JPH02254427A - 光波長変換装置 - Google Patents
光波長変換装置Info
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- JPH02254427A JPH02254427A JP1077823A JP7782389A JPH02254427A JP H02254427 A JPH02254427 A JP H02254427A JP 1077823 A JP1077823 A JP 1077823A JP 7782389 A JP7782389 A JP 7782389A JP H02254427 A JPH02254427 A JP H02254427A
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- G—PHYSICS
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/37—Non-linear optics for second-harmonic generation
- G02F1/377—Non-linear optics for second-harmonic generation in an optical waveguide structure
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- G02F1/35—Non-linear optics
- G02F1/353—Frequency conversion, i.e. wherein a light beam is generated with frequency components different from those of the incident light beams
- G02F1/3534—Three-wave interaction, e.g. sum-difference frequency generation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、光デイスク装置やレーザビームプリンタ等の
情報処理装置、光応用計測器等に使用されるレーザ光を
短波長化する際に使用される光波長変換装置に関する。
情報処理装置、光応用計測器等に使用されるレーザ光を
短波長化する際に使用される光波長変換装置に関する。
(従来の技術)
光デイスク装置やレーザビームプリンタ等の情報処理装
置、あるいは光応用計測器等では、半導体レーザ素子か
ら発せられる集光性および指向性に優れたレーザ光が使
用されている。通常、半導体レーザ素子からの発振され
るレーザー光の波長は、780nms 830nm等の
長波長の近赤外光であるが、最近では、情報処理装置に
おける処理情報量を増大させるために、あるいは光応用
計測器の計測精度を向上させるために、レーザ光の短波
長化が進められている。例えば、光デイスク装置やレー
ザビームプリンタ等の情報装置では、半導体レーザ素子
にて発振されたレーザ光を所定位置に集光させて、情報
や画像の書き込みが行われている。レーザ光の波長と集
光スポットの径は、通常、比例関係にあり、レーザ光の
波長が短くなれば、集光スポットの径を小さくできる。
置、あるいは光応用計測器等では、半導体レーザ素子か
ら発せられる集光性および指向性に優れたレーザ光が使
用されている。通常、半導体レーザ素子からの発振され
るレーザー光の波長は、780nms 830nm等の
長波長の近赤外光であるが、最近では、情報処理装置に
おける処理情報量を増大させるために、あるいは光応用
計測器の計測精度を向上させるために、レーザ光の短波
長化が進められている。例えば、光デイスク装置やレー
ザビームプリンタ等の情報装置では、半導体レーザ素子
にて発振されたレーザ光を所定位置に集光させて、情報
や画像の書き込みが行われている。レーザ光の波長と集
光スポットの径は、通常、比例関係にあり、レーザ光の
波長が短くなれば、集光スポットの径を小さくできる。
集光スポットの径が小さくなれば、光デイスク装置では
、光ディスクに書き込む情報jl(記録密度)を増大さ
せることができる。レーザビームプリンタでは、レーザ
光の波長が短くなれば、微小画像を形成し得るために記
録密度を増大させることができるとともに、解像度を向
上させることができる。波長の短い緑色や青色のレーザ
光が容易に得られれば、現在使用されている赤色レーザ
光と組み合わせることにより、高速動作可能な、高解像
