ール化合物は、例えば以下に示す方法により合成される
即ち、以下の一般式(V)、(Vl)又は(■)で示さ
れるハロゲン化合物のヒドロキシ基を必要に応じて保8
隻シた後、以下の式(■)で表わされる旧chaeli
s−Arbuzov反応によりホスホネートエステル化
し、更に必要により臭化水素等により加水分解する方法
により合成される。
110  R3CR40ff (V) tlo  Rs  Ar  Ra−0H(Vl) R7はアルキル基又はアリール基を示し、好ましくは炭
素数1〜8個のアルキル基又は炭素数6〜15個のアリ
ール基を示す。RIGは式(V)、(Vl)又は(■)
のXを除いた残基であり、Xはハロゲン原子、好ましく
はCl5Br又はIを示す。
また、次式(IX)で表わされるオキシ塩化リンとの反
応後、加水分解させる方法等により合成してもよい。
110  R3N  Ra−0H (■) Rs (Rs0)+P + R+o−X →(RwO)z−P
−R+o + RJ(■) 式中、Rx 、Rs 、R4、Rs及びArは式(n)
、(nl)又は(IV)の場合と同義である。
式中、RIOは式(■)の場合と同義であり、Mは水素
原子、ナトリウム又はカリウムを示す。
本発明のポリウレタン樹脂がホスホン酸基を有する場合
、−数式(1)で示されるジイソシアネート化合物と、
−数式([1)、(I[[)又は(IV)で示されるホ
スホン酸エステル基を有するジオール化合物を反応させ
、ポリウレタン樹脂化した後、臭化水素等により加水分
解することで合成してもよい。
また、本発明のポリウレタン樹脂に必要に応じて含有さ
れるカルボキシル基は、例えば、次の一般式(X)、(
II)又は(X n )で示されるカルボキシル基を有
するジオール化合物を、−数式(II)、(III)又
は(IV)のジオール化合物と併用することで導入する
ことができる。
0OI1 110−R,−Ar  R40H(XI)Rs C00F+ HOR3N  RJ  0H (Xll) OOH ただし、式中、R1、R1、R4、R2及びArは式(
n)、(III)又は(IV)の場合と同義である。
一般式(X)、(XI)又は(XI)で示されるカルボ
キシル基を有するジオール化合物としては具体的には以
下に示すものが含まれる。
即ち、3.5−ジヒドロキシ安息香酸、2,2−ビス(
ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2゜2−ビス(2−
ヒドロキシエチル)プロピオン酸、2.2−ビス(3−
ヒドロキシプロピル)プロピオン酸、ビス(ヒドロキシ
メチル)酢酸、ヒス(4−ヒドロキシフェニル)酢酸、
4,4−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン酸、
酒石酸、N、N−ジヒドロキシエチルグリシン、N、N
−ビス(2−ヒドロキシエチル)−3−カルボキシプロ
ピオンアミド等が挙げられる。
なお、本発明のポリウレタン樹脂は、−数式(1)で示
されるジイソシアネート化合物と、数式(n)、(II
I)又は(IV )で示されるジオール化合物及び−数
式(X)、(II)又は(X n ”)で示されるジオ
ール化合物それぞれ2種以上とから形成してもよい。
更に、−数式(n)、(I[[)、(IV)、(X)、
(XI)及び(X II )以外のジオール化合物を、
アルカリ現像性を低下させない程度に併用することもで
きる。
このようなジオール化合物としては、具体的には以下に
示すものが含まれる。
即ち、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、1.3−ブチレングリコール、1,
4−ブタンジオール、1.5−ベンタンジオール、1.
6−ヘキサンジオール、2−ブテン−1,4−ジオール
、2.2.4−トリメチル−1,3−ベンタンジオール
、1.4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサ
ン、シクロヘキサンジメタツール、トリシクロデカンジ
メタツール、水添ビスフェノールA、水添ビスフェノー
ルF1ビスフエノールへのエチレンオキサイド付加体、
ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加体、ビス
フェノールFのエチレンオキサイド付加体、ビスフェノ
ールFのプロピレンオキサイ、ド付加体、水添ビスフェ
ノールAのエチレンオキサイド付加体、水添ビスフェノ
ールAのプロピレンオキサイド付加体、ヒドロキノンジ
ヒドロキシエチルエーテル、p−キシリレングリコール
、ジヒドロキジエチルスルホン、ビス(2−ヒドロキシ
エチル)−2,4−トリレンジカルバメート、2.4−
)リレン−ビス(2−ヒドロキシエチルカルバミド)、
ビス(2−ヒドロキシエチル)−m−キシリレンジカル
バメート等が挙げられる。
本発明のポリウレタン樹脂は上記ジイソシアネート化合
