JPS6113229A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS6113229A JPS6113229A JP13476184A JP13476184A JPS6113229A JP S6113229 A JPS6113229 A JP S6113229A JP 13476184 A JP13476184 A JP 13476184A JP 13476184 A JP13476184 A JP 13476184A JP S6113229 A JPS6113229 A JP S6113229A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica coating
- insulating film
- liquid crystal
- plate
- crystal display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133351—Manufacturing of individual cells out of a plurality of cells, e.g. by dicing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133345—Insulating layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、液晶表示素子の製造方法に、よシ詳細には、
絶縁膜を形成するためのシリカコーティング工程に関す
る。
絶縁膜を形成するためのシリカコーティング工程に関す
る。
〈従来技術〉
絶縁膜は、液晶表示素子を構成する−りの要素である。
第４図は、液晶表示素子の図式的な断面図である。ガラ
ス基板１の上に電極２としてＩＴＯ膜が形成される。絶
縁膜３が、さらにＩＴＯ電極２の上に形成される。液晶
４は、こうしてＩＴＯ電極２を備えた二枚のガラス基板
ｌを向いあわせ、かつ、側面をシール５．５で封じて形
成した空間に注入される。なお、絶縁膜３には、配向処
理が施こされている。両電極２．２の間に電圧を印加す
ることにより、液晶４の配向が変化する。これによシ、
液晶表示素子は、表示の機能を果す。
ス基板１の上に電極２としてＩＴＯ膜が形成される。絶
縁膜３が、さらにＩＴＯ電極２の上に形成される。液晶
４は、こうしてＩＴＯ電極２を備えた二枚のガラス基板
ｌを向いあわせ、かつ、側面をシール５．５で封じて形
成した空間に注入される。なお、絶縁膜３には、配向処
理が施こされている。両電極２．２の間に電圧を印加す
ることにより、液晶４の配向が変化する。これによシ、
液晶表示素子は、表示の機能を果す。
ところで、絶縁膜の素材としては、シリカコーティング
材料（たとえば、東京応化０ＣＤ）が用いられている。
材料（たとえば、東京応化０ＣＤ）が用いられている。
このシリカコーティング材料をＩＴＱ電極パターン付の
ガラス基板に塗布するシ。
ガラス基板に塗布するシ。
リカコーティング工程として、従来は、第５図に示す一
連の工程フローからなる浸漬方式を用いている０この方
式においては、■ＴＯ電極２を形成したガラス基板ｌの
上に、まず、シリカを塗布するべきでない部分にレジス
トを印刷する（工程１１）。次に、シリカコーティング
材料の液の中にガラス基板ｌを浸漬する（工程１２）。
連の工程フローからなる浸漬方式を用いている０この方
式においては、■ＴＯ電極２を形成したガラス基板ｌの
上に、まず、シリカを塗布するべきでない部分にレジス
トを印刷する（工程１１）。次に、シリカコーティング
材料の液の中にガラス基板ｌを浸漬する（工程１２）。
次に、ガラス基板１上に形成したシリカコーティング材
料を仮乾燥させ（工程１３）、レジストヲ剥離しく工程
■４）、洗浄する（工程１５）０こうしてガラス基板上
に形成した絶縁膜は、次の工程で、配向処理され、焼成
される。
料を仮乾燥させ（工程１３）、レジストヲ剥離しく工程
■４）、洗浄する（工程１５）０こうしてガラス基板上
に形成した絶縁膜は、次の工程で、配向処理され、焼成
される。
ところで、上記の７０−では、シリカコーティング材料
を形成する工程１２．１３の前後の、レジストの塗布と
剥離とのだめの本質的でない諸工程において、労力と時
間とが大幅に費やされてきた。さらに、浸漬装置自体も
、大量の液を必要とするため、その品質の維持管理に手
間がかけられていた。
を形成する工程１２．１３の前後の、レジストの塗布と
剥離とのだめの本質的でない諸工程において、労力と時
間とが大幅に費やされてきた。さらに、浸漬装置自体も
、大量の液を必要とするため、その品質の維持管理に手
