JPH02281678A - コヒーレント高エネルギ連続波レーザ・ビームを多重化する装置と方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 この発明は高エネルギφレーザ・ビームを共用する装置
と方法、更に具体的に云えば、工業的なプロセスを実施
する為に使われるこの様な装置と方法に関する。

Ｘ軸及びｙ軸ガルバノメータを使って、高エネルギ・レ
ーザ・ビームの方向を変え、こうして光ファイバの２次
元配列のどの１つが入力端にレーザ・ビームを受取るか
を選択することにより、パルス形レーザを多重化するこ
とが知られている。

ファイバの第２の端は夫々の工作場所の近くに配置され
、工業的なプロセス、例えば切削、確実加工等を実施す
る。ガルバノメータは、パルスの合間、即ち、光が存在
しない時にだけ、レーザ・ビームの方向を変える。この
様な多重化器が米国特許第４．７３９，１６２号、１９
８６年１２月２２日出願の係属中の米国特許出願通し番
号第９４４，７７１号及びカリフォルニア州のロボレー
ズ・システムズ・インコーポレーテット社によって製造
される装置に示されている。然し、例えばはんだ付けの
様なあるプロセスは、ピーク・エネルギが大きく、パル
スの持続時間の短いことによって、はんだが蒸発し、そ
の為、はんだ付けすべき材料がはんだ付けされない為、
高エネルギのパルス形レーザを用いては実施することが
出来ない。

その為、はんだ付けには高エネルギ連続波（ＣＷ）レー
ザが必要である。高エネルギＣＷレーザと共に従来の多
重化装置を使うと、ファイバの入力端にある被覆が、ガ
ルバノメータに対するアドレスが変更される時に損傷さ
れる。これは、ガルバノメータがビームを走査する時、
ビームの運動により、ビームがファイバの被覆を焼き始
めるからである。

従って、この発明の目的は、光ファイバの被覆を損傷し
ない様な、高エネルギＣＷレーザに用いる多重化装置及
び方法を提供することである。

発明の要約 第１の通路を持つコヒーレント高エネルギ連続波レーザ
ービームを多重化する装置が、第１の通路に沿った光ビ
ームの伝搬を中断する手段と、該中断する手段により後
で前記第１の通路内に配置されていて、レーザ・ビーム
の少なくとも一部分の方向を第２の通路に変更するそら
せ手段とを有し、該そらせ手段は中断する手段がレーザ
・ビームの伝搬を中断している時にだけ、第２の通路の
方向を変え、更に、第２の通路内に配置されていて第１
の焦点平面を有する第１の集束手段と、レーザ・ビーム
を伝達する第１の複数個の手段とを有し、該複数個の手
段の各々の端が第１の焦点平面内に配置されている。

コヒーレント連続波レーザ・ビームを多重化する方法が
、第１の通路に沿ったレーザ・ビームの伝搬を中断し、
ビームの少なくとも一部分を第２の通路にそらせ、ビー
ムが中断されている時だけ、第２の通路の方向を変え、
第２の通路にあるレーザ・ビームを集束し、集束された
レーザ・ビームを伝達することを含む。

詳しい説明 第１図に高エネルギＣＷレーザ１０を示す。これは典型
的にはＮｄ　ｎ　ＹＡＧ形であるが、紫外線（１９３ｎ
ｍ）乃至近赤外線（２μｍ）の範囲で動作する任意の高
エネルギ固体又はガス・レーザであり、典型的には、そ
らせてない時の第１の通路を持つビーム１２で示す様に
、１．０６μｍで約０．５乃至１．５キロワツトのコヒ
ーレント光を発生する。ビーム１２に隣接して、放出鏡
１４及び放出ガルバノメータ１６の様な中断手段がある
。