物及びジオール化合物を非プロトン性溶媒中、それぞれ
の反応性に応じた活性の公知な触媒を添加し、加熱する
ことにより合成される。使用するジイソシアネート及び
ジオール化合物のモル比は好ましくはO,S:t〜1.
2:1であり、ポリマー末端にイソシアネート基が残存
した場合、アルコール類又はアミン類等で処理すること
により、最終的にイソシアネート基が残存しない形で合
成される。
本発明のポリウレタン樹脂の分子量は、好ましくは重量
平均で1000以上であり、更に好ましくはs、 o 
o o〜20万の範囲である。
これらのポリウレタン樹脂は単独で用いても混合して用
いてもよい。感光性組成物中に含まれる、これらのポリ
ウレタン樹脂の含有量は約30〜95重量%、好ましく
は約50〜90重量%である。
本発明の組成物中には、前記ポリウレタン樹脂の他にフ
ェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールホルムアル
デヒド樹脂、フェノール変性キシレフ tta4 脂、
ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシス
チレン等、公知のアルカリ可溶性の高分子化合物を含有
させることができる。かかるアルカリ可溶性の高分子化
合物は全組成物の70重量%以下の添加量で用いられる
本発明の組成物中には、感度を高めるために環状酸無水
物、露光後直ちに可視像を得るための焼出し剤、画像着
色剤として染料やその他のフィラーなどを加えることが
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115.
128号明細書に記載されているように無水フタル酸、
テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸
、3.6−ニンドオキシーΔ4−テトラヒドロ無水フタ
ル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、ク
ロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無
水コハク酸、ピロメリット酸等がある。これらの環状酸
無水物を全組成物中の1から15重量%含有させること
によって感度を最大3倍程度に高めることができる。露
光後直ちに可視像を得るための焼出し剤としては露光に
よって酸を放出する感光性組成物と塩を形成し得る有機
染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的
には特開昭50−36209号公報、特開昭53−81
28号公報に記載されている0−ナフトキノンジアジド
−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合
せや特開昭53−36223号公報、特開昭54−74
728号公報に記載されているトリハロメチル化合物と
塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。画像
の着色剤として前記の塩形成性有機染料以外に他の染料
も用いることができる。塩形成性有機染料を含めて好適
な染料として油溶性染料及び塩基染料を挙げることがで
きる。具体的には、オイルイエロー#10 Lオイルイ
エロー性130、オイルピンク#312、オイルグリー
ンBG、オイルブルー BOS、オイルブルー#603
、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイルブ
ラックT−505(以上、オリエント化学工業株式会社
製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレッ
ト(CI42555)、メチルバイオレット(CI42
535)、ローダミンB (CI45170B) 、マ
ラカイトグリーン(CI42000)、メチレンブルー
(C152015)などを挙げることができる。
本発明の組成物は、上記各成分を溶解する溶媒に溶かし
て支持体上に塗布する。ここで使用する溶媒としては、
メタノール、エタノール、イソプロパツール、n−ブタ
ノール、【−ブタノール、エチレンジクロライド、シク
ロヘキサノン、メチルエチルケトン、エチレングリコー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、2−メトキシエチルア
セテート、l−メトキシ−2−プロパツール、lメトキ
シ−2−プロピルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル
、N、N−ジメチルホルムアミド、N、N−ジメチルア
セトアミド、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリド
ン、テトラメチルウレア、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、トルエン、
酢酸エチルなどがあり、これらの溶媒を単独あるいは混
合して使用する。上記成分中の濃度(固形分)は、2〜
50重量%である。また、塗布量は用途により異なるが
、例えば感光性平版印刷版についていえば一般的に固型
分として0.5〜3.0g/n?が好ましい。塗布量が
少くなるにつれ感光性は大になるが、怒光膜の物性は低
下する。
本発明の感光性組成物が塗布される支持体としては、例
えば、紙、プラスチックス(例えばポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレンなど)がラミネートされた紙
、例えばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。)、
亜鉛、銅などのような金属の板、例えば二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース1、プロピオン酸セルロース、酪
酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニル
アセタールなどのようなプラスチックのフィルム、上記
の如き金属がラミネート、もしくは蒸着された紙も(は
プラスチックフィルムなどが含まれる。これらの支持体
のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、
しかも安価であるので特に好ましい。更に、特公昭48
−18327号公報に記されているようなポリエチレン
テレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合
された複合体シートも好ましい。
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソード、弗化ジルコニウム
酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるい
は陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好
ましい。また、米国特許第2.714.066号明細書
に記載されている如く、珪酸ナトリウム水溶液に浸漬処
理されたアルミニウム板、特公昭47−5125号公報
に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理
したのちに、アルカリ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理し
たもの、米国特許第4.476、006号に記載されて
いるような機械的粗面化と電解粗面化を組合せて処理さ
れたアルミニウム支持体も好適に使用される。上記陽極
酸化処理は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸、硼酸等
の無機酸、若しくは、蓚酸、スルファミン酸等の有機酸
又はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以
上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極とし
て電流を流すことにより実施される。
また、砂目立て処理、陽極酸化後、封孔処理を施したも
のも好ましい。かかる封孔処理は珪酸すトリウム水溶液
、熱水及び無機塩又は有機塩を含む熱水溶液への浸漬並
びに水蒸気浴などによって行われる。
また、米国特許箱3,658,662号明細書に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。
本発明の感光性組成物に対する現像液としては、珪酸ナ
トリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第ニ
リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第ニリン
酸アンモニウム、メタ珪酸ナトリウム、重炭酸ナトリウ
ム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤の水溶液
が適当であり、それらの濃度が0.1〜10重量%、好
ましくは0.5〜5重量%になるように添加される。
また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やアルコールなどのような有機溶媒を加えることもでき
る。
支持体上に塗布された本発明の感光性組成物は線画像、
網点画像等を有する透明原画を通して露光し、次いで水
性アルカリ現像液で現像することにより、原画に対して
ポジのレリーフ像を与える。
露光に使用される光源としてはカーボンアーク灯、水銀
灯、キセノンランプ、タングステンランプ、メタルハラ