度のカラープリンタも実現し得る。光応用計測器では、
レーザ光の波長を短(することすることにより、計測精
度の向上が図れる。
、光ディスクに書き込む情報jl(記録密度)を増大さ
せることができる。レーザビームプリンタでは、レーザ
光の波長が短くなれば、微小画像を形成し得るために記
録密度を増大させることができるとともに、解像度を向
上させることができる。波長の短い緑色や青色のレーザ
光が容易に得られれば、現在使用されている赤色レーザ
光と組み合わせることにより、高速動作可能な、高解像
度のカラープリンタも実現し得る。光応用計測器では、
レーザ光の波長を短(することすることにより、計測精
度の向上が図れる。
近時、m−v族の半導体材料を使用した半導体レーザ素
子では、発振波長が600nm台(680nII+)の
レーザ光が得られているが、■−■族の半導体材料では
、それ以上の短波長化は困難である。Zn5esZnS
等のII−VI族の半導体材料を用いた半導体レーザ素
子の研究も行われているが、現在では、p−n接合も実
現されていない。このため、緑色、青色等の短波長のレ
ーザ光を発振し得る半導体レーザ素子は、適当な材料が
見あたらないこともあって、実現されていない。このた
め、緑色や青色等の短波長のレーザ光は、アルゴンイオ
ンレーザ等の大型なガスレーザによって発振されている
のが現状である。
子では、発振波長が600nm台(680nII+)の
レーザ光が得られているが、■−■族の半導体材料では
、それ以上の短波長化は困難である。Zn5esZnS
等のII−VI族の半導体材料を用いた半導体レーザ素
子の研究も行われているが、現在では、p−n接合も実
現されていない。このため、緑色、青色等の短波長のレ
ーザ光を発振し得る半導体レーザ素子は、適当な材料が
見あたらないこともあって、実現されていない。このた
め、緑色や青色等の短波長のレーザ光は、アルゴンイオ
ンレーザ等の大型なガスレーザによって発振されている
のが現状である。
このような大型のガスレーザを用いることなく、緑色、
青色等の短波長のレーザ光を得るために、固体レーザや
半導体レーザ素子から発振されたし一ザ光の半波長のレ
ーザ光が得られる光波長変換装置が提案されている。該
光波長変換装置は、非線形光学効果を有する結晶による
第2高調波発生(SHG)に代表される非線形光学現象
を利用するものであり、入力される基本波の波長のl/
2の波長のレーザ光が出力される。
青色等の短波長のレーザ光を得るために、固体レーザや
半導体レーザ素子から発振されたし一ザ光の半波長のレ
ーザ光が得られる光波長変換装置が提案されている。該
光波長変換装置は、非線形光学効果を有する結晶による
第2高調波発生(SHG)に代表される非線形光学現象
を利用するものであり、入力される基本波の波長のl/
2の波長のレーザ光が出力される。
従来の光波長変換装置は、第3図に示すように、LiN
bO3結晶基板31上にプロトン交換法により平板状の
光導波路32が形成されている。LiNbO3結晶基板
31は、非線形光学定数が大きいために、光導波路32
内に入射した基本波33に対してSHG現象により基本
波の波長の半波長の第2高調波34を発生する。この第
2高調波34は基本波33に対して位相整合する角度θ
で、光導波路32からLiNbO3結晶基板31内に放
射され、該基板31の端面から出射される。
bO3結晶基板31上にプロトン交換法により平板状の
光導波路32が形成されている。LiNbO3結晶基板
31は、非線形光学定数が大きいために、光導波路32
内に入射した基本波33に対してSHG現象により基本
波の波長の半波長の第2高調波34を発生する。この第
2高調波34は基本波33に対して位相整合する角度θ
で、光導波路32からLiNbO3結晶基板31内に放
射され、該基板31の端面から出射される。
この装置により、発振波長が1.06μmのYAGレー
ザを用いて、0.53μ重の緑色レーザ光の発生が観測
されている。さらに、半導体レーザ素子から発振される
波長0.84μm、光出力80I!lWのレーザ光を、
レンズおよびプリズムを含む光学系を用いて、光導波路
の一端面に、40冒Wで結合させることにより、0.4
2μvr 、Q、4ts’lの青色レーザ光がit!
11されている。
ザを用いて、0.53μ重の緑色レーザ光の発生が観測
されている。さらに、半導体レーザ素子から発振される
波長0.84μm、光出力80I!lWのレーザ光を、
レンズおよびプリズムを含む光学系を用いて、光導波路
の一端面に、40冒Wで結合させることにより、0.4
2μvr 、Q、4ts’lの青色レーザ光がit!