鏡を取付けた回転ソレノイドの様な機械的なビームそら
せ装置を使ってもよいが、（これから説明する）アドレ
ス動作は回折も遅く、鏡のリンギングが起る。ガルバノ
メータは典型的には２０ミリ秒未満でずっと速く、これ
が負帰還回路の一部分であるから、リンギングがなくな
り、温度に対して位置が安定する。鏡１４の側面１７に
全（１００％）反射被覆があり、２つの位置の間で回転
する様に、マサチューセッツ州のゼネラル・スキャンニ
ング・インコーボレーテット社によって製造されるモデ
ルＸＹ３０３５の様なガルバノメータ１６に取付けられ
ている。第１の位置（実線で示す）はビーム１２をそら
せないが、第２の位置（破線で示す）はビームの方向を
別のそらせ通路１８へ変える。この通路は、カリフォル
ニア州のコヒーレント・インコーポレーテット社によっ
て製造されるモデル２１３エネルギ計の様なビーム放出
部２０で終端する。−殻内に、その被覆の損傷を防止す
る為に光ファイバのアドレスを変える時（後で説明する
）、必要なファイバの露出時間が過ぎた時、エネルギ測
定が必要な時、又は緊急事態が起った時（後で説明する
）、鏡１４は第２の位置にある。

レーザ・ビーム１２をそらせない場合、レーザ・ビーム
は、第１のアドレス用鏡２２及び第１のアドレス用ガル
バノメータ２４の様なそらせ手段に達するまで、そのま
−進み続ける。鏡２２はその前側側面２６に部分反射、
例えば５０％反射の被覆を持ち、裏側側面２８に反射防
止被覆を有する。典型的には、鏡２２は第１図に示す４
５°の中心位置から光学的に±１６ａ　（入射角が反射
角に等しいから、機械的には±８″）回転することが出
来る。ビーム１２の第１の部分が透過し、第２の部分が
鏡２２によって第２の通路３０へ反射させられる。通路
３０に第１の焦点平面３４を有する反射防止被覆をした
第１の平凸レンズ又はその他の形式のレンズ３２の様な
第１の集束手段が配置されている。光ファイバ３６の様
に、レーザ・ビームを透過させる第１の複数個の手段の
夫々の入力端３８が、好ましくは米国特許第４，７４４
．６２７号に記載される様なホルダに入れて、焦点平面
３４に配置される。ファイバ３６の出力端（図に示して
ない）が夫々の作業ステーション（図に示してない）に
配置される。

−膜内に、ファイバの直径が小さければ小さい程、可撓
性が大きく、曲げ半径が小さい。その為、ファイバ３６
の出力端は工作物の届き難い場所にも一層容易に位置ぎ
めすることか出来る。更に、ファイバの直径が小さいと
、ビームの品質が良好である。他方、注入されるレーザ
・ビームのスポット寸法が、ファイバの損傷を防ぐ為に
ファイバの直径より小さくなければならないから、小さ
過ぎる直径を使うことが出来ない。典型的にきは、約１
００乃至１，０００μｍのファイバの直径を使うことが
出来る。

レーザ・ビーム１２の第１の部分が、やはり第１の通路
１２に沿って鏡２２を通過し、第２の焦点平面４２を持
つ第２の反射防止被覆をした平凸又はその他の形式のレ
ンズ４０の様な第２の集束手段に入射する。鏡１４．２
２及びレンズ３２゜４０はニュー・メキシコ州のＣＶＩ
レーザ・コーポレーションから購入することが出来る。

光ファイバ４４の様なレーザ・ビームを透過する第２の
複数個の手段の入力端４６が平面４２内に配置され、出
力端（図に示してない）が夫々の作業ステーション（図
に示してない）に配置される。ファイバ３６．４４の入
力端３８．４６及び出力端は、米国特許第４，６７６．
５８６号及び同第４．６８１．３９６号に記載される様
に調製して、注入され或いは放出される高エネルギのレ
ーザ・ビームによってファイバ３６．４４の被覆が損傷
されない様にすることが好ましい。

アドレス用鏡２２の回転により、平面３４，４２内での
焦点が変化し、従って、どの１つのファイバ３６並びに
どの１つのファイバ４４がアドレスされるか、即ちレー
ザ・ビームがそれに注入されるかＶ変わる。どんな時も
、−度に１対のファイバ、即ちファイバ３６の内の１本
及びファイバ４４の内の１本がアドレスされるから、フ
ァイバの対は同じ所要のアドレス時間を持つ様に選ばれ
る。作業ステーションの数に対してファイバ３６の数が
十分であれば、鏡２２が全反射であって、レンズ４０及
びファイバ４４を省略してもよい。

