JPH02271547A - フィルムキャリヤ型半導体装置 - Google Patents
フィルムキャリヤ型半導体装置Info
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- JPH02271547A JPH02271547A JP1094016A JP9401689A JPH02271547A JP H02271547 A JPH02271547 A JP H02271547A JP 1094016 A JP1094016 A JP 1094016A JP 9401689 A JP9401689 A JP 9401689A JP H02271547 A JPH02271547 A JP H02271547A
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- film carrier
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 56
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 54
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 54
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 abstract 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 238000004382 potting Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/74—Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
- H01L24/79—Apparatus for Tape Automated Bonding [TAB]
-
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/50—Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はフィルムキャリヤ型半導体装置に関する。
従来のフィルムキャリヤ型半導体装置は、第4図(a)
、(b)に示すように、搬送及び位置決め用のスプロケ
ットホール1と、素子搭載用の開孔部3を有するポリイ
ミド等の絶縁フィルム上に銅等の金属箔を接着し、前記
金属箔を選択的にエツチングして開孔部3の内側に先端
を突出して配置したリード4及びリード4に接続した電
気選別のためのパッド5を形成したフィルムキャリヤテ
ープ6と、あらかじめ電極端子上に金属突起物であるバ
ンプ7を設けた半導体チップ2とを準備し、次にフィル
ムキャリヤテープ6のリード4と半導体チップ2のバン
ブ7とを熱圧着法または共晶法等によりインナーリード
ボンディングし、フィルムキャリヤテープ6の電気選別
用パッド5の上に測定用探針を接触させて電気的選別や
バイアス試験を実施する。ここで、リード4の変形防止
用として絶縁フィルムの枠であるサスペンダー8をあら
かじめフィルムキャリヤテープ6に設け、第5図に示す
ように、信頼性向上及び機械的保護のため樹脂膜9をボ
ッティングして樹脂封止を行なう。
、(b)に示すように、搬送及び位置決め用のスプロケ
ットホール1と、素子搭載用の開孔部3を有するポリイ
ミド等の絶縁フィルム上に銅等の金属箔を接着し、前記
金属箔を選択的にエツチングして開孔部3の内側に先端
を突出して配置したリード4及びリード4に接続した電
気選別のためのパッド5を形成したフィルムキャリヤテ
ープ6と、あらかじめ電極端子上に金属突起物であるバ
ンプ7を設けた半導体チップ2とを準備し、次にフィル
ムキャリヤテープ6のリード4と半導体チップ2のバン
ブ7とを熱圧着法または共晶法等によりインナーリード
ボンディングし、フィルムキャリヤテープ6の電気選別
用パッド5の上に測定用探針を接触させて電気的選別や
バイアス試験を実施する。ここで、リード4の変形防止
用として絶縁フィルムの枠であるサスペンダー8をあら
かじめフィルムキャリヤテープ6に設け、第5図に示す
ように、信頼性向上及び機械的保護のため樹脂膜9をボ
ッティングして樹脂封止を行なう。
上記のようなフィルムキャリヤ型半導体装置をプリント
基板上に実装する場合は、第6図に示すように、リード
4を所望の長さに切断し、ついでプリント基板11上に
接着剤10を用いて半導体チップ2を固着し、リード4