11されている。
また、基本波が複数の発振波長(発振軸モード)を有す
るレーザ光の場合は、和周波(二つの基本波の光周波数
の和)も発生するが、以下、和周波も含めて第2高調波
と表現する。
るレーザ光の場合は、和周波(二つの基本波の光周波数
の和)も発生するが、以下、和周波も含めて第2高調波
と表現する。
(発明が解決しようとする課題)
このようにして発振される箪2高調波の出力は、入力さ
れる基本波の出力の2乗に比例することが知られている
。従って、前述した光波長変換装置により実用的なSm
Wの出力の青色レーザ光を得るには、約140mW出力
の基本波を光導波路32内に入射させて該光導波路内を
伝播させる必要がある。このためには、光導波路との光
結合効率を考慮すると、約280mWの出力の半導体レ
ーザ素子が必要になる。
れる基本波の出力の2乗に比例することが知られている
。従って、前述した光波長変換装置により実用的なSm
Wの出力の青色レーザ光を得るには、約140mW出力
の基本波を光導波路32内に入射させて該光導波路内を
伝播させる必要がある。このためには、光導波路との光
結合効率を考慮すると、約280mWの出力の半導体レ
ーザ素子が必要になる。
しかし、現在では高出力半導体レーザ素子の出力は、5
0〜100mW程度であり、しかも、光導波路との光結
合効率も低いことから、実用的な5IIlv出力の青色
レーザ光を得ることは容易ではない。
0〜100mW程度であり、しかも、光導波路との光結
合効率も低いことから、実用的な5IIlv出力の青色
レーザ光を得ることは容易ではない。
本発明は上記従来の問題を解決するものであり、その目
的は、比較的低出力の基本波を高効率で第2高調波に変
換することができ、高出力の第2高調波を発生し得る光
波長変換装置を提供することにある。
的は、比較的低出力の基本波を高効率で第2高調波に変
換することができ、高出力の第2高調波を発生し得る光
波長変換装置を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明の光波長変換装置は、非線形光学効果を有する材
料にて構成された基板に、環状の光導波路が形成されて
おり、該光導波路内の所定領域を伝播する基本波から第
2高調波または和周波が放射されるべく構成されてなり
、そのことにより上記目的が達成される。
料にて構成された基板に、環状の光導波路が形成されて
おり、該光導波路内の所定領域を伝播する基本波から第
2高調波または和周波が放射されるべく構成されてなり
、そのことにより上記目的が達成される。
(実施例)
以下に本発明を実施例について説明する。
本発明の光波長変換装置は、第1図および第2図に示す
ように、非線形光学効果を有する結晶基板11上に、環
状の光導波路12が形成されている。
ように、非線形光学効果を有する結晶基板11上に、環
状の光導波路12が形成されている。
該結晶基板11としては、例えば、YカットされたMg
OドープのLiNb0.が使用される。
OドープのLiNb0.が使用される。
該光導波路12は、基板11の一側部上にその長辺に沿
って直線状に配設された高調波発生部12aを有し、該
高調波発生部12aの一端面が基板11の一方の端面1
1aに連なって、両者が面一になっている。そして、該
端面11aから光導波路lz内に基本波が導入される。
って直線状に配設された高調波発生部12aを有し、該
高調波発生部12aの一端面が基板11の一方の端面1
1aに連なって、両者が面一になっている。そして、該
端面11aから光導波路lz内に基本波が導入される。
該高調波発生部12aの他方の端部は、基板11の他方
の端面近傍に達しており、該端面近傍部にて半円状の第
1湾曲部12bの一端に連なっている。
の端面近傍に達しており、該端面近傍部にて半円状の第
1湾曲部12bの一端に連なっている。
該第1湾曲部12bは180度よりも若干小さく湾曲し
ており、その他端は前述した高調波発生部12aに対し
て小角度で傾斜した状態の直線状の傾斜部12cの一端
に連なっている。基板11には、該傾斜部12cを挟む
一対の屈折率制御電極13および13が配設されている
。そして該傾斜部12cの他端は、前記高調波発生部1
2aとは平行になった直線状のモニター波発生部12d
の一端に連なっている。該モニター波発生部12dは高
調波発生部12aの略中央部に対向しており、その他端
は第2湾曲部12eの一端に連なっている。該第2湾曲
部12eは、高調波発生部12aの端面が位置する基板
11端面11a側になるに連れて、該高調波発生部12
a側に緩やかに湾曲し、該第2湾曲部12eの他端が高
調波発生部12aの基板11端面11aに連なる端部に
連なっており、光導波路12は高調波発生部12aの端
