JPH0226793A - 平版印刷版支持体の製造方法 - Google Patents

平版印刷版支持体の製造方法

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JPH0226793A
JPH0226793A JP17719788A JP17719788A JPH0226793A JP H0226793 A JPH0226793 A JP H0226793A JP 17719788 A JP17719788 A JP 17719788A JP 17719788 A JP17719788 A JP 17719788A JP H0226793 A JPH0226793 A JP H0226793A
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JP
Japan
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treatment
etching
aluminum
degreasing
support
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JP17719788A
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English (en)
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Haruo Nakanishi
治雄 中西
Nagayoshi Kaneko
修芳 金子
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、印刷版用支持体の製造方法に関するものであ
り、特に平版印刷版に適する粗面化されたアルミニウム
板からなる印刷版用支持体の製造方法に関するものであ
る。
〔従来の技術〕
印刷版用支持体、特に平版印刷版用支持体としては、ア
ルミニウム板が用いられており、アルミニウム板を平版
印刷版用支持体として使用するためには、怒光材との適
度な接着性と保水性を有していることが必要である。
このためには、アルミニウム板の表面を均一かつ緻密な
砂目を有するように粗面化しなければならない。この粗
面化処理は製版後、実際に印刷を行ったとき、版材の汚
れ性能や、耐刷性能などに著しい影響を及ぼすので、そ
の良否は版材製造上重要な要素となっている。
印刷版用アルミニウム支持体の粗面化方法としては、交
流電解エツチング法が一般的に採用されており、電流と
しては、普通の正弦波交流電流、短形波などの特殊交番
電流が用いられている。また、この交流電解エツチング
法の前処理として、苛性ソーダなどでエツチング処理す
ることが一般的であった(例えば特公昭57−1691
8号公報)。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来、前処理としてのエツチング処理では一般に3 g
/rd以上のエツチング量が必要とされている。
本発明者らは先にマンガンを0.5%以上含むアルミニ
ウム支持体を前処理としてのエツチング処理する場合に
このようなエツチングを行うとマンガンとアルミニウム
との金属間化合物等の影響で表面が均一にエツチングさ
れず、このため次工程の電解粗面化が均一に行うことが
できないことを知り、その対策として前処理のエツチン
グを工。
チング量がo、otg/rrf〜Ig/n−fの範囲で
極少のアルカリエツチングすることを提案した。
本発明者らは、さらにこの極少エツチング方式をマンガ
ン含有アルミニウム支持体のみならず、−aのアルミニ
ウム支持体に適用することを試みたが何れの場合も極少
エツチングに処理むらが生ずると云う問題があることが
わかった。すなわち、極少エンチングは苛性ソーダ水溶
液等でアルカリ処理するのであるが、アルミニウム表面
の極<薄い層を除去するので、均一なエツチングができ
ず、このためその後の電解粗面化の均一性にも影響し、
印刷時に印刷むら等として現れてくることがわかった。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者等は上記の問題を解決するために検討を行った
結果、極少エツチングの前にアルミニウム支持体を脱脂
処理することによって上記問題は解決されることを見出
し、本発明を達成した。
すなわち、本発明はアルミニウム支持体を脱脂処理した
後に、0. 01 g/rd 〜1.  Og/rrT
の範囲に極少のアルカリエツチング処理し、次いで酸性
電解液中で電解粗面化処理することを特徴とする平版印
刷版支持体の製造方法である。
本発明における脱脂処理としては、−Cに金属表面に付
着した油や油脂性物質を除去するいわゆる化学的処理方
法が用いられ、溶剤脱脂方法、アルカリ脱脂方法、界面
活性剤による脱脂方法等を用いることができる。
溶剤脱脂方法としては、ガソリン、ケロシン、軽油、ベ
ンジン、ソルベントナフサ、ノルマルヘキサン等の石油
系溶剤を用いる方法、トリクロルエチレン、メチレンク