をプリント基板上のポンディングパッド12にアウター
リードボンディングする。
基板上に実装する場合は、第6図に示すように、リード
4を所望の長さに切断し、ついでプリント基板11上に
接着剤10を用いて半導体チップ2を固着し、リード4
をプリント基板上のポンディングパッド12にアウター
リードボンディングする。
これらのフィルムキャリヤ型半導体装置は、ボンディン
グがリード数と無関係に一度で可能であるためボンディ
ングスピードが速いこと、フィルムキャリヤテープを使
用するため作業の自動化が容易である等の利点を有して
いる。
グがリード数と無関係に一度で可能であるためボンディ
ングスピードが速いこと、フィルムキャリヤテープを使
用するため作業の自動化が容易である等の利点を有して
いる。
上述した従来のフィルムキャリヤ型半導体装置は、一般
に液状の樹脂を半導体チップ表面に滴下するボッティン
グ法によって樹脂封止されることが多いため、第5図に
示すように、半導体チップ表面のみを封止するか、また
はサスペンダー8を樹脂ダムとして半導体チップ全体を
封止することが一般的である。ここで、特に高密度実装
を要求される場合は、第6図に示すように、半導体チッ
プ周縁近傍でリードを成形してプリント基板に実装する
ため、半導体チップ表面のみを樹脂封止する形態を選択
するが、樹脂ボッティングの際、リード間に毛細管現象
により樹脂が入り込み、実装時のリード成形時にリード
間に存在する樹脂膜が影響してリード成形が正確にでき
ないという欠点がある。なお、半導体チップ表面を下に
して実装するフェイスダウンボンディングの場合、実装
後の樹脂ボッティングが困難のため、特に問題である。
に液状の樹脂を半導体チップ表面に滴下するボッティン
グ法によって樹脂封止されることが多いため、第5図に
示すように、半導体チップ表面のみを封止するか、また
はサスペンダー8を樹脂ダムとして半導体チップ全体を
封止することが一般的である。ここで、特に高密度実装
を要求される場合は、第6図に示すように、半導体チッ
プ周縁近傍でリードを成形してプリント基板に実装する
ため、半導体チップ表面のみを樹脂封止する形態を選択
するが、樹脂ボッティングの際、リード間に毛細管現象
により樹脂が入り込み、実装時のリード成形時にリード
間に存在する樹脂膜が影響してリード成形が正確にでき
ないという欠点がある。なお、半導体チップ表面を下に
して実装するフェイスダウンボンディングの場合、実装
後の樹脂ボッティングが困難のため、特に問題である。
一般に、半導体チップ表面のみに行う樹脂封止は樹脂の
表面張力を利用して行なうため、半導体チップの周縁部
まで樹脂が到達するので、特に低粘度液状樹脂を使用す
る場合は容易にリード間に樹脂が入り込む。例えば、ボ
ッティング樹脂としては一般的なシリコーン樹脂を用い
ると、粘度が約1000cpの場合、ボッティング後数
分間で半導体チップ周縁部にまで広がって目的が達せら
れるが、樹脂が半導体チップ周縁部に到達後、リード間
に入り込み、数分間以内にリード間を約200〜500
μm程度の長さに埋めてしまう。
表面張力を利用して行なうため、半導体チップの周縁部
まで樹脂が到達するので、特に低粘度液状樹脂を使用す
る場合は容易にリード間に樹脂が入り込む。例えば、ボ
ッティング樹脂としては一般的なシリコーン樹脂を用い
ると、粘度が約1000cpの場合、ボッティング後数
分間で半導体チップ周縁部にまで広がって目的が達せら
れるが、樹脂が半導体チップ周縁部に到達後、リード間
に入り込み、数分間以内にリード間を約200〜500
μm程度の長さに埋めてしまう。
さらに、樹脂の硬化は一般に約150℃で1時間程度の
ベークにより行なわれるが、ベーク中にさらに同程度の
長さを埋めてしまう。これに対し、粘度を約10000
cp程度にした場合には、リード間に入り込むまでの時
間は大幅に延長され、ベーク中での広がりもほとんどみ
られないが、逆にボッティングした樹脂がほとんど広が
らず、半導体チップ表面を封止するという本来の目的が
達せられないという欠点がある。一般に樹脂を広げるた
めに、半導体チップ表面の数ケ所に樹脂をボッティング
する方法が用いられるが、高粘度樹脂の場合は少量のボ
ッティングを行なうことが困難であり、この場合におい
ても適当なボッティング条件が求めにくいという欠点が
ある。
ベークにより行なわれるが、ベーク中にさらに同程度の
長さを埋めてしまう。これに対し、粘度を約10000
cp程度にした場合には、リード間に入り込むまでの時
間は大幅に延長され、ベーク中での広がりもほとんどみ
られないが、逆にボッティングした樹脂がほとんど広が