間がかけられていた。
〈発明の目的〉
本発明の目的は、液晶表示素子の製造方法において、簡
略なシリカコーティング工程からなる製造方法を提供す
ることである０ 〈発明の構成〉 絶縁膜を形成するだめのシリカコーティング工程を含む
液晶表示素子の製造方法において、絶縁膜のパターンを
凸部とする版のこの凸部に絶縁膜の素材であるシリカコ
ーティング材料を塗布し、ガラス基板上に上記の版を接
することにょシ、ガラス基板上にシリカコーティング材
料のパターンを転写することを特徴とする。さらに、上
記シリカコーティング材料が、ＳｉＯｘ固形分と高沸点
溶媒と増粘剤カニら成るものであることを特徴とする〇
〈実施例〉 第１図−第３図を用いて、本発明の実施例を図式的に示
す。コーティング材料の塗布は、ローラー２］を用いる
オフセット印刷方式により行なう。
略なシリカコーティング工程からなる製造方法を提供す
ることである０ 〈発明の構成〉 絶縁膜を形成するだめのシリカコーティング工程を含む
液晶表示素子の製造方法において、絶縁膜のパターンを
凸部とする版のこの凸部に絶縁膜の素材であるシリカコ
ーティング材料を塗布し、ガラス基板上に上記の版を接
することにょシ、ガラス基板上にシリカコーティング材
料のパターンを転写することを特徴とする。さらに、上
記シリカコーティング材料が、ＳｉＯｘ固形分と高沸点
溶媒と増粘剤カニら成るものであることを特徴とする〇
〈実施例〉 第１図−第３図を用いて、本発明の実施例を図式的に示
す。コーティング材料の塗布は、ローラー２］を用いる
オフセット印刷方式により行なう。
絶縁膜のパターンｆｔＡＰＲ版２２に作成する。
ＡＰＲ版２２の凸部２２ａ、２２ａ、２２ａが、ηリカ
コーティング材料を塗布すべき部分である。このＡＰＲ
版２２をローラー２１の表面に取シ付ける。図示しない
もう一個のローラーによって、ＡＰＲ版の凸部２２ａ、
２２ａ、２２ａにシリカコーティング材料２８．２８．
２８を塗布する（第１図の工程１６）。この状態でのロ
ーラー２１とＡＰＲ版２２を、第２図の右側に示す。
コーティング材料を塗布すべき部分である。このＡＰＲ
版２２をローラー２１の表面に取シ付ける。図示しない
もう一個のローラーによって、ＡＰＲ版の凸部２２ａ、
２２ａ、２２ａにシリカコーティング材料２８．２８．
２８を塗布する（第１図の工程１６）。この状態でのロ
ーラー２１とＡＰＲ版２２を、第２図の右側に示す。
印刷に用いる７９カコーテイング材料としては、従来の
浸漬用シリカコーティング材料は、低沸点溶媒を用いて
いるため、印刷時に揮発し安定性を欠くので、使用でき
ない。
浸漬用シリカコーティング材料は、低沸点溶媒を用いて
いるため、印刷時に揮発し安定性を欠くので、使用でき
ない。
本発明において使用したシリカコーティング材料は、従
来のシリカコーティング材料の溶媒（、エタノール等）
をブチルセルソルブ、ノルマルメチルピロリドン、ジメ
チルアセトアミド等の高沸点溶媒に置換し、さらに上記
材料中に、粘度アップのため、下記の増粘剤を添加、目
標印刷膜厚に対応した粘度に設定（０，１〜５重量％添
加）したものである。
来のシリカコーティング材料の溶媒（、エタノール等）
をブチルセルソルブ、ノルマルメチルピロリドン、ジメ
チルアセトアミド等の高沸点溶媒に置換し、さらに上記
材料中に、粘度アップのため、下記の増粘剤を添加、目
標印刷膜厚に対応した粘度に設定（０，１〜５重量％添
加）したものである。
・増粘剤
名称；
Ｈｙｄｒｏｘｙ ｐｒｏｐｙｌ ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ−
日本曹達製。
日本曹達製。
（セルロースに酸化プロピレンを反応させてできる非水
イオン系繊維素誘導体） 構造１ Ｒ：ＨまたはＣＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３） ０：１ｍ
Ｈ基を表わし、ｎＵ１以上の整継〇 上記高沸点溶媒及び増粘剤を用いたことにより印刷時の
揮発を防ぐとともに、粘度も印刷に適したものとなった
。
イオン系繊維素誘導体） 構造１ Ｒ：ＨまたはＣＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３） ０：１ｍ
Ｈ基を表わし、ｎＵ１以上の整継〇 上記高沸点溶媒及び増粘剤を用いたことにより印刷時の
揮発を防ぐとともに、粘度も印刷に適したものとなった
。
基台２４の上に、ＩＴＯ電極２，２．２のパターンを形
成した基板１を固定する。次に゛、ローラー２１を反時
計方向に回転させながら左方向へ進行させると、ＡＰＲ
版の凸部２２ａ＋ ２２ａ、２２ａのパターンが、第３
