JPS6334990A - 光パルス発生器 - Google Patents

光パルス発生器

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JPS6334990A
JPS6334990A JP17754486A JP17754486A JPS6334990A JP S6334990 A JPS6334990 A JP S6334990A JP 17754486 A JP17754486 A JP 17754486A JP 17754486 A JP17754486 A JP 17754486A JP S6334990 A JPS6334990 A JP S6334990A
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optical
loss
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resonator
phase
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Hiroaki Inoue
宏明 井上
Shinji Sakano
伸治 坂野
Shinji Tsuji
伸二 辻
Akio Oishi
大石 昭夫
Motonao Hirao
平尾 元尚
Hiroyoshi Matsumura
宏善 松村
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Hitachi Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は大容量光通信システムに係り、特に超短パルス
光を高周波で発生させる光パルス発生器に関する。
〔従来の技術〕
レーザ光発生装置において発振縦モード間の位相関係を
固定し超短光パルス列を実現するモード同期の方法につ
いては、柳井入路編集光通信ハンドブック、朝会書店、
第54頁から第57頁記載のように良く知られており、
従来の半導体レーザを用いたモード同期利用のkE短パ
ルス光発生法は。
アプライド、フィジックス レターズ 39(1981
年)第525頁から第527頁において論じられている
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来技術はレーザ光発生装置の外部に別個の外部共
振器を設けているため、超短パルス光列の繰り返し周波
数は数GHzが限界であり、10GHz以上の高周波数
で動作させることは困難であった。又、レーザ光発生装
置と外部共振器の光学的相対位置によって動作特性が変
化するため。
極めて精度良く位II+!!51整をする必要があり、
安定′ な動作をさせることが[11であった。
本発明の目的は、これら問題点を解決し、小型で安定性
に優れ、10GHz以上の高周波数での超短パルス光を
発生させる光パルス発生装置を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
上記目的は、半導体レーザのようなレーザ光発生装置に
1位相及び又は損失調整部を持つ光導波路構i!&一体
集積化し一基板上に作製するか、もしくはレーザ光発生
装置の内部又は外部に分岐比可変の光分岐部を設け1分
岐された光導波路部で共振器構造を形成し、共振器構造
内に光の位相及び又は損失を7A整する領域を設けるこ
とにより達成される。
〔作用〕
同一基板上にレーザ光発生装置と一体集積化された位相
及び又は損失!!1lIl!を持つ光導波路部は光路長
及び又は損失可変の外部共振器の作用を果たす、それに
よって本光パルス発生器は位相及び損失を適当に調整す
ると、FM及びAMモード同期が各々生じ発振スペクト
ル幅のほぼ逆数で決まる超短パルス光を発生する。パル
ス列の繰り返し周波数は外部共振器を含めた共振器系に
おける光波の往復走行時間、即ち縦モード間隔によって
決定される0本発明によれば、同一基板上に集積化され
た外部共振器を構成する光導波路部の長さを11以下に
し、光波の往復走行時間を0 、1  n see以下
にすることが可容易に出来るので、パルス列の繰り返し
周波数として10GHz以上とすることが可能となる。
又、外部共振器構造が集積化されているので光学系の調
整も不要となり、安定に光パルス列を得ることができる
1位相及び又は損失の調整は縦モード間隔に対応する外
部信号によって変?R信号を印加し、能動モード同期を
生じさせる方法及び適当な位相及び又は損失を外部共振
器中に設定し、レーザ媒質や先導波路媒質の非線形性に
よって受動モード同期を生じさせても良い。
レーザ光発生装置と外部共振器構造を持つ光導波路部は
分岐比可変の光分岐部で結合しているので、この分岐比
を!5191することにより、光パルス列を発生させた
り、CW光発生させたり、この光パルス発生器の動作機
能を可変にすることも可能である。又1分岐比のlRa
により、モード同期の程度を調整することも可能となる
のでパルス幅を可変番こすることもできる。
C実施例〕 以下本発明の一実施明を説明する。
実施例 1 第1図は、外部共振器を構成する光導波路を半導体レー
ザ1と同じ■−■族化合物半導体材料を用いてInP基
板14上にモノリシックに形成している。構造は光導波
路15がInGaAsPでその他はInPである。この
外部共振器に電極4.5を付は電界の印加及び又は電流
を流せるようにしである。外部共振器の反射端には反射
コーライング9が施しである。外部共振器中の位相、即
ち屈折率と損失の制御は電極4,5を通して電界を加え
たり、電流を流したりして材料の屈折率及び又は吸収損
失を変えることにより行う。
本発明に用いる半導体レーザ1には通常のFabryP
erot構造のものだけでなくDFBも前進のものを用
いても良い。
実施例 2 第2図はリング型外部共振器を構成する光導波路を半導
体レーザ1と同じm−■族化合物半導体材料を用いてI
nP基板27上にモノリシックに形成している。構造は
光導波路23がInGaAsPでその他はInPである
。この外部共振器に電極25を付は電界の印加及び又は
電流を流せるようにしである。光出射端には反射コーテ
ィング26が施しである。外部共振器内の位相、即ち屈
折率と損失の制御は電極25を通して電界を加えたり、
電流を流したりして材料の屈折率及び又は吸収損失を変
えることにより行なう。光分岐部は方向性結合器型光ス
イッチ22により形成され、光の分岐比は電極24を通
して電界を加えたり、電流を流したりして材料の屈折率
を変えることにより調整する。
実施例 3 第3図に本実施例の概形を示す。本実施例では分岐部を
反射型光スイッチ8により構成し、分岐比は電極29を
通して電界を加えたり、電流を流したりして、電極下の
材料の屈折率を低下させて調整している。他の構成は実
施例1と同様である。
実施例 4 第3図に本実施例の概形を示す。本実施例では、実施例
2と異なり、リング型外部共振器構造でなく1通常のF
 adry −Perot型共振器型造振器構造ている
。共振器の両端面には反射コーティング100を施しで
ある。他の構成は実施例2と同様である。本実施例では
光分岐部に方向性結合器型光スイッチを使用しているが
、実施例3と同様に反射型光スイッチを用いても良い。
上記実施例2〜4において反射端面は半導体試料の端面
を利用しているが、基板等に回折格子を刻み1分布帰環
型の反射を利用しても、本発明の効果がある。又、本発
明に用いる半導体レーザ1は通常のFabny  Pe
rot構造のものだけでなく、DFB、DBR構造のも
のを用いても良い。
〔発明の効果〕
本発明によれば、外部共振器の長さを縦モード間周波数
がL OG Hz以上となるように短くでき、更に、光
学系の調整も不要となるので、外部からの電気的制御信
号を外部共振器の電極に印加するだけで、10GHz以
上の繰り返し周波数を持つモード同期された超短光パル
ス列を容易にしかも安定に得ることができ、更に、パル
ス発生の○N/○FF、パルス幅の制御を光分岐部への
電気信号で簡単にmuできるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明実施例の断面構造図、第2〜4図は各実
施例の上面構造図である。 1・・・半導体レーザ、3・・・外部共振器屈折率、損
失制御電源、4,5・・・電極、7・・・レーザ駆動電
源、9・・・反射コーティング、13・・・外部共振器
を構成する光導波路部、15・・・InGaAsPから
なる光導波路、14・・・InP基板、22・・・方向
性結合器型光スイッチで構成した光分岐部、23・・・
光導波路、24゜25.29・・・電極、26,100
・・・反射コーティング、27・・・基板、28・・・
反射型光スイッチで構成°た光分岐部°7(

