JPH02273723A - 液晶素子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の目的］ （産業上の利用分野） この発明は垂直配向層を必要とする液晶素子の製造方法
に関する。

（従来の技術） 垂直配向層を必要とする液晶素子の表示方式としては、
電圧制御複屈折効果（Ｅ　ＣＢ）方式、ゲストホスト（
ＧＨ）方式、ハイブリッド（ＨＡＮ）方式、動的散乱（
ＤＳ）方式、熱書き込み（ＴＡ）方式が知られている。

一般に垂直配向層を形成する手法としては、基板表面に
垂直配向処理剤溶液を塗布した後、基板を室温に放置あ
るいは加熱して、溶媒を蒸発させたり配向処理剤を重合
させたりして配向層を形成している。配向処理剤溶液の
基板表面への塗布方法としては、浸漬法、スピンナー塗
布法、スプレー塗布法が用いられ、基板表面の全面に配
向層が形成される。しかしながら、液晶素子を構成した
ときに、基板表面の接着剤が接する部分（以下シール部
と称す）、および電圧導入用電極端子の配列部分（以下
パッド部と称す）には、垂直配向層が形成されていない
ことが好ましい。

シール部に垂直配向層があると基板表面と接着剤との接
着力が低下し、液晶素子の機械的強度や耐環境性が低下
してしまう。また、パッド部に垂直配向層があると駆動
回路との接続用部材との密着性が低下したり、接続抵抗
が高くなって液晶素子の表示品位を悪くする。

そこで、シール部やパッド部に垂直配向層を形成させな
いためには、予めフォトレジストやレジストインキ等で
マスキングした後、配向処理を行うことが考えられるが
、マスキング剤の剥離に使用する剥離剤によって垂直配
向層に悪影響を与えたり、垂直配向層が破壊されてしま
うので好ましくない。

また、特開昭５７−２０８５２７公報では、配向処理剤
溶液を凸版により基板表面へ転写する方法や、マスキン
グプレートを用いて垂直配向層を形成させない部分をマ
スキングして、配向処理剤溶液をスプレー塗布する方法
が記載されているが、一般に垂直配向処理剤溶液の粘性
が低いため、前者の方法では均一な垂直配向処理剤溶液
の塗膜を得られ難く、液晶素子を構成したときに均一な
垂直配向が得られない。また後者の方法ではマスキング
プレートと基板表面との間に垂直配向処理剤溶液が浸透
してしまったり、マスキングプレートにより基板表面の
電極を傷付けてしまうことがあり好ましくない。

さらにまた、特開昭５８−１３９１２３公報では、基板
全面に配向層を形成した後不要部分をプラズマエツチン
グにより除去する方法が記載されているが、配向層を残
す部分にはレジストを用いるため、前述のように好まし
くない。

（発明が解決しようとする課題） 以上のように従来の方法では、シール部やパッド部に垂
直配向層を形成させない、あるいはシール部やパッド部
の垂直配向層を除去することで機械的強度や耐環境性の
優れた液晶素子を得ることはできるものの、液晶素子と
して必要な均一な垂直配向が得られないという問題があ
った。

この発明は、上記従来の問題点を解決するもので機械的
強度や耐環境性に優れ、かつ均一な垂直配向を与える配
向層を持つ液晶素子の製造方法を提供するものである。

［発明の構成］ （課題を解決するための手段） この発明は、少なくとも一方の基板表面に垂直配向層が
形成された２枚の基板を接着剤によって貼り合せてなる
液晶素子の製造方法において、前記基板表面の前記接着
剤が接する部分、および電圧導入用電極端子の配列部分
に有機薄膜を形成する工程と、前記有機薄膜を形成した
基板表面に垂直配向処理剤溶液を塗布する工程と、前記
垂直配向処理剤溶液を成膜化して垂直配向層を形成し、
かつ前記有機薄膜を消失させる加熱処理工程と、前記接
着剤が接する部分、および電圧導入用電極端子の配列部
分上の残渣物を除去する工程とを具備することを特徴と
する。

（作　用） 基板表面のシール部およびパッド部に有機薄膜を形成し
た後に、基板表面に垂直配向処理剤溶液を塗布すること
により、シール部およびパッド部への垂直配向処理剤溶
液の被着を防ぎ、この後、加熱処理により垂直配向層の
成膜化と有機薄膜の消失を行ない、更にシール部および
パッド部での残渣物を除去することにより、配向層に悪
影響を及ぼすことなくシール部およびパッド部には垂直
配向層のない配向処理基板が得られる。