図に示すように絶縁膜３，８゜３として転写される（第
１図の工程１７）ｏ ’ ′液晶表示素子の製造工
程において、このシリカコーティング工程以外では、従
来と同じ方法を用いる。
成した基板１を固定する。次に゛、ローラー２１を反時
計方向に回転させながら左方向へ進行させると、ＡＰＲ
版の凸部２２ａ＋ ２２ａ、２２ａのパターンが、第３
図に示すように絶縁膜３，８゜３として転写される（第
１図の工程１７）ｏ ’ ′液晶表示素子の製造工
程において、このシリカコーティング工程以外では、従
来と同じ方法を用いる。
具体例を以下に示す。
シリカコーティング材料
ＳｉＯｘ固形分・・・約１０ｗｔチ
溶媒・・・ブチルセルソルブ
増粘剤添加量・・弓、θ〜１．５ｗｔ％粘 度・・・約
２００ ｃｐｓ 作成状況 印刷膜厚・・・３００〜４００Ａ 印刷表面状？・・良好（浸漬方式絶縁膜と同レベル） 液晶表示素子配向状態・・・良好 米表面段差針（ＩＸＩＯ５レンジ）にて確認〈発明の効
果〉 本発明によシ、絶縁膜の特性を劣化させることなく、シ
リカコーティング工程を大幅に簡略化できる。さらに、
工程の清浄化およびコストダウンをもたらすことができ
る。
２００ ｃｐｓ 作成状況 印刷膜厚・・・３００〜４００Ａ 印刷表面状？・・良好（浸漬方式絶縁膜と同レベル） 液晶表示素子配向状態・・・良好 米表面段差針（ＩＸＩＯ５レンジ）にて確認〈発明の効
果〉 本発明によシ、絶縁膜の特性を劣化させることなく、シ
リカコーティング工程を大幅に簡略化できる。さらに、
工程の清浄化およびコストダウンをもたらすことができ
る。
実施例において、コーティング材料を塗布する前と後の
状態を示す図式的な断面図である。 第４図は、液晶表示素子の図式的な断面図である０ 第５図は、従来の浸漬方式によるシリカコーティング工
程の工程図である。 １・・・ガラス基板、 ２・・・電極、ａ、 ａ、
Ｓ・・・絶縁膜、 ４・・・液晶、５・・・シール材
、２１・・・ローラー、２２・・・絶縁膜のパターンを
凸部とした版、２２ ａ＋ ２２ Ｂ ＋ ２２ ａ・
・・凸部、２３．２８．２８・・・シリカコーティング
材料。 代理人 弁理士 福 士 愛 彦（、他２名）第４図 第５図 手続補正書 昭和５９年８ 月３０日
状態を示す図式的な断面図である。 第４図は、液晶表示素子の図式的な断面図である０ 第５図は、従来の浸漬方式によるシリカコーティング工
程の工程図である。 １・・・ガラス基板、 ２・・・電極、ａ、 ａ、
Ｓ・・・絶縁膜、 ４・・・液晶、５・・・シール材
、２１・・・ローラー、２２・・・絶縁膜のパターンを
凸部とした版、２２ ａ＋ ２２ Ｂ ＋ ２２ ａ・
・・凸部、２３．２８．２８・・・シリカコーティング
材料。 代理人 弁理士 福 士 愛 彦（、他２名）第４図 第５図 手続補正書 昭和５９年８ 月３０日
Claims (1)
- （１）絶縁膜を形成するためのシリカコーティング工程
を含む液晶表示素子の製造方法において、絶縁膜のパタ
ーンを凸部とする版のこの凸部に絶縁膜の素材であるシ
リカコーティング材料を塗布し、ガラス基板上に上記の
版を接することにより、ガラス基板上にシリカコーティ
ング材料のパターンを転写することを特徴とする液晶表
示素子の製造方法であって、上記シリカコーティング材
料は、ＳｉＯｘ固形分と高沸点溶媒と増粘剤から成るも
のであることを特徴とする、液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13476184A JPS6113229A (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13476184A JPS6113229A (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 液晶表示素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6113229A true JPS6113229A (ja) | 1986-01-21 |
Family
ID=15135941
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13476184A Pending JPS6113229A (ja) | 1984-06-28 | 1984-06-28 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6113229A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100662784B1 (ko) * | 2004-04-30 | 2007-01-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자의 블랙매트릭스 형성방법 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5393399A (en) * | 1977-01-28 | 1978-08-16 | Hitachi Ltd | Glass paste for printing |
