JPH02277578A - 中空基体の浸漬塗布方法 - Google Patents

中空基体の浸漬塗布方法

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JPH02277578A
JPH02277578A JP10120989A JP10120989A JPH02277578A JP H02277578 A JPH02277578 A JP H02277578A JP 10120989 A JP10120989 A JP 10120989A JP 10120989 A JP10120989 A JP 10120989A JP H02277578 A JPH02277578 A JP H02277578A
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JP
Japan
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base body
hollow
coating
substrate
pressure
Prior art date
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Pending
Application number
JP10120989A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoichi Asazuma
麻妻 要一
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Toray Engineering Co Ltd
Original Assignee
Toray Engineering Co Ltd
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Publication date
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  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は中空基体の浸漬塗布方法に関するものである。
[従来の技術] 電子写真複写機等の感光体は、円筒状の中空基体の外周
面に感光材料を塗布して製作されるが、その際、例えば
、特開昭62−65763号公報あるいは特公昭63−
11940号公報等において開示されているように、中
空基体の上端開口を閉塞するように保持し、かつこの基
体の下端開口側から塗布液中に浸漬して塗布する所謂、
浸漬塗布方法により製作されている。
[発明が解決しようとする問題点] しかし、この浸漬塗布方法は、中空基体の浸漬深さの変
化に基く塗布液圧力と基体内圧力とのアンバランスが生
じ、中空基体内面側に塗布液が侵入して塗布を必要とし
ない基体内面が塗布されてしまうという欠点を有してお
り、この為、塗布後において基体内面に付着の余剰感光
材料を適当な手段により除去することが余儀なくされて
いた。
また、液中から中空基体を収り出すに際し、中空基体内
に封じ込められていたガスの膨脹若しくは収縮(環境条
件の変化により膨脹若しくは収縮される)に基く液中へ
のガス又は液流出による液面の乱れが発生して均一塗布
を困麹化しているという欠点も有していた。
この為、中空基体の上端開口を閉塞するように保持する
チャックに膨脹ガス放出手段を装着し、これにより液中
へのガス流出による泡発生を防止したりあるいは中空基
体の下端開口が液面を離れる直前に取り出し速度をダウ
ンさせることによりガスが収縮された場合における基体
内面付着液の流出を防止したりしていたが、これらでは
十分に満足し得なかった。
本発明は、このような事に着目し、これを解決すべく各
方面から鋭意検討の結果、中空基体の浸漬深さに応じて
基体内圧力を、塗布液を中空基体内に浸入させないよう
な圧力に調整しながら塗布すれば、上述の欠点を一挙に
解消し得ることを見出すると共に、塗布液を中空基体内
に侵入させないように圧力調整する当っては、中空基体
の上端開口を閉塞するように保持するチャックに、中空
基体の下端により包囲される領域の液面レベルを検出す
る液面レベル検出器を装着し、かつこの液面レベル検出
器が、中空基体の下端と同レベルの液面レベルを検出す
るように圧力調整するのが有効であることを見出したの
である。
[問題点を解決するための手段] すなわち、本発明に係る中空基体の浸漬塗布方法は、中
空基体の上端開口を閉塞するように保持し、かつ前記中
空基体の下端開口側から塗布液中に浸漬して塗布する中
空基体の浸漬塗布方法において、前記中空基体の浸漬深
さに応じて基体内圧力を、前記塗布液を前記中空基体内
に侵入させないような圧力に調整しながら塗布すること
を特徴とし、また、本発明に係る他の中空基体の浸漬塗
布方法は、中空基体の上端開口を閉塞するように保持し
、かつ前記中空基体の下端開口側から塗布液中に浸漬し
て塗布する中空基体の浸漬塗布方法において、前記中空
基体の上端開口を閉塞するように保持するチャックに、
前記中空基体の下端により包囲される領域の液面レベル
を検出する液面レベル検出器を装着し、かつ前記液面レ
ベル検出器が、前記中空基体の下端と同レベルの液面レ
ベルを検出するように前記中空基体内の圧力を調整しな
がら塗布することを特徴とするものである。
[実施例] 以下、実施例について述べると、第1図は中空基体の浸
漬塗布装置の概略構成を示す図であるが、図中、1は昇
降装置、2はアーム、3はチャック、4は塗布液貯槽、
5は超音波式液面レベル検出器5を夫々示し、昇降装置
1は縦軸6で案内されて上下動し得るように装着され、
また、アーム2は、水平方向に所定角度に揺動し得るよ
うに昇降装置1に装着され、更に、チャック3はアーム
2に懸装されている。
なお、超音波式液面レベル検出器5は、チャック3の先
端より下方に位置されてチャック3に装着されていると
共にチャック3は、中空基体7を保持して塗布液貯槽4
上に位置されている。
第2図において、チャック3による中空基体7の保持態
様が拡大されて示されているが、チャック3は、上下両
端が開口されている円筒体で構成された中空基体7の上
端開口を閉塞するように保持している。詳しくは、チャ
ックの先端部を中空基体7の上端開口に嵌挿し、ピスト
ン8を下方へ移動させてOリング9をチャックの外径側
へ押して中空基体7の内面10に対して圧接させて保持
している。
而して、昇降装置1の下方への移動により中空基体7を
、貯槽4の塗布液中へ浸漬し、かつ上方への移動により
塗布液外へ取り出すことができるが、その際、浸漬開始
から取り出し完了までの間中、中空基体7の浸漬深さに
応じて基体内圧力が、塗布液を中空基体7内に侵入させ
ないような圧力に調整される。塗布に際し、中空基体7
の浸漬深さが変化すると塗布液圧力も変化し、中空基体
7内に塗布液が浸入しようとするが、これを阻止するよ
うに中空基#、7内の圧力が所定圧力に調整される。具
体的には、中空基体7の下端により包囲される領域の液
面レベルを検出する超音波式液面レベル検出器5が、中
空基体7の下端と同レベルの液面レベルを検出するよう
に中空基体7内の圧力が調整される。すなわち、これは
、第1図において示されている計測器11、制御装置1
2、サーボモータ13及びアクチュエータ14等で構成
されている圧力副脚系を介して行われる。なお、この制
御装置12等はアーム2上に装着されており、かつ制御
装!11の設定値として、超音波式液面レベル検出器5
と中空基体7の下端間のレベル差しが保持される。
超音波式液面レベル検出器5は、中空基体7と同様にチ
ャック3と一緒に上下動するから、超音波式液面レベル
検出器5と中空基体7の下端間のレベル差しは常に一定
であり、従って、このしを制御装置12の設定値とし、
この設定値を常に保持し得るようにアクチュエータ14
を介して中空基体7内の圧力が所定に調整される。その
際、制御装置12は、超音波式液面レベル検出器5から
計測器11を経て送られて来る検出値と設定値とを比較
してサーボモータ13に所定の制御信号を送り、サーボ
モータ13によりアクチュエータ14が制御されて中空
基体7内の圧力調整が行われる。
以上、本発明に係る一実施例につい述べたが、続いて、
第3図において示されている他の実施例について述べる
と、この例においても、浸漬塗布中、中空基体7の浸漬
深さに応じて基体内圧力が、塗布液を中空基体7内に侵
入させないような圧力に調整される0図示の如く、塗布
液貯槽4に静電容量式液面レベル検出器15が装着され
ており、このレベル検出器15から計測器11を経て送
られて来る液面レベル検出値と、昇降装置1に装着され
ている位置検出器(図示されていない)から送られて来
る上下方向の位置検出値から求められる中空基体7の下
端位置検出値との一致が保持されるように中空基体7内
の圧力が調整される。
このように、本発明においては、中空基体を浸漬塗布す
るに当って、中空基体の浸漬深さに応じて基体内圧力を
、塗布液を中空基体7内に侵入させないような圧力に調
整しながら塗布するから、従来の浸漬塗布において欠点
とされていた余剰塗布塗料の除去あるいは塗布液面孔れ
の発生といった問題を一挙に解消することができ、従っ
て、品質の一定した浸漬塗布製品を得ることができる。
なお、塗布液を中空基本7内に侵入させないような圧力
に調整しながら塗布する具体的手段として、中空基体の
上端開口を閉塞するように保持するチャックに、中空基
体の下端により包囲される領域の液面レベルを検出する
液面レベル検出器を装着し、かつこの液面レベル検出器
が、中空基体の下端と同レベルの液面レベルを検出する
ように圧力調整するのが好ましく、この場合において、
液面レベル検出器は超音波式以外の、例えば、光電管式
のものを装着してもよい。
また、第3図において示されている実施例において、静
電容量式液面レベル検出器15に代えて池の液面レベル
検出器、例えば、フロート式液面レベル検出器を装着し
てもよい。
[発明の効果] 上述の如く、本発明によると、中空基体内が塗布される
のを防止し得ると共に液面部れの発生を防止し得て、均
一塗布製品を得ることができる中空基体の浸漬塗布方法
が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は中空基体の浸漬塗布装置の概略構成を示す図、
第2図は中空基体の上端開口の保持態様を示す図、第3
図は中空基体の他の浸漬塗布装置の概略構成を示す図で
ある。 3・・・チャック、4・・・塗布液貯槽、5・・・超音
波式液面レベル検出器、7・・・中空基体、15・・・
静電容量式液面レベル検出器 出願人 東レエンジニアリング株式会社第1図 (p鍬(炉?#ジ 第3図 (裔引嚢づ隆層昂に−む9レベ′・し C番9