第２図にはＩＢＭ　　ＰＣ／ＡＴの様なコンピュータ２
００が示されており、これが母線２０２によって、マサ
チューセッツ州のメトラバイト・インコーポレーテット
社によって製造されるモデルＤＤＡ−０６の様な２４ビ
ツト入出力ボード２０４に接続される。ボード２０４が
、ガルバノメータ１６．２４を位置ぎめする１６ビツト
のアドレス信号を母線２０６に発生すると共に、何時ガ
ルバノメータ１６，２４が移動の指令を受けたか（論理
レベルがＯから１に変化する）並びに何時その移動が完
了したか（論理Ｏへの復帰）に関する情報を伝える１ビ
ツトの位置確認信号（ＰＯＳＡＣＫ）を線２０８から受
取る。ボード２０４は１ビツト線２１０にストローブＡ
（アドレス）信号をも発生して、ガルバノメータ２４の
移動を開始すると共に、ガルバノメータ１６の移動を開
始するストローブＤ（放出）信号を１ビツト線２１２に
発生し、レーザ１０の動作を停止する緊急Ｅ−ＳＴＯＰ
　（緊急停止）信号を１ビツト線２１４に発生する。こ
れらの信号が、テキサス州のテキサス・インスツルメン
ツ社によって製造されるＬＳ２４４形非反転バッファの
様な信号条件づけ装置２１６との間でやり取りされる。

条件づけ装置２１６からの１つの出力信号が線２１８に
印加され、そこからレーザ動作停止回路（図面に示して
ない）、例えば、シャッタ、Ｑスイッチ、電源遮断回路
、レーザ制御回路等に送られる。アドレス信号が１６ビ
ツト母線２２０に印加され、１ビツト線２２２からＰＯ
ＳＡＣＫ信号を受取り、１ビツト母線２２４にストロー
ブＡ信号を供給し、１ビツト母線２２６にストローブＤ
信号を供給し、これらの相手は何れもガルバノメータ駆
動回路２２８であり、これはゼネラル・スキャンニング
・カンパニイによって製造されるものである。駆動回路
２２８がケーブル２３０，２３２を介して、ガルバノメ
ータ１６．２４にアナログそらせ信号を供給すると共に
、位置センサ（図面に示してない）及び加熱用ブランケ
ット（図面に示してない）に対する電力を供給する。ガ
ルバノメータ１６゜２４が夫々ケーブル２３４，２３６
を介して、位置信号、自動利得制御（ＡＧＣ）信号及び
夫々ガルバノメータ１６．２４内に取付けられたサーミ
スタ（図に示してない）からの温度信号を供給する。

第３図はコンピュータ２００に使われるプログラムのフ
ローチャートである。端のブロック３００はプログラム
の初めを表わし、これはプロセス・ブロック３０２で示
す様に、放出アドレスを発生させる。ストローブＤ信号
を発生する前、ＰＯＳＡＣＫ信号は論理０である。次に
プロセス・ブロック３０４で示す様に、ストローブＤ信
号が発生され、これはＰＯＳＡＣＫ信号を１にして、ガ
ルバノメータ１６が移動していることを示す。これが判
定ブロック３０６で検査される。ＰＯＳＡＣＫが１でな
く、例えば、ガルバノメータ１６或いはその駆動回路２
２８が不良であるか、或いは何かＶその回転を妨げてい
る場合、プロセス・ブロック３０８で示す様に、Ｅ−３
ＴＯＰ信号が発生されて、レーザの動作を停止する。Ｐ
ＯＳＡＣＫが１であれば、即ち、ガルバノメータ１６が
正しく動いていれば、判定ブロック３１０で示す様に、
ＰＯＳＡＣＫが０に復帰したかどうか、即ち、ガルバノ
メータ１６が放出アドレスにあるかどうかＶ検査される
。なければ、その検査が繰返される。

ＰＯＳＡＣＫがＯに復帰し、ガルバノメータ１６及び鏡
１４が放出位置にあることを示す時、プロセス・ブロッ
ク３１２で示す様に、ファイバ・アドレスが発生される
。プロセス・ブロック３１４で示す様に、ストローブＡ
が発生される。判定ブロック３１６で示す様に、ＰＯＳ
ＡＣＫが１でなければ、Ｅ−ＳＴＯＰ信号が発生される
（ブロック３０８）。ＰＯＳＡＣＫが１であれば、判定
ブロック３１８で示す様に、ＰＯＳＡＣＫが０に復帰し
たかどうかを検査する。復帰していなければ、検査を復
帰し、答がイエスであれば、ガルバノメータ２４及び鏡
２２が、ブロック３２０で示す様に、選ばれたアドレス
にあることを意味する。