らず、半導体チップ表面を封止するという本来の目的が
達せられないという欠点がある。一般に樹脂を広げるた
めに、半導体チップ表面の数ケ所に樹脂をボッティング
する方法が用いられるが、高粘度樹脂の場合は少量のボ
ッティングを行なうことが困難であり、この場合におい
ても適当なボッティング条件が求めにくいという欠点が
ある。
本発明のフィルムキャリヤ型半導体装置は、帯状の絶縁
フィルムの中央部に設けた開孔部の内側に先端部を突出
して配列して設けたリードと、前記絶縁フィルムの両側
端部近傍に設けた搬送及び位置決め用スプロケットホー
ルとを有するフィルムキャリヤテープと、前記リードの
先端部に電極を接続して搭載した半導体チップとを有す
るフィルムキャリヤ型半導体装置において、前記半導体
チップの表面の周縁部に設けた樹脂止めダムを備えてい
る。
フィルムの中央部に設けた開孔部の内側に先端部を突出
して配列して設けたリードと、前記絶縁フィルムの両側
端部近傍に設けた搬送及び位置決め用スプロケットホー
ルとを有するフィルムキャリヤテープと、前記リードの
先端部に電極を接続して搭載した半導体チップとを有す
るフィルムキャリヤ型半導体装置において、前記半導体
チップの表面の周縁部に設けた樹脂止めダムを備えてい
る。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図(a)、(b)は本発明の第1の実施例の平面図
及びA−A’線断面図である。帯状の絶縁フィルムの両
側端部近傍に搬送及び位置決め用スプロケットホール1
を設け、絶縁フィルムの中央に設けた開孔部3の内側に
先端部を突出して配列し設けたり−ド4と、リード4に
接続して設けた電気選択用バッド5を有するフィルムキ
ャリャテープ6のリード4と半導体チップ2のバンブ7
がボンディングされており、半導体チップ2の表面に枠
状にメツキ配線13を設けて半導体チップの表面を封止
する樹脂膜9の樹脂ダムとして使用される。
及びA−A’線断面図である。帯状の絶縁フィルムの両
側端部近傍に搬送及び位置決め用スプロケットホール1
を設け、絶縁フィルムの中央に設けた開孔部3の内側に
先端部を突出して配列し設けたり−ド4と、リード4に
接続して設けた電気選択用バッド5を有するフィルムキ
ャリャテープ6のリード4と半導体チップ2のバンブ7
がボンディングされており、半導体チップ2の表面に枠
状にメツキ配線13を設けて半導体チップの表面を封止
する樹脂膜9の樹脂ダムとして使用される。
前記フィルムキャリヤ型半導体装置は、以下の様にして
製造される。フィルムキャリヤテープ6は従来と同様に
スプロケットホール1.リード4、開孔部3等を有した
ものを準備し、半導体チップ2は、バンブ7とめっき配
線13を設けたものを準備する。めっき配線13はバン
ブ7を形成する時と同時に、同一工程で形成し、バンブ
7の内側に枠状に形成する。めっき配線13はバンブ7
と同一工程で形成されるため一般に20μm程度の高さ
を有している。また、めっき配線13を樹脂ダムとして
使用する以外に電源や接地配線として使用することも可
能である。次に、フィルムキャリヤテープ6のリード4
とバンブ7とを熱圧着法または共晶法等によりボンディ
ングして半導体チップ2を搭載し、半導体チップ2の表
面に樹脂膜9を設けて、フィルムキャリヤ型半導体装置
を構成する。ここて、めっき配線13は樹脂ダムとして
機能するため、樹脂膜9は半導体チップ2の周縁に広が
ること無く、従って、リード4の間に入り込むことは無
い。
製造される。フィルムキャリヤテープ6は従来と同様に
スプロケットホール1.リード4、開孔部3等を有した
ものを準備し、半導体チップ2は、バンブ7とめっき配
線13を設けたものを準備する。めっき配線13はバン
ブ7を形成する時と同時に、同一工程で形成し、バンブ
7の内側に枠状に形成する。めっき配線13はバンブ7
と同一工程で形成されるため一般に20μm程度の高さ
を有している。また、めっき配線13を樹脂ダムとして
使用する以外に電源や接地配線として使用することも可
能である。次に、フィルムキャリヤテープ6のリード4
とバンブ7とを熱圧着法または共晶法等によりボンディ
ングして半導体チップ2を搭載し、半導体チップ2の表
面に樹脂膜9を設けて、フィルムキャリヤ型半導体装置
を構成する。ここて、めっき配線13は樹脂ダムとして
機能するため、樹脂膜9は半導体チップ2の周縁に広が
ること無く、従って、リード4の間に入り込むことは無
い。
上記のような樹脂封止法は、バンブ部分を樹脂封止して
いないが、半導体チップ2の表面の機械的保護には充分