イドランプなどがある。
(発明の効果) 本発明の感光性組成物は支持体上に塗布する際の塗布性
に優れ、また塗布、乾燥、画像露光後、露光部を水性ア
ルカリ現像液で現像する際の現像性に優れる。得られた
レリーフ像は、支持体への密着性に優れ、印刷版として
使用した場合、良好な印刷物が多数枚得られる。
「実施例j 以下、本発明を合成例、実施例により更に詳細に説明す
るが、本発明の内容がこれにより限定されるものではな
い。
合成例1 コンデンサー、攪拌機を備えた500−の3つ日丸底フ
ラスコにN、N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アミノ
メチルホスホン酸 27.9g(0,140モル)及びジエチレングリコー
ル6.4g(0,060モル)、をN、 N−ジメチル
アセトアミド100gに溶解した。これに4゜4′−ジ
フェニルメタンジイソシアネート31.6g(0,12
6モル)及びヘキサメチレンジイソシアネー)14.1
g(0,084モル)を添加し、更に触媒としてジブチ
ルスズジラウレート0.1 gを加えて、100℃にて
6時間加熱攪拌した。その後、反応生成物をN、N−ジ
メチルホルムアミド1001n1及びメタノール150
−で希釈し、次に、反応生成物を水61中に攪拌しなが
ら投入して、白色のポリマーを析出させた。このポリマ
ーを濾別し、水で洗浄した後、真空上乾燥させることに
より、74gのポリマーを得た。
ゲルパーミェーションクロマトグラフィー(GPC)に
て分子量を測定したところ、重量平均(ポリスチレン標
準)で19.000であった。更に滴定により、酸価(
ホスホン酸基含有量)を測定したところ、1.79 m
eq/gであった(本発明のポリウレタン樹脂(a))
査底困1 コンデンサー及び撹拌機を備えた500 mlの3つ日
丸底フラスコにN、N−ビス(2−ヒドロキシエチル)
アミノメチルホスホン酸ジエチルエステル蕾 QC,11゜ 25.5g(0,100モル)及び2,2−ビス(ヒド
ロキシメチル)プロピオン酸13.4 g (0,10
0モル)をN、N−ジメチルアセトアミド120gに溶
解した。これに4,4′−ジフェニルメタンジイソシア
ネート31.6 g (0,126モル)及びイソホロ
ンジイソシアネー)18.7g (0,084モル)を
添加し、更に触媒としてジブチルスズジラウレート0.
1gを加えて、100℃で4時間加熱攪拌した。次に、
合成例1と同様の処理を行なって、白色のポリマー84
gを得た。
GPCにより分子量を測定したところ、重量平均(ポリ
スチレン標準)で45.000であった。更に滴定によ
り酸価(カルボキシル基含有量)を測定したところ1.
13 meq/gであった(本発明のポリウレタン樹脂
(b))。
合成例3 合成例2において合成した本発明のポリウレタン樹脂(
b)20gをN、 N−ジメチルアセトアミド−酢酸(
1: 1)200−に溶解した。これに47%臭化水素
水15.9 g (0,092モル)を添加し、80℃
にて2時間加熱撹拌した。反応生成物を水41中に攪拌
しながら投入し、白色のポリマーを析出させた。このポ
リマーを濾別し、水で洗浄後、真空上乾燥させることに
より、17gのポリマーを得た。
NMR測定によりホスホン酸ジエチルエステル部がホス
ホン酸に加水分解されていることを確認した。滴定によ
り酸価(ホスホン酸基及びカルボキシル基含有量)を測
定したところ、2.19meq/gであった。酸価から
算出したホスホン酸への変換率は約80%であった(本
発明のポリウレタン樹脂(C))。
合成例4〜16 以下、合成例1.2又は3と同様にして、第1表に示し
たジイソシアネート化合物とジオール化合物を用いて本
発明のポリウレタン樹脂を合成した。
更に、GPCにより分子量を測定し、滴定により酸価を
測定した。測定した酸価を第1表に示す。
また、分子量はいずれも重量平均(ポリスチレン標準)
で18.000〜55.000であった。
第1表において、本発明のポリウレタン樹脂(d)、(
e)、(f)、(h)、(i)、(j)、(Iり、(p
)は合成例2〜3の方法により、そして残りは合成例1
の方法により合成した。
実施例1〜9 厚さ0.30のアルミニウム板をナイロンブラシと40
0メツシユのバミストンの水g濁液を用いその表面を砂
目立てした後、よく水で洗浄した。
10%水酸化ナトリウムに70℃で60秒間浸漬してエ
ツチングした後、流水で洗浄後20%HNO。
で中和洗浄、水洗した。これをVA=12.7Vの条件
下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝酸水溶液中で
160ク一ロン/dm2の陽極特電気量で電解粗面化処
理を行った。その表面粗さを測定したところ、0.6μ
(R,表示)であった。引き続いて30%のII、SO
,水溶液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、