その時、プロセス・ブロック３２２で示す様に、アドレ
スされたファイバの対に、ユーザが特定した持続時間又
は期間の間、注入が行なわれる。その後、プロセス・ブ
ロック３０２で示す様に、放出アドレスが発生され、こ
のプロセス全体が次のファイバの対のアドレスに対して
繰返される。

上に述べた第１の実施例は、ガルバノメータ１６．２４
の角変位並びにレンズ３２．４０の直径の制約の為に、
アドレスすることが出来るファイバの対の数が制限され
ている。第４図、第５図及び第６図に示す第２の実施例
を使って、更に多くのファイバをアドレスすることが出
来る。第４図に示した第２の実施例は、第１の通路１２
の中に、その前側５２に部分反射、例えば５０％の反射
をする被覆を持ち、後側５４に反射防止被覆を持つ固定
鏡５０の様なそらせ手段が配置されている点で、第１図
の実施例と異なる。ビーム１２の第３の部分が第３の通
路５６に反射されて、前側６０に部分反射、例えば５０
％の被覆、そして裏側６２に反射防止被覆を持つ第２の
アドレス用鏡５８の様なそらせ手段に入射する。鏡５８
が第２のアドレス用ガルバノメータ６３に装着されてい
る。

通路５６にあるビーＡの一部分が第４の通路６４に反射
され、その後筒３の焦点平面６８を持っ平凸レンズ６６
の様な第３の集束手段に反射されて、第３のｆｆｊｆｉ
個の光ファイバ７０の様に、レーザ・ビームを透過する
第３の手段の端６９に集束される。入力端６９が平面６
８内に配置される。同様に、ビーム５６の内、鏡５８に
よってそらされなかった透過レーザ・ビームである一部
分は、第４の焦点平面７３を持つ平凸レンズ７２の様な
第４の集束手段に向い、第４の複数個の光ファイバ７６
の様なレーザ・ビームを透過する第４の手段の入力端７
４に集束される。入力端７４が平面７３内に配置される
。レンズ６６．７２は反射防止被覆を持っている。光フ
ァイバ７０．７６の他端が別のはんだ付は作業ステーシ
ョンに送られる。

第２の実施例に対する第５図に示した制御装置のブロッ
ク図は、１ビツト線５００が、ガルバノメータ１６から
の位置確認（ＰＯＳＡＣＫ　　１）信号をボード２０４
に伝え、１ビツト線５０２がガルバノメータ２４．６３
からの位置確認（ＰＯＳＡＣＫ　　２）信号をボード２
０４に伝え、１ビツト線５０４がガルバノメータ６３に
対するストローブＡ信号を条件づけ装置２１６に供給し
、１ビツト線５０６がガルバノメータ２４に対するスト
ローブＢを条件づけ装置２１６に供給する点で、第２図
と異なっている。

更にガルバノメータ１６はストローブ動作をせず、その
代り、ボード２０４が、ゼネラル・スキャンニング・イ
ンコーポレーテット社によって製造されるモデルＣＸ６
６０の様なガルバノメータ駆動回路５１０対し、線５０
８を介して両極性アナログ駆動信号を供給する。ガルバ
ノメータ１６はゼネラル・スキャンニング・インコーボ
レーテット社によって製造されるモデルＧ３５０ＤＴで
あってよい。ガルバノメータ１６が線５１２から制御信
号を受取り、帰還信号を線５１４を介して回路５１０に
供給する。線５１２の制御信号及び電力信号は、第２図
に関連して線２３０及び２３２の信号について述べた所
と同様であり、線５１４の帰還信号は第２図の線２３４
，２３６の信号と同様である。

信号条件づけ装置２１６が条件づけ装置２２８から１ビ
ツト線５１６を介してＰＯＳＡＣＫ　　２信号を受取り
、この条件づけ装置に対し、１ビツト線５１８のストロ
ーブＡ信号及び１ビツト線５２０のストローブＢ信号を
供給する。更に、条件づけ装置２１６が駆動回路５１０
から線５２２を介してＰＯＳＡＣＫ　　１信号を受取る
。他の線は、第２図の対応する番号の線と同じ信号を伝
える。

第６図は第４図のコンピュータ２００のフローチャート
である。端のブロック３００はプログラムの初めを示し
、これがプロセス−ブロック３０２で示す様に、線５０
８（第５図）にアナログ放出アドレスを発生させる。次
に、判定ブロック６００で示す様に、ＰＯＳＡＣＫ　　
１信号が発生されたか、即ち論理１であるかどうかを検
査する。