であり、また、メモリー素子等のようにα線によるソフ
トエラー防止を目的とした場合には、メモリーセル部を
樹脂層9が覆うようにめっき配線13を配置すればその
目的は達せられる。
いないが、半導体チップ2の表面の機械的保護には充分
であり、また、メモリー素子等のようにα線によるソフ
トエラー防止を目的とした場合には、メモリーセル部を
樹脂層9が覆うようにめっき配線13を配置すればその
目的は達せられる。
なお、本実施例では、プリント基板に実装する前にボッ
ティングを実施したが、第6図のようにフェイスアップ
で実装する場合は、実装後に実施しても良い。但しこの
場合は既にリード成形が完了しているので、本実施例は
実装後のポツティングが困難な半導体チップ表面を下に
するフェイスダウンでの実装に有効である。
ティングを実施したが、第6図のようにフェイスアップ
で実装する場合は、実装後に実施しても良い。但しこの
場合は既にリード成形が完了しているので、本実施例は
実装後のポツティングが困難な半導体チップ表面を下に
するフェイスダウンでの実装に有効である。
第2図は本発明の第2の実施例の断面図である。
めっき配線13の代りにフィルム枠14をエポキシ樹脂
又はポリイミド樹脂等の絶縁材で形成し、接着剤15に
より半導体チップ2表面に固着して、フィルム枠14を
樹脂ダムとして樹脂膜9により半導体チップ2の表面を
封止している以外は第1の実施例と同じ構成を有してい
る。
又はポリイミド樹脂等の絶縁材で形成し、接着剤15に
より半導体チップ2表面に固着して、フィルム枠14を
樹脂ダムとして樹脂膜9により半導体チップ2の表面を
封止している以外は第1の実施例と同じ構成を有してい
る。
この実施例では、樹脂ダムとしてフィルム枠を使用して
いるので、第1の実施例の樹脂ダム高さが約20μmで
あるのに対しフィルム枠の厚みを50〜100μmにす
ることが可能であり、樹脂膜9の厚さを十分にとること
ができる利点がある。
いるので、第1の実施例の樹脂ダム高さが約20μmで
あるのに対しフィルム枠の厚みを50〜100μmにす
ることが可能であり、樹脂膜9の厚さを十分にとること
ができる利点がある。
第3図は本発明の第3の実施例の断面図である。
第1の実施例と同様にバンブ7を形成するのと同じ工程
でめっき配線13を形成するが、本実施例の場合はバン
ブ7の外側に枠状にめっき配線13を形成している。ま
た、リード間の短絡を防止するため、本実施例の場合は
めっき配線表面を絶縁材からなる樹脂膜16で被覆して
おく必要がある。樹脂膜16としては、めっき配線13
.パン17等をめっきで形成後、ポリイミド等の樹脂膜
6を半導体チップ2の表面全面に塗布して、フォトエツ
チング法により選択的に樹脂膜6をエツチングする一般
的な方法で実施可能である。
でめっき配線13を形成するが、本実施例の場合はバン
ブ7の外側に枠状にめっき配線13を形成している。ま
た、リード間の短絡を防止するため、本実施例の場合は
めっき配線表面を絶縁材からなる樹脂膜16で被覆して
おく必要がある。樹脂膜16としては、めっき配線13
.パン17等をめっきで形成後、ポリイミド等の樹脂膜
6を半導体チップ2の表面全面に塗布して、フォトエツ
チング法により選択的に樹脂膜6をエツチングする一般
的な方法で実施可能である。
この実施例では、バンブ7の外側に樹脂ダムがあるので
、半導体チップ2の表面全体を樹脂封止できる他、樹脂
ダムをリード4の半導体チップ2の周縁との短絡を防止
するエッヂタッチ防止の効果もあるという利点を有する
。
、半導体チップ2の表面全体を樹脂封止できる他、樹脂
ダムをリード4の半導体チップ2の周縁との短絡を防止
するエッヂタッチ防止の効果もあるという利点を有する
。
以上説明したように本発明は、半導体チップの表面に樹
脂ダムを設けることにより、半導体チップの表面を樹脂
で封止する形態のフィルムキャリヤ型半導体装置におい
て、ボッティングした液状樹脂が半導体チップ周縁部か
らさらに広がり、リード間に入り込み、後工程のリード
形成時に悪影響を与えるという欠点を防止ずZことがで
きる。
脂ダムを設けることにより、半導体チップの表面を樹脂
で封止する形態のフィルムキャリヤ型半導体装置におい
て、ボッティングした液状樹脂が半導体チップ周縁部か
らさらに広がり、リード間に入り込み、後工程のリード
形成時に悪影響を与えるという欠点を防止ずZことがで
きる。
第1図(a)、(b)は本発明の第1の実施例の平面図
及びA−A’線断面図、第2図及び第3図は本発明の第
2及び第3の実施例の断面図、第4図(a)、(b)は