ロライド、パークロルエチレン、1,1.1−)リクロ
ルエタン等の塩素系溶剤を用いる方法等がある。
アルカリ脱脂方法としては、水酸化ナトリウム、炭酸ナ
トリウム、重炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、セスキ
硫酸ナトリウム等のソーダ塩の水溶液を用いる方法、オ
ルトケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、1号ケ
イ酸ナトリウム、2号ケイ酸ナトリウム、3号ケイ酸ナ
トリウム等のケイ酸塩の水溶液を用いる方法、第一リン
酸ナトリウム、第ニリン酸ナトリウム、第三リン酸ナト
リウム、トリポリリン酸ナトリウム、ピロリン酸ナトリ
ウム、ヘキサメタリン酸ナトリウム等のリン酸塩水溶液
を用いる方法等が用いられる。
アルカリ脱脂方法を用いる場合、処理時間や処理温度に
よってはアルミニウムの表面が溶けることもあるので、
本発明の脱脂処理は上記の如き溶解現象が伴わないよう
に行わなければならず、上記の処理をアルミニウムの表
面から気泡が発生しない範囲内で行う。
また、界面活性剤による脱脂処理としては、アニオン界
面活性剤、カチオン界面活性剤、非イオン型界面活性剤
、及び両性活性剤の水溶液が用いられ、各種の市販品等
を用いることができる。
脱脂処理としては、浸漬法、吹き付は法、液を布やスポ
ンジ等に含ませてこする方法等を用いることができる。
また浸漬や吹き付は法には、超音波を利用してもよい。
本発明における極少のアルカリエンチング処理の条件と
しては、好ましいアルカリ剤としては、苛性ソーダ、苛
性カリ、メタ珪酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソー
ダ、グルコン酸ソーダ等を用いる。その濃度は0.00
1%〜5%、温度は20°C〜90°C1時間は1秒〜
5分間の範囲から選択される。
このようなアルカリエツチングしたアルミニウム板の表
面には、アルカリに不溶なPA質(スマット)が残存す
るので、必要に応じてデスマット処理を行っても良い。
引き続き、アルミニウム板の表面は、酸性電解液中で、
電解粗面化される。この時の電解液は、塩酸、硝酸また
は、その混合液が望ましいか、硝酸がより好ましい。硝
酸の含有量は0.1〜10重量%、より好ましくは0.
3〜3重量%の溶液中で、交流電解エツチングが行われ
る。電流波形は、求める砂目の形により適時選択される
電解に使用する電気量によって表面の粗面化状況が異っ
て来る。1次組面のピット深さは0.1〜10゛μm、
ピット径は、0.2〜20μmより好ましくはピント深
さ2〜4μm、ピット径5〜15μmである。このよう
なピント径を形成させるには、特公昭56−19280
号、特公昭5519191号各公報に記載の特殊交番波
形を用いるのがより好ましい。
即ち、本発明は上記により感光剤との適度な接着性と保
水性を保つのに良い1次組面を形成させる。
1次組面を形成したアルミニウムは、引続き、酸又はア
ルカリ溶液で処理されることが好ましい。
具体的には特公昭56−11316号公報に記載されて
いる硫酸の他に、リン酸またはリン酸とクロム酸の混液
が用いられる。また、特公昭48−28123号公報に
記載されているような苛性ソーダなどのアルカリ性溶液
で軽くエツチング処理を行って、表面に付着しているス
マットを除去する。アルカリ溶液で付着したスマットを
除去する場合、アルミニウム表面をエツチングするので
、アルカリに不溶成分が残存する。それ故に、酸性溶液
(硫酸、リン酸、クロム酸等)により再度デスマットし
ても良い。
この後、必要に応じて1次組面の生成方法と同様な方法
で2次相面を重ねても良い。2次相面のピット深さは0
.1〜1μm、ピット形は0. 1〜5μmより好まし
くは、ピット深さが0.1〜0.8μm、ピット径0.
1〜3μmである。
2次相面を形成したアルミニウムは、引続き、酸または
アルカリ溶液で処理されることが好ましい。具体的には
特公昭56−11316号公報に記載されている硫酸の
他に、リン酸またはリン酸とクロム酸の混液が用いられ
る。また、特公昭48−28123号公報に記載されて
いるような苛性ソーダなどのアルカリ性溶液で軽くエツ
チング処理を行って、表面に付着しているスマットを除
去する。アルカリ溶液で付着したスマットを除去する場
合、アルミニウム表面をエツチングするので、アルカリ
に不溶成分が残存する。それ故に、酸性溶液(硫酸、リ
ン酸、クロム酸等)により再度デスマットする必要があ
る。
しかる後最後の処理として陽極酸化が行われる場合もあ
るが、陽極酸化皮膜はO,)〜10g/ポ、より好まし
くは0.3〜5 g/rrf表面に形成するのが良い。
陽極酸化処理する前にアルカリエツチング、デスマット
処理するのが好ましい。
陽極酸化の処理条件は、使用される電解液によって種々
変化するので一概には決定されないが一般的には、電解
液の濃度が1〜80重量%、液温5〜70°C1電流密
度0.5〜60A/dボ、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲が適当である。