発生されていなければ、プロセス・ブロック３０８で示
す様に、Ｅ−ＳＴＯＰ　（緊急停止）信号が発生される
。ＰＯＳＡＣＫ、１が発生され〜ば、判定ブロック６０
２で示す様に、ファイバ・アドレスの変化がガルバノメ
ータ６３に対して要求されるかどうかを検査する。要求
されなければ、プログラムは判定ブロック６０４に進む
。

イエスであれば、ガルバノメータ６３のアドレスが、プ
ロセス・ブロック６０６で示す様に発生される。次に、
ストローブＡ信号が発生される（プロセス・ブロック６
０８）。次に判定ブロック６１０で示す様に、ＰＯＳＡ
ＣＫ　　２が論理１であるかどうかを検査する。そうで
なければ、Ｅ−ＳＴＯＰ信号が発生される（プロセス・
ブロック３０８）。イエスであれは、判定ブロック６１
２で示す様に、論理Ｏに復帰したかどうかを検査する。

復帰していなければ、この検査を繰返す。

イエスであれば、これはガルバノメータ６３及び鏡５８
の向きが正しいことを意味し、これはブロック６１４に
示す通りである。その後、判定ブロック６０４で示す様
に、ガルバノメータ２４に対するアドレスの変更が必要
であるかどうかを検査する。この検査は、ガルバノメー
タ６３に対するアドレスの変更が必要でない場合にも行
なわれる（ブロック６０２）。必要でなければ、ユーザ
が特定した期間の間、全ての光ファイバ３６，４０゜７
０．７６（１４図）に注入が行なわれ、プログラムが初
め（ブロック３０２）に戻り、次のアドレスに対して繰
返される。

判定ブロック６０４の答がイエスである場合、ガルバノ
メータ２４に対するアドレスが発生される（プロセス・
ブロック６１６）。その後、ストローブＢ信号が発生さ
れる（プロセス・ブロック６１８）。次に、判定ブロッ
ク６２０で示す様に、ＰＯ３ＡＣＫ　　２が論理１であ
るかどうかを検査する。そうでなければ、Ｅ−ＳＴＯＰ
　（緊急停止）が発生される（プロセス・ブロック３０
８）。イエスであれば、判定ブロック６２２に示す様に
、ＰＯ３ＡＣＫ　　２が論理Ｏに戻ったかどうかを検査
する。戻っていなければ、検査を繰返す。イエスであれ
ば、ガルバノメータ２４及び鏡２２の向きが正しくなっ
ている。その時、ファイバに注入を行ない（プロセス・
ブロック３２２）、プログラムはブロック３０２に戻る
。

この発明の範囲内でこの他のいろいろな実施例が考えら
れることは云うまでもない。例えば、放出ガルバノメー
タ１６及び放出鏡１４を使う代りに、中断手段は、レー
ザ動作を開始及び停止する為に、レーザ１０の空洞の内
側に設けたＱスイッチで構成してもよい。この様なレー
ザもＣＷと見なされ、例えば閃光管からの励振エネルギ
が、緊急停止が要求される場合を除いて、連続的に存在
している限り、パルス形レーザとは考えられない。