従来のフィルムキャリヤ型半導体装置の一例を示す平面
図及びB−B’線断面図、第5図は第4図のフィルムキ
ャリヤ型半導体装置の樹脂封止後の断面図、第6図は従
来のフィルムキャリヤ型半導体装置の実装状態を示す断
面図である。 1・・・スプロケットホール、2・・・半導体チップ、
3・・・開孔部、4・・・リード、5・・・電気的選別
用パッド、6・・・フィルムキャリヤテープ、7・・・
バンプ、8・・・サスペンダー 9・・・樹脂膜、10
・・・接着剤、11・・・プリント基板、12・・・ポ
ンディングパッド、13・・・めっき配線、14・・・
フィルム枠、15・・・接着剤、16・・・樹脂膜。
及びA−A’線断面図、第2図及び第3図は本発明の第
2及び第3の実施例の断面図、第4図(a)、(b)は
従来のフィルムキャリヤ型半導体装置の一例を示す平面
図及びB−B’線断面図、第5図は第4図のフィルムキ
ャリヤ型半導体装置の樹脂封止後の断面図、第6図は従
来のフィルムキャリヤ型半導体装置の実装状態を示す断
面図である。 1・・・スプロケットホール、2・・・半導体チップ、
3・・・開孔部、4・・・リード、5・・・電気的選別
用パッド、6・・・フィルムキャリヤテープ、7・・・
バンプ、8・・・サスペンダー 9・・・樹脂膜、10
・・・接着剤、11・・・プリント基板、12・・・ポ
ンディングパッド、13・・・めっき配線、14・・・
フィルム枠、15・・・接着剤、16・・・樹脂膜。
Claims (1)
- 帯状の絶縁フィルムの中央部に設けた開孔部の内側に
先端部を突出して配列して設けたリードと、前記絶縁フ
ィルムの両側端部近傍に設けた搬送及び位置決め用スプ
ロケットホールとを有するフィルムキャリヤテープと、
前記リードの先端部に電極を接続して搭載した半導体チ
ップとを有するフィルムキャリヤ型半導体装置において
、前記半導体チップの表面の周縁部に設けた樹脂止めダ
ムを備えたことを特徴とするフィルムキャリヤ型半導体
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1094016A JP2522039B2 (ja) | 1989-04-12 | 1989-04-12 | フィルムキャリヤ型半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1094016A JP2522039B2 (ja) | 1989-04-12 | 1989-04-12 | フィルムキャリヤ型半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02271547A true JPH02271547A (ja) | 1990-11-06 |
JP2522039B2 JP2522039B2 (ja) | 1996-08-07 |
Family
ID=14098706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1094016A Expired - Lifetime JP2522039B2 (ja) | 1989-04-12 | 1989-04-12 | フィルムキャリヤ型半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2522039B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7043827B2 (en) | 2003-03-17 | 2006-05-16 | Opt Engineering Co., Ltd. | Device for installing rivets on rivet holding body |
KR20180029209A (ko) * | 2010-05-14 | 2018-03-20 | 소니 주식회사 | 반도체 장치 및 그 제조 방법 및 전자 기기 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3848300B2 (ja) | 2003-05-28 | 2006-11-22 | 株式会社アドバンテスト | コネクタ |
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JPS5776869A (en) * | 1980-10-31 | 1982-05-14 | Fujitsu Ltd | Semiconductor device |
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