この様にして得られた陽極酸化皮膜を持つ砂目のアルミ
ニウム板はそれ自身安定で親水性に優れたものであるか
ら、直ちに感光性塗膜を上に設ける事も出来るが、必要
により更に表面処理を施す事が出来る。たとえば、アル
カリ金属珪酸塩によるシリケート層あるいは、親水性高
分子化合物よりなる下塗層を設けることができる。下W
1!層の塗布量は5〜L5Qmg/rrfが好ましい。
なお本発明は従来、平版印刷版用支持体に用いられてい
るアルミニウム支持体ならどのようなものにも通用でき
、純粋なものから、Mn、Cu、Fe、Si等の不純物
を含んだものでもよく、特に前記した如きMnを0.0
5%以上含んだアルミニウムに好ましく適用される。
次に、このように処理したアルミニウム支持体上に感光
性塗膜を設け、画像露光、現像して製版した後に、印刷
機にセントし、印刷を開始する。
〔実施例〕
実施例1 アルミニウム支持体をトリクロルエチレンに常温で2分
間浸漬して脱脂処理した後に1%苛性ソーダ水溶液を3
0°Cに温めた溶液中に浸漬して、アルミニウム支持体
上が0.1g/ryfになるようにエツチングした。水
洗後3%硝酸水溶液に浸漬して十分水洗した。
水洗後1.5%硝酸水溶液中で、特公昭55−1919
1号公報に記載の交番波形電流を用いて、電気化学的に
粗面化した。
電解条件はVA=12.7ボルト、Vc=9.1ボルト
、陽極特電気量が600クロ一ン/d%となる様にした
。表面のスマットを除去した後、電顕写真で観察すると
、10μm程度の大きなピットと1μm程度の細いピッ
トが均一に生成していた。この支持体に20%硫酸中で
、陽極酸化皮膜2.5g/rr?設け、水洗し乾燥した
これを基板(A)とする。
実施例2 実施例1において、脱脂処理をペレテックス#1220
 (カチオン界面活性剤の商品名、ミヨシ油脂■製造)
の1%水溶液に60°Cで1分間浸漬することによって
行う以外は実施例1と同様にして基板CB)を得た。
比較例1 実施例1において、脱脂処理を行わなかった以外は実施
例1と同様にして基板(C)を得た。
以上の如くして作成した基板(A)、CB)に下記組成
物を、乾燥後の塗布重量が2.0g/n(になる様に塗
布して感光層を設けた。
感光液 N−(4−ヒドロキシフ ェニル)メタクリルアミド /2−ヒドロキシエチルメ タクリレート/アクリロニ トリル/メチルメタクリレ ート/メタクリル酸(=15 :10:30:38ニアモ ル比)共重合体(平均分子 量60000)     −−−−−・5.0 g4−
ジアゾジフェニルア ミノとホルムアルデヒドの 縮合物の六弗化燐酸塩  ・旧・・0.5g亜燐酸  
      ・・・0.05gビクトリアピュアープル BOH (採土ケ谷化学■社製) ・・・・・・0.1g2−メ
トキシエタノール・・・・・・100gこのようにして
作製して感光製平版印刷版に、真空焼枠中で透明ネガテ
ィブフィルムを通して、1mの距離から3に−のメタル
ハライドランプにより50秒間露光を行なったのち、下
記組成の現像液で現像しアラビアガム水溶液でガム引き
して平版印刷版とした。
現像液 亜硫酸ナトリウム ・・・・・・ 5gベンジルアルコ
ール・・・・・・30g炭酸ナトリウム  ・・・・・
・ 5gイソプロピルナフタ レンスルホン酸ナトリ ラム        ・・・・・・12g純水    
   ・・・・・・1000gこの様にして製版された
印刷版を用いて、通常の手順で印刷した結果を第1表に
示す。
第  1  表 〔発明の効果〕 上記の結果から明かなように、本発明により、極少アル
カリエツチング処理と電解粗面化処理を行う前に脱脂処
理したアルミニウム支持体を用いた平版印刷版は、脱脂
処理を施こさなかったアルミニウム支持体を用いた平版
印刷版と比較して耐刷性が優れ、且つ印刷時の印刷よご
れが少ない。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アルミニウム支持体を、脱脂処理した後に、0.
    01g/m^2〜1.0g/m^2の範囲に極少のアル
    カリエッチング処理し、次いで、酸性電解液中で電解粗
    面化処理することを特徴とする平版印刷版支持体の製造
    方法。
JP17719788A 1988-07-18 1988-07-18 平版印刷版支持体の製造方法 Pending JPH0226793A (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63185425A (ja) * 1987-01-28 1988-08-01 Ngk Insulators Ltd 排ガス浄化用セラミツクハニカムフイルタ

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63185425A (ja) * 1987-01-28 1988-08-01 Ngk Insulators Ltd 排ガス浄化用セラミツクハニカムフイルタ

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