更に、ビーム分割器、鏡及びガルバノメータを使って、
更に多数の光ファイバをアドレスすることが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の第１の実施例の略図、第２図は第１
図の実施例に対する制御装置のブロック図、 第３図は第２図のコンピュータに使われるプログラムの
フローチャート、 第４図はこの発明の第２の実施例の略図、第５図は第４
図の実施例に対する制御装置のブロック図、 第６図は第５図のコンピュータに使われるプログラムの
フローチャートである。 主な符号の説明 １２：通路 １４．２２：鏡 １６．２４：ガルバノメータ ３２：レンズ ３６：光ファイバ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、第１の通路を持つコヒーレント高エネルギ連続波レ
   ーザ・ビームを多重化する装置に於て、前記第１の通路
   に沿った光ビームの伝搬を中断する手段と、 該中断する手段より後で前記第１の通路内に配置されて
   いて、前記レーザ・ビームの少なくとも一部分の方向を
   第２の通路に変えるそらせ手段とを有し、該そらせ手段
   は前記中断する手段がレーザ・ビームの伝搬を中断して
   いる時だけ、前記通路の方向を変え、更に、 前記第２の通路内に配置されていて第１の焦点平面を持
   つ第１の集束手段と、 レーザ・ビームを伝達する第１の複数個の手段とを有し
   、該複数個の手段の各々の入力端が前記第１の焦点平面
   内に配置されている装置。 ２、前記コヒーレント光ビームを発生するレーザ手段を
   有する請求項１記載の装置。 ３、前記レーザ手段がＮｄ：ＹＡＧレーザで構成される
   請求項２記載の装置。 ４、前記中断する手段が、ガルバノメータ、並びに該ガ
   ルバノメータに取付けられていてレーザ・ビームを別の
   通路へそらせる鏡で構成されている請求項１記載の装置
   。 ５、前記別の通路内に配置されたビーム放出部を有する
   請求項４記載の装置る ６、前記ビーム放出部がエネルギ計を有する請求項５記
   載の装置。 ７、前記そらせ手段が、第１のアドレス用ガルバノメー
   タ、及び該ガルバノメータに取付けられた第１のアドレ
   ス用鏡で構成される請求項１記載の装置。 ８、前記鏡が部分反射して、前記レーザ・ビームの一部
   分を透過させ、更に、 該透過する部分の通路内に配置されていて第２の焦点平
   面を持つ第２の集束手段と、 レーザ・ビームを伝達する第２の複数個の手段とを有し
   、該第２の複数個の手段の各々の入力端が前記第２の焦
   点平面内に配置されている請求項７記載の装置。 ９、前記集束手段がレンズで構成される請求項１記載の
   装置。 １０、前記レンズが平凸形である請求項９記載の装置。 １１、レーザ・ビームを伝達する前記第１の複数個の手
   段が光ファイバで構成される請求項１記載の装置。 １２、前記中断する手段及び前記そらせ手段の間で前記
   第１の通路内に配置されていて、レーザ・ビームの一部
   分を第３の通路に沿って供給する固定の部分反射鏡と、 第２のアドレス用ガルバノメータと、 前記第３の通路内に配置されていて前記第２のガルバノ
   メータに取付けられ、入射するレーザ・ビームの一部分
   の方向を第４の通路に変える第２のアドレス用部分反射
   鏡とを有し、該第２のアドレス用鏡及び前記第２のアド
   レス用ガルバノメータは、前記中断する手段がレーザ・
   ビームを中断している時だけ、前記第４の通路の方向を
   変え、前記第２のアドレス用鏡は入射するレーザ・ビー
   ムの別の一部分を前記第３の通路に伝達し、更に、前記
   第３及び第４の通路内に夫々配置されていて、夫々第３
   及び第４の焦点平面を持つ第３及び第４の集束手段と、 レーザ・ビームを伝達すると共に、夫々前記第３及び第
   ４の焦点平面内に端が配置されている第３及び第４の複
   数個の手段とを有する請求項８記載の装置。 １３、コヒーレント連続波レーザ・ビームを多重化する
   方法に於て、 第１の通路に沿ったレーザ・ビームの伝搬を中断し、 該ビームの少なくとも一部分を第２の通路にそらせ、 レーザ・ビームが中断されている時だけ、前記第２の通
   路の方向を変え、 前記第２の通路にあるレーザ・ビームを集束し、集束さ
   れた光を伝達する工程を含む方法。 １４、中断されたレーザ・ビームのエネルギを測定する
   ことを含む請求項１３記載の方法。 １５、前記そらせる工程より後で、前記第１の通路内に
   あるレーザ・ビームの一部分を伝達し、伝達した部分を
   集束し、集束されたレーザ・ビームを第１の通路に伝達
   することを含む請求項１３記載の方法。 １６、中断されたレーザ・ビームを第３の通路へ部分的
   に反射し、 部分的に反射されたレーザ・ビームの一部分を第４の通
   路へそらせ、 レーザ・ビームが中断されている時だけ、前記第４の通
   路の方向を変え、 該第４の通路にあるレーザ・ビームを集束し、該第４の
   通路にある集束されたレーザ・ビームを伝達し、 前記そらせる工程より後で前記第３の通路にあるレーザ
   ・ビームの一部分を伝達し、 伝達した部分を集束し、 第３の通路にある集束されたレーザ・ビームを伝達する
   ことを含む請求項１５記載の方法。