20%)12s’、水溶液中、電流密度2A/dm2に
おいて厚さが2.7 g/m”になるように陽極酸化し
た。
次に下記感光性組成物〔A〕における本発明のポリウレ
タン樹脂の種類を変えて、9種類の感光性組成物[A)
−1〜[:A:]−9を調製し、この感光性組成物を陽
極酸化されたアルミニウム板上に塗布し、100℃で2
分間乾燥してそれぞれの感光性平版印刷版[A)−1〜
(:A)−9を作製した。このときの塗布量は乾燥重塁
で2.5 g/m’であった。
なお、感光性組成物[A]−1〜[:A]−9に用いた
本発明のポリウレタン樹脂を第2表に示す。
感光性組成物〔A〕 (メチルセロソルブ           10g次に
比較例として、上記感光性組成物中の本発明のポリウレ
タン樹脂の代わりに、次のポリマーを用いた感光性組成
物〔B〕を同様に塗布、乾燥した。乾燥重塁は2.5g
/m″であった。
を用いて得られた感光性平版印刷版[A]−1〜[A]
−9及び〔B〕をそれぞれ40℃の温水中に60分間浸
漬した。その後、感光層表面を乾燥させ、市販接着テー
プにットーテープ)を張り付けた。テープを引き剥がし
、その際のアルミニウム基板からの感光層の剥離状態を
観察したところ、第2表に示すとおりであった。
から得られたポリウレタン樹脂であり、その酸価は2.
52 meq/g 、重量平均分子量(ポリスチレン標
準)は35.000であった(特開昭63−12404
7号記載の第1表<it>のポリマー)。
感光性組成物(A:]−1〜[A:l−9及び[B]第
2表から分かるように、本発明のポリウレタン樹脂を用
いた感光性平版印刷版(A〕−1〜[Al−9の場合、
比較例の感光性平版印刷版[B]と比べると、感光層の
剥離が起こらず、基板との密着性が非常に優れていた。
実施例10〜17 実施例1〜8を繰り返して、以下の表−3に示す感光性
平版印刷版(Al−1〜8を作製した。
次に、比較例として下記の感光性組成物〔C〕を感光性
組成物(Alと同様に塗布し、感光性平版印刷版[C]
を作製した。乾煤後の塗布重量は2、5 g / m’
であった。
感光性組成物[C] 次に実施例10〜17で作成した感光性平版印刷版[A
)−1〜8及び〔C〕の感光層上にポジ透明原画を密着
させ、それぞれに富士写真フィルム■製PSライトで1
mの距離から1分間画像露光を行なった。
露光された感光性平版印刷版[:Al−1〜8及び[C
)をDP−4(商品名:富士写真フィルム(財)製)の
8倍希釈水溶液で25℃において60秒間浸漬現像した
得られた平版印刷版[A:l−1〜8及び〔C〕を用い
てハイデルベルグ社製KOR型印刷機で市販のインキに
て上質紙に印刷した。平版印刷版[A)−1〜8及び[
C]の最終印刷枚数を調べたところ、第3表に示すとお
りであった。
第3表から分かるように、本発明のポリウレタン樹脂を
用いた平版印刷版(A)−9〜16は、比較例の平版印
刷版(C)と比べて印刷枚数が多く、耐剛性が優れてい
た。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)o−キノンジアジド化合物と、ホスホン酸基、リ
    ン酸基又はこれらのエステル基を有するポリウレタン樹
    脂とを含有することを特徴とする感光性組成物。
  2. (2)前記ポリウレタン樹脂が更にカルボキシル基を有
    することを特徴とする請求項1記載の感光性組成物。
JP1110604A 1989-04-28 1989-04-28 感光性組成物 Expired - Fee Related JP2584672B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1110604A JP2584672B2 (ja) 1989-04-28 1989-04-28 感光性組成物
DE69029222T DE69029222T2 (de) 1989-04-28 1990-04-24 Lichtempfindliche Zusammensetzung
EP90304365A EP0395346B1 (en) 1989-04-28 1990-04-24 Photosensitive composition
US07/514,941 US5254432A (en) 1989-04-28 1990-04-26 Photosensitive composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1110604A JP2584672B2 (ja) 1989-04-28 1989-04-28 感光性組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02287546A true JPH02287546A (ja) 1990-11-27
JP2584672B2 JP2584672B2 (ja) 1997-02-26