よって、機械的強度や耐環境性に優れ、かつ均一な垂直
配向を与える配向層を持つ液晶素子を得ることができる
。

なお、有機薄膜としては比較的低温で消失可能なもの、
つまり垂直配向処理剤を成膜化する際の加熱処理の温度
で消失可能なものが用いられ、例えばニトロセルロース
薄膜が好ましい。また、垂直配向処理剤としては高温で
熱処理しても熱分解が少なく、かつ、配向規制力の強い
一塩基性カルボン酸多核金属錯体を用いることが好まし
い。

（実施例） 第１図は本発明による一実施例のＸ−Ｙマトリクス方式
の液晶素子の断面図を示す。液晶素子１は、透明ガラス
からなる２枚の基板２，３が対向配置され、各基板２．
３の表面には、夫々透明電極４，５が形成され、透明電
極４，５が形成された基板２．３の表面には、シール部
およびパッド部を除き、垂直配向層６．７が形成されて
いる。

そしてこれらの基板２，３間に液晶組成物８が配向層６
，７に接して挟持されて、液晶素子１が形成されている
。なお、９は基板２，３を貼り合わせる接着剤である。

次に第２図乃至第４図を参照して、この液晶素子１の製
造方法を説明する。

まず外形が２００５ｍ　Ｘ２Ｏ３ｍ−のガラス基板２．
３の表面に通常の方法で、ネサ膜を形成しこれをエツチ
ングして幅Ｑ、６５ｍ１．　　ピッチ０．７０ｍｍで２
００本の帯状の透明な電極４，５を形成した。次に第２
図に示すように、電極４．５を形成した基板２，３のシ
ール部１０およびパッド部１２に、ニトロセルロースを
１ｗｔ％含むＮ酢酸ブチルと修酸ジエチルの混合溶液を
筆で塗布し、８０℃で２０分間加熱乾燥させてニトロセ
ルロース薄膜１３を形成した。

この後、第３図に示すように、基板２，３の表面に一塩
基性クロム錯体から成る垂直配向処理剤溶液１５を塗布
した。次に垂直配向処理剤溶液１５を塗布した基板２．
３を酸素雰囲気中で２５０℃、３０分の加熱処理を行な
った。これにより、ニトロセルロース薄膜１３は消失し
、また同時に垂直配向処理剤溶液１５は成膜化され垂直
配向層６．７が形成された。この後、水で洗浄してシー
ル部およびパッド部における垂直配向処理剤等の残渣物
を除去し、第４図に示すような、シール部およびパッド
部には垂直配向層６，７のない基板２．３を形成した。

次に基板２の配向層６の表面に間隙材として粒径８μｍ
のプラスチックビーズを均一に散布した。

また基板３表面のシール部には接着剤９としてエポキシ
系接着剤を印刷した。次に配向層６，７が対向するよう
基板２．３を配置し、加熱して接着剤を硬化させ基板２
．３を貼り合わせた。この後、液晶組成物８を通常の方
法により注入口（図示せず）より注入し、さらにこの後
注入口を紫外線硬化樹脂で封止して、第１図に示す液晶
素子１を作製した。

以上のようにして作製された液晶素子１では、配向層と
して水平配向用ポリイミドを印刷塗布して作製された市
販の液晶素子と同程度に、接着剤の接着強度が強く、機
械的強度、耐環境性にも優れており、また、液晶分子の
配向は均一な垂直配向であった。

なお、上記実施例ではニトロセルロースを１ｗｔ％含む
Ｎ酢酸ブチルと修酸ジエチルの混合溶液を筆で塗布した
場合を示したが、塗布方法はこれに限らずフェルト、ス
ポンジ等に混合溶液を常に供給しながら塗布することも
可能である。

［発明の効果］ 本発明によれば、機械的強度や耐環境性に優れ、かつ均
一な垂直配向を与える配向層を持つ液晶素子を得ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明により作製された液晶素子の概略断面図
、第２図、第３図及び第４図は本発明の製造方法の工程
を説明するための図である。 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）少なくとも一方の基板表面に垂直配向層が形成さ
   れた２枚の基板を接着剤によって貼り合せてなる液晶素
   子の製造方法において、前記基板表面の前記接着剤が接
   する部分、および電圧導入用電極端子の配列部分に有機
   薄膜を形成する工程と、前記有機薄膜を形成した基板表
   面に垂直配向処理剤溶液を塗布する工程と、前記垂直配
   向処理剤溶液を成膜化して垂直配向層を形成し、かつ前
   記有機薄膜を消失させる加熱処理工程と、前記接着剤が
   接する部分、および電圧導入用電極端子の配列部分上の
   残渣物を除去する工程とを具備することを特徴とする液
   晶素子の製造方法。