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、中空基体の上端開口を閉塞するように保持し、かつ
    前記中空基体の下端開口側から塗布液中に浸漬して塗布
    する中空基体の浸漬塗布方法において、前記中空基体の
    浸漬深さに応じて基体内圧力を、前記塗布液を前記中空
    基体内に侵入させないような圧力に調整しながら塗布す
    ることを特徴とする中空基体の浸漬塗布方法。 2、中空基体の上端開口を閉塞するように保持し、かつ
    前記中空基体の下端開口側から塗布液中に浸漬して塗布
    する中空基体の浸漬塗布方法において、前記中空基体の
    上端開口を閉塞するように保持するチャックに、前記中
    空基体の下端により包囲される領域の液面レベルを検出
    する液面レベル検出器を装着し、かつ前記液面レベル検
    出器が、前記中空基体の下端と同レベルの液面レベルを
    検出するように前記中空基体内の圧力を調整しながら塗
    布することを特徴とする中空基体の浸漬塗布方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020006286A (ja) * 2018-07-03 2020-01-16 東レエンジニアリング株式会社 メンテナンストレイ
KR102356835B1 (ko) * 2021-09-08 2022-02-08 조두진 램프 코팅 시스템 및 이를 이용한 램프 코팅 방법

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JPH01123664A (ja) * 1987-11-10 1989-05-16 Fuji Xerox Co Ltd 浸漬塗布法

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