部を除いて環状になっている。
ており、その他端は前述した高調波発生部12aに対し
て小角度で傾斜した状態の直線状の傾斜部12cの一端
に連なっている。基板11には、該傾斜部12cを挟む
一対の屈折率制御電極13および13が配設されている
。そして該傾斜部12cの他端は、前記高調波発生部1
2aとは平行になった直線状のモニター波発生部12d
の一端に連なっている。該モニター波発生部12dは高
調波発生部12aの略中央部に対向しており、その他端
は第2湾曲部12eの一端に連なっている。該第2湾曲
部12eは、高調波発生部12aの端面が位置する基板
11端面11a側になるに連れて、該高調波発生部12
a側に緩やかに湾曲し、該第2湾曲部12eの他端が高
調波発生部12aの基板11端面11aに連なる端部に
連なっており、光導波路12は高調波発生部12aの端
部を除いて環状になっている。
このような光導波路12は、次のように形成される。ま
ず、Y板LiNbO3製の結晶基板11に、モリブデン
またはタンタルを電子ビーム蒸着した後に、レジストを
塗布して、レーザビーム描画法により、前述した光導波
路12形状にパターニングし、幅2μmの所定形状の環
状スリットを有する金属マスクを形成する。そして、2
30°Cのリン酸中でプロ!・ン交換処理を行った後に
金属マスクを除去することにより、所定の環状をした光
導波路12が形成される。
ず、Y板LiNbO3製の結晶基板11に、モリブデン
またはタンタルを電子ビーム蒸着した後に、レジストを
塗布して、レーザビーム描画法により、前述した光導波
路12形状にパターニングし、幅2μmの所定形状の環
状スリットを有する金属マスクを形成する。そして、2
30°Cのリン酸中でプロ!・ン交換処理を行った後に
金属マスクを除去することにより、所定の環状をした光
導波路12が形成される。
光導波路12の端面が位置する基板11の端面11aの
側方には、光学系15が対向して配設されており、レー
ザ光源14から発振されるレーザ光が、該光学系15を
介して基板11における光導波路12の端面に照射され
る。また、該光学系15が対向する基板11の端面11
aには、受光器16が対向して配設されている。該受光
器16は、光導波路12におけるモニター波発生部12
dの延長線に対して若干下方に位置している。基板11
における光学系15等が対向する端面11aとは反対側
の端面11bは、下側になるに連れて順次他方の端面1
1a側に接近した傾斜面になっている。
側方には、光学系15が対向して配設されており、レー
ザ光源14から発振されるレーザ光が、該光学系15を
介して基板11における光導波路12の端面に照射され
る。また、該光学系15が対向する基板11の端面11
aには、受光器16が対向して配設されている。該受光
器16は、光導波路12におけるモニター波発生部12
dの延長線に対して若干下方に位置している。基板11
における光学系15等が対向する端面11aとは反対側
の端面11bは、下側になるに連れて順次他方の端面1
1a側に接近した傾斜面になっている。
このような構成の光波長変換装置では、レーザ光源14
から発振されたレーザ光が光学系ISを介して基板11
の光導波路12内に基本波として入射される。光導波路
12内に入射した基本波は、基板■1がYカットされた
LiNbo3製であるため、該光導波路12における高
調波発生部12a内をTEモードで伝播する。このとき
、LiNbO3基板11の非線形光学定数が最大となる
d33を利用して高調波発生部12aが形成されている
ため、基本波は第2高調波に変換されて基板11内に放
出される。基板ll内に放出された第2高調波は、光導
波路12の高調波発生部12aの延設方向に沿って基板
11内を下方に傾斜して伝播し、第1図および第2図に
矢印Aで示すように、傾斜した端面11bから出射され
る。このとき、第2高調波が出射される端面11bが、
下方になるに連れてレーザ光が入射される他方の端面1
1aに接近するように傾斜しているために、基板11内
を傾斜して伝播する第2高調波は、該端面11bから基
板11上面と平行に出射される。
から発振されたレーザ光が光学系ISを介して基板11
の光導波路12内に基本波として入射される。光導波路
12内に入射した基本波は、基板■1がYカットされた
LiNbo3製であるため、該光導波路12における高
調波発生部12a内をTEモードで伝播する。このとき
、LiNbO3基板11の非線形光学定数が最大となる
d33を利用して高調波発生部12aが形成されている
ため、基本波は第2高調波に変換されて基板11内に放
出される。基板ll内に放出された第2高調波は、光導
波路12の高調波発生部12aの延設方向に沿って基板
11内を下方に傾斜して伝播し、第1図および第2図に
矢印Aで示すように、傾斜した端面11bから出射され
る。このとき、第2高調波が出射される端面11bが、
下方になるに連れてレーザ光が入射される他方の端面1
1aに接近するように傾斜しているために、基板11内
を傾斜して伝播する第2高調波は、該端面11bから基
板11上面と平行に出射される。
光導波路12における高調波発生部12aから第2高調
波に変換されない基本波は、光導波路12の該高調波発
生部12aから第1湾曲部1.2b内に導入され、該第
1湾曲部12bから傾斜部12c、モニター波発生部1
2d、および第2湾曲部12eを通って、高調波発生部
12a内へ還流される。そして、該高調波発生部12a
内にて、新たに該高調波発生部12a内に入射される基
本波とともに、該高調波発生部12a内を伝播される間
に、一部が第2高調波に変換されて基板11内に放射さ
れる。このように、光導波路12の高調波発生部12a
内を伝播される基本波は、新たに入射される基本波と還
流される基本波の両者であるため、その光密度は増大し
、該光導波路12内に入射される基本波に対しては高効
率で第2高調波に変換されることになる。
波に変換されない基本波は、光導波路12の該高調波発
生部12aから第1湾曲部1.2b内に導入され、該第
1湾曲部12bから傾斜部12c、モニター波発生部1
2d、および第2湾曲部12eを通って、高調波発生部
12a内へ還流される。そして、該高調波発生部12a
内にて、新たに該高調波発生部12a内に入射される基
本波とともに、該高調波発生部12a内を伝播される間
に、一部が第2高調波に変換されて基板11内に放射さ
れる。このように、光導波路12の高調波発生部12a
内を伝播される基本波は、新たに入射される基本波と還
流される基本波の両者であるため、その光密度は増大し
、該光導波路12内に入射される基本波に対しては高効
率で第2高調波に変換されることになる。
光導波路12の高調波発生部12aにて第2高調彼に変
換されない基本波を、該高調波発生部12aに還流させ
る光導波路の第1湾曲部12b1傾斜部12c、モニタ
ー波発生部12d1および第2湾曲部12eは、傾斜部
12cを挟んで配設された一対の屈折率制御電極13か
ら印加される電圧により屈折率が変更され、共振条件が
満足されるように位相調整される。
換されない基本波を、該高調波発生部12aに還流させ
る光導波路の第1湾曲部12b1傾斜部12c、モニタ
ー波発生部12d1および第2湾曲部12eは、傾斜部
12cを挟んで配設された一対の屈折率制御電極13か
ら印加される電圧により屈折率が変更され、共振条件が
満足されるように位相調整される。
光導波路12の高調波発生部12aにて第2高調波に変
換されず、再度、高調波発生部12aに還流される基本
波は、モニター波発生部12dを伝播する間に、該モニ
ター波発生部12dにおいて第2高調波を、基板11内
に放出する。該モニター波発生部12dから放射された
第2高調波は、基板11の端面から受光器16に向けて
出射される。該受光器16は、モニター波発生部12d
から放射される第2高調波の情報を捉えており、該情報
に基づいて、光導波路12の高調波発生部12aから放
射される第2高調波の情報がモニターされる。該モニタ
ー波発生部12dの長さは、該モニター波発生部12d
から放射される第2高調波により、高調波発生部12a
から放射される第2高調波の変換効率を低下させないよ
うに、できるだけ短くすることが好ましい。
換されず、再度、高調波発生部12aに還流される基本
波は、モニター波発生部12dを伝播する間に、該モニ
ター波発生部12dにおいて第2高調波を、基板11内
に放出する。該モニター波発生部12dから放射された
第2高調波は、基板11の端面から受光器16に向けて
出射される。該受光器16は、モニター波発生部12d
から放射される第2高調波の情報を捉えており、該情報
に基づいて、光導波路12の高調波発生部12aから放
射される第2高調波の情報がモニターされる。該モニタ
ー波発生部12dの長さは、該モニター波発生部12d
から放射される第2高調波により、高調波発生部12a
から放射される第2高調波の変換効率を低下させないよ
うに、できるだけ短くすることが好ましい。
本発明の光波長変換装置では、レーザー光源14として
、出力401mWの半導体レーザ素子を用い、光導波路
12における高調波発生部12aの長さを5閣としたと
ころ、5IIIWの出力の第2高調波が得られた。
、出力401mWの半導体レーザ素子を用い、光導波路
12における高調波発生部12aの長さを5閣としたと
ころ、5IIIWの出力の第2高調波が得られた。
なお、上記実施例では、YカットされたMgOドープの
LiNbO3結晶基板11上にプロトン交換法により形
成された光導波路12を用いたが、これに限るものでは
なく、例えば、YカットのLiNb0.基板に、安息香
酸リチウムを含有する安息香酸によるプロトン交換法に
より形成された光導波路を用いてもよく、また、Zカッ
トのL i NbO3基板に形成された光導波路を用い
て、TMモードで基本波を伝播させてもよい。また、環
状導波路は導波路損失が小さ(、高調波発生部に基本波
が還流される構成であれば任意の形状とされる。さらに
、基板としては、KTP (チタノリン酸カリウム)
、LtTa03、有機非線形光学材料等も使用し得る。
LiNbO3結晶基板11上にプロトン交換法により形
成された光導波路12を用いたが、これに限るものでは
なく、例えば、YカットのLiNb0.基板に、安息香
酸リチウムを含有する安息香酸によるプロトン交換法に
より形成された光導波路を用いてもよく、また、Zカッ
トのL i NbO3基板に形成された光導波路を用い
て、TMモードで基本波を伝播させてもよい。また、環
状導波路は導波路損失が小さ(、高調波発生部に基本波
が還流される構成であれば任意の形状とされる。さらに
、基板としては、KTP (チタノリン酸カリウム)
、LtTa03、有機非線形光学材料等も使用し得る。
基本波も半導体レーザ素子から発振される半導体レーザ
光に限らず、YAGレーザ等の固体レーザから発振され
るレーザ光であってもよい。半導体レーザ素子から発振
されるレーザ光の波長も何ら限定されるものではない。
光に限らず、YAGレーザ等の固体レーザから発振され
るレーザ光であってもよい。半導体レーザ素子から発振
されるレーザ光の波長も何ら限定されるものではない。
基本波は、導波路の端面から入射させる構成に限らず、
グレーティング光結合器等を用いて光導波路内に入射さ
せてもよい。
グレーティング光結合器等を用いて光導波路内に入射さ
せてもよい。
(発明の効果)
本発明の光波長変換装置は、このように、環状の光導波
路を有しているために、該光導波路内を伝播する間に第
2高調波に変換されない基本波は、第2高調波に変換さ
れるべく還流されるため、光導波路内に入射される基本
波に対して高効率で基本波を第2高調波に変換し得て、
高出力の第2高調波を発生させることができる。
路を有しているために、該光導波路内を伝播する間に第
2高調波に変換されない基本波は、第2高調波に変換さ
れるべく還流されるため、光導波路内に入射される基本
波に対して高効率で基本波を第2高調波に変換し得て、
高出力の第2高調波を発生させることができる。
4、 の な! 日
第1図は本発明の光波長変換装置の平面図、第2図はそ
の側面図、第3図は従来の光波長変換装置の斜視図であ
る。
の側面図、第3図は従来の光波長変換装置の斜視図であ
る。
11・・・基板、12・・・光導波路、13・・・屈折
率制御電極、14・・・レーザ光源、15・・・光学系
。
率制御電極、14・・・レーザ光源、15・・・光学系
。
Claims (1)
- 1、非線形光学効果を有する材料にて構成された基板に
、環状の光導波路が形成されており、該光導波路内の所
定領域を伝播する基本波から第2高調波または和周波光
が放射されるべく構成された光波長変換装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1077823A JP2647190B2 (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | 光波長変換装置 |
US07/498,573 US5046802A (en) | 1989-03-28 | 1990-03-26 | Light wavelength converter |
EP90303288A EP0390524B1 (en) | 1989-03-28 | 1990-03-28 | A light wavelength converter |
DE69010951T DE69010951T2 (de) | 1989-03-28 | 1990-03-28 | Optischer Wellenlängenkonverter. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1077823A JP2647190B2 (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | 光波長変換装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02254427A true JPH02254427A (ja) | 1990-10-15 |
JP2647190B2 JP2647190B2 (ja) | 1997-08-27 |
Family
ID=13644764
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1077823A Expired - Lifetime JP2647190B2 (ja) | 1989-03-28 | 1989-03-28 | 光波長変換装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5046802A (ja) |
EP (1) | EP0390524B1 (ja) |
JP (1) | JP2647190B2 (ja) |
DE (1) | DE69010951T2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH02287519A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-27 | Hamamatsu Photonics Kk | 波長変換素子 |
JPH095550A (ja) * | 1995-06-21 | 1997-01-10 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光導波路の作製方法 |
JPH11109427A (ja) * | 1997-10-01 | 1999-04-23 | Nec Corp | 導波路型光強度減衰素子 |
JP2001215350A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-10 | Nec Corp | 光送受信回路 |
JP2017010062A (ja) * | 2010-03-04 | 2017-01-12 | キヤノン株式会社 | テラヘルツ波発生素子、およびテラヘルツ時間領域分光装置 |
JP2018194710A (ja) * | 2017-05-18 | 2018-12-06 | 日本電信電話株式会社 | 波長変換デバイス |
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JPH03287140A (ja) * | 1990-04-02 | 1991-12-17 | Pioneer Electron Corp | レーザー光波長変換装置 |
JP2753118B2 (ja) * | 1990-06-28 | 1998-05-18 | シャープ株式会社 | 光波長変換装置 |
FR2736480B1 (fr) * | 1995-07-05 | 1997-09-19 | France Telecom | Disposif de coloration de signaux optiques |
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-
1989
- 1989-03-28 JP JP1077823A patent/JP2647190B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-03-26 US US07/498,573 patent/US5046802A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-28 EP EP90303288A patent/EP0390524B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-28 DE DE69010951T patent/DE69010951T2/de not_active Expired - Fee Related
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---|---|
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EP0390524A3 (en) | 1991-10-09 |
DE69010951D1 (de) | 1994-09-01 |
JP2647190B2 (ja) | 1997-08-27 |
DE69010951T2 (de) | 1995-02-09 |
EP0390524B1 (en) | 1994-07-27 |
EP0390524A2 (en) | 1990-10-03 |
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