Family

ID=14540055

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1110604A Expired - Fee Related JP2584672B2 (ja) 1989-04-28 1989-04-28 感光性組成物

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5254432A (ja)
EP (1) EP0395346B1 (ja)
JP (1) JP2584672B2 (ja)
DE (1) DE69029222T2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05181281A (ja) * 1991-11-01 1993-07-23 Fuji Photo Film Co Ltd フオトレジスト組成物及びエツチング方法
JP2015501201A (ja) * 2011-10-05 2015-01-15 フジフィルム イメージング カラーランツ リミテッド 分散液、分散液を作製するためのプロセス、インク、および使用

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2584671B2 (ja) * 1989-04-26 1997-02-26 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JP3064595B2 (ja) * 1991-04-26 2000-07-12 住友化学工業株式会社 ポジ型レジスト組成物
DE69220433T2 (de) * 1991-08-19 1997-10-16 Fuji Photo Film Co Ltd Vorsensibilisierte Platte zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte
JP2672783B2 (ja) * 1994-05-05 1997-11-05 モートン インターナショナル,インコーポレイティド アミノアルキルホスホネートを含む磁気記録用バインダー
US5952154A (en) * 1998-05-29 1999-09-14 Morton International, Inc. Photoimageable composition having improved flexibility
JP2001264979A (ja) * 2000-03-22 2001-09-28 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型感光性平版印刷版
JP5077237B2 (ja) * 2006-09-25 2012-11-21 日立化成工業株式会社 感放射線性組成物、シリカ系被膜の形成方法、シリカ系被膜、シリカ系被膜を備える装置及び部材、並びに絶縁膜用感光剤
JP5743783B2 (ja) * 2011-07-27 2015-07-01 富士フイルム株式会社 感光性組成物、平版印刷版原版、及びポリウレタン
MX2020002219A (es) * 2017-08-30 2020-07-20 Dow Global Technologies Llc Composiciones adhesivas a base de solvente.