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、レーザ光発生装置の内部又は外部に少くとも1つの
    位相又は損失調整部もしくは分岐比可変の光分岐部を有
    し、当該レーザ光発生装置が有する縦モード間隔の周波
    数で繰り返され、時間幅の短いパルス列が発生できるこ
    とを特徴とする光パルス発生器。 2、上記レーザ光発生装置と位相又は損失調整部が同一
    半導体基板上に設けられていることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載の光パルス発生器。 3、上記位相又は損失調整部の調整方法が電圧を印加し
    、屈折率及び又は損失を変化させる方法又は電流を注入
    し、屈折率及び又は損失を変化させる方法の少くとも一
    方法であることを特徴とする請求の範囲第2項記載の光
    パルス発生器。 4、上記分岐部が共振器構造を持つことを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の光パルス発生器。 5、上記レーザ光発生装置、光分岐部、共振器構造を形
    成する光導波路部が同一基板上に設けられていることを
    特徴とする第4項記載の光パルス発生器。 6、上記共振器構造内に光の位相及び又は損失を変化さ
    せる領域を持つことを特徴とする第5項記載の光パルス
    発生器。
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0266985A (ja) * 1988-08-31 1990-03-07 Hikari Keisoku Gijutsu Kaihatsu Kk 半導体レーザおよびその製造方法
JPH02135323A (ja) * 1988-11-16 1990-05-24 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光リング共振器
JPH02254427A (ja) * 1989-03-28 1990-10-15 Sharp Corp 光波長変換装置
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JPS5771194A (en) * 1980-08-25 1982-05-01 Xerox Corp Semiconductor injection laser

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