| JPS55149919A (en) * | 1979-05-11 | 1980-11-21 | Hitachi Ltd | Electrode substrate |
| JPS5942518A (ja) * | 1982-09-02 | 1984-03-09 | Alps Electric Co Ltd | 液晶表示装置の製法 |
-
1984
- 1984-06-28 JP JP13476184A patent/JPS6113229A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5393399A (en) * | 1977-01-28 | 1978-08-16 | Hitachi Ltd | Glass paste for printing |
| JPS55149919A (en) * | 1979-05-11 | 1980-11-21 | Hitachi Ltd | Electrode substrate |
| JPS5942518A (ja) * | 1982-09-02 | 1984-03-09 | Alps Electric Co Ltd | 液晶表示装置の製法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100662784B1 (ko) * | 2004-04-30 | 2007-01-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자의 블랙매트릭스 형성방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102260437B (zh) | 用于黑矩阵的油墨以及使用该油墨制造基板的方法 | |
| JP4921948B2 (ja) | 薄膜パターンの製造装置及び方法 | |
| JPS6113229A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JPS5853479A (ja) | 薄膜の製造方法 | |
| JPS6139913B2 (ja) | ||
| JPS60159825A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JPS5855489B2 (ja) | 液晶表示セルの製造方法 | |
| JPH0475025A (ja) | Ｌｃｄパネル | |
| JPH01262502A (ja) | カラーフィルタ上への保護層の形成方法 | |
| JP2004246092A (ja) | 液晶セルとその製造方法 | |
| JPS58211122A (ja) | 液晶表示セル用基板の配向処理方法 | |
| JP2002090740A (ja) | 液晶基板の製造装置 | |
| JPH02273723A (ja) | 液晶素子の製造方法 | |
| KR840002447B1 (ko) | 액정(液晶)표시체용 전극판의 제조방법 | |
| JPS61186931A (ja) | 液晶素子 | |
| JPS63121819A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JPH0475026A (ja) | 強誘電性液晶表示素子およびその製造方法 | |
| JPH03212612A (ja) | 垂直配向型の液晶表示素子の製造方法 | |
| JPH01249171A (ja) | 無機酸化物膜を有する基体の製造方法 | |
| JPS6279422A (ja) | 液晶表示パネルの製造方法 | |
| JPH0283531A (ja) | 液晶表示装置 | |
| RU2020641C1 (ru) | Способ изготовления блока индикатора | |
| JPH01267517A (ja) | カラー液晶表示装置用電極板 | |
| JPS63101825A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JPH02266329A (ja) | 液晶表示体の製造方法 |