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60247637A (ja) * 1984-05-23 1985-12-07 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS62289834A (ja) * 1986-05-09 1987-12-16 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 感光性混合物及び感光性記録材料
JPS63261350A (ja) * 1987-04-20 1988-10-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1522393A1 (de) * 1965-03-17 1969-07-24 Agfa Gevaert Ag Gelatineschichten mit verbesserten physikalischen Eigenschaften
US3635709A (en) * 1966-12-15 1972-01-18 Polychrome Corp Light-sensitive lithographic plate
US3867147A (en) * 1969-05-20 1975-02-18 Hoechst Co American Light-sensitive diazo compounds and reproduction material employing the same
US3660097A (en) * 1969-11-28 1972-05-02 Polychrome Corp Diazo-polyurethane light-sensitive compositions
GB1377978A (en) * 1970-11-25 1974-12-18 Kansai Paint Co Ltd Composition for preparing electroconductive resin
US3754972A (en) * 1971-03-29 1973-08-28 Ppg Industries Inc Phosphate esters and their use as adhesive promoters
US4289838A (en) * 1972-12-14 1981-09-15 Polychrome Corporation Diazo-unsaturated monomer light sensitive compositions
DE2719372A1 (de) * 1977-04-30 1978-11-02 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von fuellstoffverstaerkten polyurethanelastomeren
DE2948554A1 (de) * 1979-12-03 1981-06-04 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch
JPS6095722A (ja) * 1983-10-28 1985-05-29 Sony Corp 磁気記録媒体
EP0155231B2 (de) * 1984-03-07 1997-01-15 Ciba-Geigy Ag Verfahren zur Herstellung von Abbildungen
EP0168636A3 (en) * 1984-06-18 1988-01-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for making multilayer coating
EP0196031A3 (en) * 1985-03-22 1987-12-23 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive compositions and light-sensitive materials
DE3615612A1 (de) * 1986-05-09 1987-11-12 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch und daraus hergestelltes lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
US4877711A (en) * 1986-05-19 1989-10-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive diazo photopolymerizable composition with polyurethane having carbon-carbon unsaturated and a carboxyl group
JPH07120039B2 (ja) * 1986-11-14 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物
JPH0684420B2 (ja) * 1986-12-26 1994-10-26 三菱レイヨン株式会社 活性エネルギ−線硬化性樹脂組成物
JP2593305B2 (ja) * 1987-02-02 1997-03-26 日本ペイント株式会社 ポジ型感光性樹脂組成物
JPS63265242A (ja) * 1987-04-23 1988-11-01 Fuji Photo Film Co Ltd 多色画像形成方法
JPH0814696B2 (ja) * 1987-09-17 1996-02-14 富士写真フイルム株式会社 感光性樹脂組成物

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60247637A (ja) * 1984-05-23 1985-12-07 Agency Of Ind Science & Technol 感光性樹脂組成物
JPS62289834A (ja) * 1986-05-09 1987-12-16 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 感光性混合物及び感光性記録材料
JPS63261350A (ja) * 1987-04-20 1988-10-28 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性組成物

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05181281A (ja) * 1991-11-01 1993-07-23 Fuji Photo Film Co Ltd フオトレジスト組成物及びエツチング方法
JP2015501201A (ja) * 2011-10-05 2015-01-15 フジフィルム イメージング カラーランツ リミテッド 分散液、分散液を作製するためのプロセス、インク、および使用

Also Published As

Publication number Publication date
JP2584672B2 (ja) 1997-02-26
DE69029222D1 (de) 1997-01-09
EP0395346B1 (en) 1996-11-27
DE69029222T2 (de) 1997-04-30
EP0395346A2 (en) 1990-10-31
EP0395346A3 (en) 1992-01-29
US5254432A (en) 1993-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63287943A (ja) 感光性組成物
JPS63287946A (ja) 感光性組成物
JPS63287947A (ja) 感光性組成物
JPS63287944A (ja) 感光性組成物
JPS63287942A (ja) 感光性組成物
JPS63261350A (ja) 感光性組成物
JPH07120039B2 (ja) 感光性組成物
JPH02287546A (ja) 感光性組成物
JPS62123452A (ja) 感光性組成物
JP2627565B2 (ja) 感光性平版印刷版
JP2584671B2 (ja) 感光性組成物
JPS62175734A (ja) 感光性組成物
JPS63287948A (ja) 感光性組成物
JPS62163055A (ja) ポジ型感光性平版印刷版
JPH0340383B2 (ja)
JPH0340380B2 (ja)
JPS62175729A (ja) 感光性組成物
JPS5984239A (ja) 感光性組成物
JPH032868A (ja) 感光性平版印刷版
JP2956102B2 (ja) 平版印刷版用感光性組成物
JPH11202485A (ja) 平版印刷版用感光性組成物
JPS6380254A (ja) 感光性組成物
JP2594461B2 (ja) 感光性平版印刷版の保存方法
JPH02287547A (ja) 光重合性組成物
JPH01255854A (ja) 感光性組成物

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071121

Year of fee payment: 11

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071121

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081121

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees