JPH03212612A - 垂直配向型の液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
垂直配向型の液晶表示素子の製造方法Info
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- JPH03212612A JPH03212612A JP778390A JP778390A JPH03212612A JP H03212612 A JPH03212612 A JP H03212612A JP 778390 A JP778390 A JP 778390A JP 778390 A JP778390 A JP 778390A JP H03212612 A JPH03212612 A JP H03212612A
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- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、液晶層と電極層との間に垂直配向膜を有し、
無電界印加状態において液晶分子が液晶層表面に対して
直角方向に配向する垂直配向型の液晶表示素子の製造方
法に関する。
無電界印加状態において液晶分子が液晶層表面に対して
直角方向に配向する垂直配向型の液晶表示素子の製造方
法に関する。
[従来の技術]
垂直配向型の液晶表示素子の製造方法の一例を第3図に
示す。
示す。
まず、一対の透明基板1.2の主表面にITO(インデ
イラム・ティン・酸化物〉膜20をそれぞれ真空蒸着し
、ITO膜20をフォトリソ法により所定形状にパター
ニングして透明電極層3を形成しく電極層形成工程10
0)、洗浄工程101で洗浄した債、透明基板1.2の
表面及び透明電極層3の上に垂直配向膜5を被着しく垂
直配向膜形成工程103)、次に、垂直配向膜5上にシ
ール剤をスクリーン印刷した侵、100℃で20分間、
加熱乾燥して仮硬化させ、同時に、シール剤に含まれて
いるエタノールを蒸散させてシール部7を形成しくシー
ル部形成工程200) 、垂直配向膜6上にスペーサ1
1を散布しくスペーサ散布工程106)、透明基板2を
洗浄した後(洗浄工程107)、両ガラス基板1.2を
貼り合わせて内部に垂直配向型の液晶材料9を封入して
いる(液晶封入工程108)。
イラム・ティン・酸化物〉膜20をそれぞれ真空蒸着し
、ITO膜20をフォトリソ法により所定形状にパター
ニングして透明電極層3を形成しく電極層形成工程10
0)、洗浄工程101で洗浄した債、透明基板1.2の
表面及び透明電極層3の上に垂直配向膜5を被着しく垂
直配向膜形成工程103)、次に、垂直配向膜5上にシ
ール剤をスクリーン印刷した侵、100℃で20分間、
加熱乾燥して仮硬化させ、同時に、シール剤に含まれて
いるエタノールを蒸散させてシール部7を形成しくシー
ル部形成工程200) 、垂直配向膜6上にスペーサ1
1を散布しくスペーサ散布工程106)、透明基板2を
洗浄した後(洗浄工程107)、両ガラス基板1.2を
貼り合わせて内部に垂直配向型の液晶材料9を封入して
いる(液晶封入工程108)。
[発明が解決しようとする課題]
ところが、上述の工程で製造された垂直配向型の液晶表
示素子の製造方法では、液晶分子の垂直配向不良を原因
として歩留りが悪く(例えば、歩留り10%以下)、歩
留り向上が必須課題となっていた。
示素子の製造方法では、液晶分子の垂直配向不良を原因
として歩留りが悪く(例えば、歩留り10%以下)、歩
留り向上が必須課題となっていた。
本発明者らは、各種試験の結果、上記液晶分子の垂直配
向不良が、シール剤に含まれる水分や溶剤によるという
ことを突止めた。すなわち、シール剤に含まれる水分や
溶剤が垂直配向膜5に浸透して垂直配向膜5を膨潤させ
、垂直配向膜5の垂直配向性を劣化させる。
向不良が、シール剤に含まれる水分や溶剤によるという
ことを突止めた。すなわち、シール剤に含まれる水分や
溶剤が垂直配向膜5に浸透して垂直配向膜5を膨潤させ
、垂直配向膜5の垂直配向性を劣化させる。
また、シール剤をスクリーン印刷する場合には、印刷用
のスクリーンの表面に付着した付着物が垂直配向膜5の
表面に移転して垂直配向膜5の垂直配向性を劣化するこ
と、更には、スクリーンと垂直配向膜5との接触により
垂直配向膜5の垂直配向性が劣化することも考えられる
。
のスクリーンの表面に付着した付着物が垂直配向膜5の
表面に移転して垂直配向膜5の垂直配向性を劣化するこ
と、更には、スクリーンと垂直配向膜5との接触により
垂直配向膜5の垂直配向性が劣化することも考えられる
。
本発明は上記問題に鑑みなされたものであり、垂直配向
膜が優れた垂直配向性をもつ垂直配向型の液晶表示素子
の製造方法を提供することを、その解決すべき課題とし
ている。
膜が優れた垂直配向性をもつ垂直配向型の液晶表示素子
の製造方法を提供することを、その解決すべき課題とし
ている。
[課題を解決するための手段]
本発明の垂直配向型の液晶表示素子の製造方法は、一対
の基板の各一主面上の所定部位に電極層を形成する電極
層形成工程と、該電極層形成工程の後で実施され、前記
両基板の一主面上又は前記電極層上の所定部位にシール
剤を塗付した後、加熱乾燥してシール部を形成するシー
ル部形成工程と、該シール部形成工程の後で実施され、
前記両基板の少なくとも前記電極層上にそれぞれ垂直配
向膜を形成する垂直配向膜形成工程と、該垂直配向膜形
成工程の後で実施され、貼り合わされた前記両基板間に
垂直配向型の液晶材料を封入する液晶封入工程とを備え
ることを特徴としている。
の基板の各一主面上の所定部位に電極層を形成する電極
層形成工程と、該電極層形成工程の後で実施され、前記
両基板の一主面上又は前記電極層上の所定部位にシール
剤を塗付した後、加熱乾燥してシール部を形成するシー
ル部形成工程と、該シール部形成工程の後で実施され、
前記両基板の少なくとも前記電極層上にそれぞれ垂直配
向膜を形成する垂直配向膜形成工程と、該垂直配向膜形
成工程の後で実施され、貼り合わされた前記両基板間に
垂直配向型の液晶材料を封入する液晶封入工程とを備え
ることを特徴としている。
垂直配向型の液晶表示素子として、無電界時に液晶表示
素子の厚さ方向に液晶分子が配列する、例えば、PC十
型GH−LCD、HAN型LCDなどに採用することが
できる。
素子の厚さ方向に液晶分子が配列する、例えば、PC十
型GH−LCD、HAN型LCDなどに採用することが
できる。
垂直配向膜として、例えば、5−51 (商品名二大日
本塗料株式会社製)などを採用することができる。
本塗料株式会社製)などを採用することができる。
[発明の効果]
上述したように、本発明の垂直配向型の液晶表示素子の
製造方法は、シール剤の塗付後、加熱乾燥してシール部
を形成し、その後、垂直配向膜を被着しているので、シ
ール剤に含まれる水分や溶剤を垂直配向膜の被着前に蒸
散させることができ、シール部に含まれていた水分や溶
剤か垂直配向膜に浸透して膨潤させ、その垂直配向性を
劣化させるのを防止する。
製造方法は、シール剤の塗付後、加熱乾燥してシール部
を形成し、その後、垂直配向膜を被着しているので、シ
ール剤に含まれる水分や溶剤を垂直配向膜の被着前に蒸
散させることができ、シール部に含まれていた水分や溶
剤か垂直配向膜に浸透して膨潤させ、その垂直配向性を
劣化させるのを防止する。
また、垂直配向膜形成工程から直ちに液晶封入工程に進
行して、その間にシール部形成工程のような介在工程を
もたないので、このような介在工程に随伴する垂直配向
膜の汚染がなく、垂直配向不良面の汚染に伴う垂直配向
性の劣化を低減することも可能となる。
行して、その間にシール部形成工程のような介在工程を
もたないので、このような介在工程に随伴する垂直配向
膜の汚染がなく、垂直配向不良面の汚染に伴う垂直配向
性の劣化を低減することも可能となる。
したがって、本発明の垂直配向型の液晶表示素子の製造
方法によれば、全面にわたって優れた垂直配向性をもつ
垂直配向型の液晶表示素子の製造が可能となる。
方法によれば、全面にわたって優れた垂直配向性をもつ
垂直配向型の液晶表示素子の製造が可能となる。
[実施例]
まず、本発明の製造方法により製造される垂直配向型の
液晶表示素子の一例を第2図に示す。
液晶表示素子の一例を第2図に示す。
この垂直配向型の液晶表示素子の製造方法は、約10μ
mの間隔を隔てて対向配置された一対の透明基板(本発
明でいう基板)1.2を有しており、透明基板1.2の
主表面に所定形状の透明電極@3.4が形成されている
。透明基板1.2の主表面上及び透明電極層3.4の全
面にわたって垂直配向膜5.6が被着されており、そし
て、シル部7が透明基板1.2間の液晶封入空間Sを密
閉している。液晶封入空間S内に間隙保持用のスペーサ
11、液晶材料9、色素材料10が充填されている。
mの間隔を隔てて対向配置された一対の透明基板(本発
明でいう基板)1.2を有しており、透明基板1.2の
主表面に所定形状の透明電極@3.4が形成されている
。透明基板1.2の主表面上及び透明電極層3.4の全
面にわたって垂直配向膜5.6が被着されており、そし
て、シル部7が透明基板1.2間の液晶封入空間Sを密
閉している。液晶封入空間S内に間隙保持用のスペーサ
11、液晶材料9、色素材料10が充填されている。
ここで、透明基板1.2として厚さ1.1mm、長辺2
00mm、短辺7Qmmのガラス基板を用い。透明電極
3.4はITO(In203−3n02)を素材として
おり、0.05μmの厚さをもつ。垂直配向膜5.6は
有機チタンを含む551(商品名二大日本塗料株式会社
製)を素材としており、数人の厚さをもつ。液晶材料9
として負の誘電異方性ネマチック液晶であるZLI−2
806(商品名:メルク株式会社製)を用い、色素材料
10として黒色のZLI−3200(商品名:メルク株
式会社製〉を用い、シール部7に用いるシール剤として
DSESlolo (商品名二大日本塗料株式会社製)
が使用されまた、スペーサ11としてミクロバール(商
品名:積水ファインケミカル株式会社製)を用いた。
00mm、短辺7Qmmのガラス基板を用い。透明電極
3.4はITO(In203−3n02)を素材として
おり、0.05μmの厚さをもつ。垂直配向膜5.6は
有機チタンを含む551(商品名二大日本塗料株式会社
製)を素材としており、数人の厚さをもつ。液晶材料9
として負の誘電異方性ネマチック液晶であるZLI−2
806(商品名:メルク株式会社製)を用い、色素材料
10として黒色のZLI−3200(商品名:メルク株
式会社製〉を用い、シール部7に用いるシール剤として
DSESlolo (商品名二大日本塗料株式会社製)
が使用されまた、スペーサ11としてミクロバール(商
品名:積水ファインケミカル株式会社製)を用いた。
この垂直配向型液晶表示素子の製造方法を以下に説明す
る。
る。
まず一対の透明基板1.2の表面にITO膜20を真空
蒸着し、ざらにこのITO膜20を必要なパターンにエ
ツチングして所望形状の透明電極3.4を形成した(電
極層形成工程100)。
蒸着し、ざらにこのITO膜20を必要なパターンにエ
ツチングして所望形状の透明電極3.4を形成した(電
極層形成工程100)。
次いで上記透明基板1.2を、アルカリ性洗剤、中性洗
剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、フレオ
ン−113(商品名:デュポン株式会社製)を洗浄剤と
して順に用いて、計30〜40分洗浄した(洗浄工程1
01)。
剤、純水、IPA(イソプロピルアルコール)、フレオ
ン−113(商品名:デュポン株式会社製)を洗浄剤と
して順に用いて、計30〜40分洗浄した(洗浄工程1
01)。
次に、透明基板1の主表面にシール剤をスクリーン印刷
し、100’Cで20分間、加熱処理することにより仮
硬化したシール部7を形成し、同時に、シール剤に含ま
れているエタノールを蒸散させた(シール部形成工程1
02)。
し、100’Cで20分間、加熱処理することにより仮
硬化したシール部7を形成し、同時に、シール剤に含ま
れているエタノールを蒸散させた(シール部形成工程1
02)。
一方、透明基板2の表面上に垂直配向剤をスピンナーに
より塗布し、これを200℃で30分間、加熱処理して
乾燥させ垂直配向膜6を形成した(垂直配向膜形成工程
103) 次に、シール部7が形成された透明基板1と、垂直配向
膜6が被着された透明基板2をフレオン−113にディ
ッピングし、その後、フレオン−113の蒸気にさらし
ながら乾燥させた。このディッピングから乾燥が終了す
るまでの浸漬、乾燥時間は2〜3分である(洗浄工程1
04)。
より塗布し、これを200℃で30分間、加熱処理して
乾燥させ垂直配向膜6を形成した(垂直配向膜形成工程
103) 次に、シール部7が形成された透明基板1と、垂直配向
膜6が被着された透明基板2をフレオン−113にディ
ッピングし、その後、フレオン−113の蒸気にさらし
ながら乾燥させた。このディッピングから乾燥が終了す
るまでの浸漬、乾燥時間は2〜3分である(洗浄工程1
04)。
次に、シール部7が被着された透明基板1の表面上に垂
直配向剤をスピンナーにより塗布し、これを100℃、
5分の加熱処理で仮乾燥させて垂直配向膜5を形成した
(垂直配向膜形成工程105)。
直配向剤をスピンナーにより塗布し、これを100℃、
5分の加熱処理で仮乾燥させて垂直配向膜5を形成した
(垂直配向膜形成工程105)。
一方、透明基板2に被着された垂直配向膜6上にスペー
サ11を湿式にて散布しくスペーサ散布工程106)、
その後、透明基板2をフレオン=113にディッピング
し、その後、フレオン−113の蒸気にざらしながら乾
燥させて、スペーサ11に含まれる溶剤を洗浄する。こ
のディッピングから乾燥が終了するまでの浸漬、乾燥時
間は1分である(洗浄工程107〉。
サ11を湿式にて散布しくスペーサ散布工程106)、
その後、透明基板2をフレオン=113にディッピング
し、その後、フレオン−113の蒸気にざらしながら乾
燥させて、スペーサ11に含まれる溶剤を洗浄する。こ
のディッピングから乾燥が終了するまでの浸漬、乾燥時
間は1分である(洗浄工程107〉。
次に、上記透明基板1.2を重ねてシール部7によって
貼り合わせ後、200℃、2時間の条件で加熱してシー
ル部7を硬化させ、次に、透明基板1.2の間の液晶封
入空間S内に液晶材料9及び色素材料10@:混合した
ものを注入して垂直配向型の液晶表示セルを製造した(
液晶封入工程108)。
貼り合わせ後、200℃、2時間の条件で加熱してシー
ル部7を硬化させ、次に、透明基板1.2の間の液晶封
入空間S内に液晶材料9及び色素材料10@:混合した
ものを注入して垂直配向型の液晶表示セルを製造した(
液晶封入工程108)。
本実施例の製造方法により製造された液晶層表示素子で
は、総製造数39台中、28台と全体の約72%も均一
な垂直配向を得ることができた。
は、総製造数39台中、28台と全体の約72%も均一
な垂直配向を得ることができた。
方、第3図に示す従来方法により製造された液晶層表示
素子では、総製造数336台中、全面均一な垂直配向を
得ることができたのは53台と全体の約16%にしか過
ぎなかった。
素子では、総製造数336台中、全面均一な垂直配向を
得ることができたのは53台と全体の約16%にしか過
ぎなかった。
なお、電極層形成工程100、洗浄工程101、垂直配
向膜6形成工程103、洗浄工程104、スペーサ散布
工程106、洗浄工程107、液晶封入工程108は第
3図に示す従来の製造方法と同一である。
向膜6形成工程103、洗浄工程104、スペーサ散布
工程106、洗浄工程107、液晶封入工程108は第
3図に示す従来の製造方法と同一である。
第1図は本発明の垂直配向型の液晶表示素子の製造方法
を示す工程図、第2図は本発明の製造方法により製造さ
れた液晶層表示素子の断面図である。第3図は従来の垂
直配向型の液晶表示素子の製造方法を示す工程図である
。
を示す工程図、第2図は本発明の製造方法により製造さ
れた液晶層表示素子の断面図である。第3図は従来の垂
直配向型の液晶表示素子の製造方法を示す工程図である
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一対の基板の各一主面上の所定部位に電極層を形成する
電極層形成工程と、 該電極層形成工程の後で実施され、前記両基板の一主面
上又は前記電極層上の所定部位にシール剤を塗付した後
、加熱乾燥してシール部を形成するシール部形成工程と
、 該シール部形成工程の後で実施され、前記両基板の少な
くとも前記電極層上にそれぞれ垂直配向膜を形成する垂
直配向膜形成工程と、 該垂直配向膜形成工程の後で実施され、貼り合わされた
前記両基板間に垂直配向型の液晶を封入する液晶封入工
程と、 を備えることを特徴とする垂直配向型の液晶表示素子の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP778390A JPH03212612A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | 垂直配向型の液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP778390A JPH03212612A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | 垂直配向型の液晶表示素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03212612A true JPH03212612A (ja) | 1991-09-18 |
Family
ID=11675275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP778390A Pending JPH03212612A (ja) | 1990-01-17 | 1990-01-17 | 垂直配向型の液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03212612A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006109586A1 (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | 導電層を備えた基板、表示装置および導電層を備えた基板の製造方法 |
-
1990
- 1990-01-17 JP JP778390A patent/JPH03212612A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006109586A1 (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | 導電層を備えた基板、表示装置および導電層を備えた基板の製造方法 |
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