JPH02243882A - クリーンルーム - Google Patents
クリーンルームInfo
- Publication number
- JPH02243882A JPH02243882A JP1063719A JP6371989A JPH02243882A JP H02243882 A JPH02243882 A JP H02243882A JP 1063719 A JP1063719 A JP 1063719A JP 6371989 A JP6371989 A JP 6371989A JP H02243882 A JPH02243882 A JP H02243882A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- floor
- grating
- area
- workers
- clean room
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 abstract description 14
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract 2
- 238000004321 preservation Methods 0.000 abstract 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 8
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Central Air Conditioning (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はクリーンルームに係り、特に半導体や磁気ディ
スクなど製造に好適な高清浄度のクリーンルームに関す
る。
スクなど製造に好適な高清浄度のクリーンルームに関す
る。
半導体工場などで用いられている従来のトンネル型ダウ
ンフロークリーンルームは、第2図に示すように構成さ
れていた。図において、下床1の上部には約3mの間隔
でグレーチング床2が設けられており、これらの下床1
とグレーチング床2との間に床下空間3が形成されてい
て、床下室間3内には各種パイプ4が配管されている。
ンフロークリーンルームは、第2図に示すように構成さ
れていた。図において、下床1の上部には約3mの間隔
でグレーチング床2が設けられており、これらの下床1
とグレーチング床2との間に床下空間3が形成されてい
て、床下室間3内には各種パイプ4が配管されている。
グレーチング床lの上は「ベイ」と呼ばれる単位に分け
られており、これらのベイ5の間には保全域6がそれぞ
れ設けられている。ベイ5は作業者が通行したり作業し
たりする作業域7と、各種装置8が置かれる装置域9と
、前記保全域6とから構成されている。また作業域7は
高さ2m乃至2.5程度であり、保全域6は真空ポンプ
などの補機10などを設置するスペースと作業スペース
とを確保するため、作業域7と同じ程度の大きさとなっ
ている。作業域7及び装置域9の天井の上部にはそ九ぞ
れファン11が設けられており、これらのファン11に
よって昇圧された空気が図示せぬフィルタを通り、高清
浄となって作業域7及び装置域9内に吹き出すようにな
っている。この作業域7及び装置域9内に吹き出された
空気はグレーチング床2を貫通して床下空間3内に入り
、再びグレーチング床2を通って保全域6に入り、さら
に保全域6内を上昇して天井のファン11へ戻る。
られており、これらのベイ5の間には保全域6がそれぞ
れ設けられている。ベイ5は作業者が通行したり作業し
たりする作業域7と、各種装置8が置かれる装置域9と
、前記保全域6とから構成されている。また作業域7は
高さ2m乃至2.5程度であり、保全域6は真空ポンプ
などの補機10などを設置するスペースと作業スペース
とを確保するため、作業域7と同じ程度の大きさとなっ
ている。作業域7及び装置域9の天井の上部にはそ九ぞ
れファン11が設けられており、これらのファン11に
よって昇圧された空気が図示せぬフィルタを通り、高清
浄となって作業域7及び装置域9内に吹き出すようにな
っている。この作業域7及び装置域9内に吹き出された
空気はグレーチング床2を貫通して床下空間3内に入り
、再びグレーチング床2を通って保全域6に入り、さら
に保全域6内を上昇して天井のファン11へ戻る。
しかしながら上記のように構成された従来のクリーンル
ームによると、作業者12が頻繁に作業域7を通行する
ため、作業者12から発生した塵埃によって室内環境が
汚染されるという問題があった。一方、今後半導体の集
積度が更に高まると、これに伴なってクリーンルームに
必要な清浄度も高まり、例えば64MDRAM以上の製
造プロセスにおいては、クラス0.01程度という極端
な高清浄度が要求される。このような清浄度を達成し、
かつそれを保持するためには、クリーンルーム内の作業
者の数を減らす必要がある。
ームによると、作業者12が頻繁に作業域7を通行する
ため、作業者12から発生した塵埃によって室内環境が
汚染されるという問題があった。一方、今後半導体の集
積度が更に高まると、これに伴なってクリーンルームに
必要な清浄度も高まり、例えば64MDRAM以上の製
造プロセスにおいては、クラス0.01程度という極端
な高清浄度が要求される。このような清浄度を達成し、
かつそれを保持するためには、クリーンルーム内の作業
者の数を減らす必要がある。
ここで、クリーンルーム内で作業者が行なう作業として
は、装置間のウェハの搬送、装置の操作、清掃、保守点
検、工程の点検などがある。これらの作業のうち、装置
間のウェハの搬送及び装置の操作については、自動化が
進むことによって作業者の必要性が少なくなってきてお
り、近い将来作業者による手作業は完全になくなると思
われる。
は、装置間のウェハの搬送、装置の操作、清掃、保守点
検、工程の点検などがある。これらの作業のうち、装置
間のウェハの搬送及び装置の操作については、自動化が
進むことによって作業者の必要性が少なくなってきてお
り、近い将来作業者による手作業は完全になくなると思
われる。
一方、装置の清掃、保守点検、工程の点検についても、
装置の性能の向上、工場内の情報管理の効率化によって
作業頻度は小さくなりつつあるものの、今後ともこれら
の作業を完全になくせる見通しはない。従ってこれらの
作業を行なうための作業者は装置と同一空間にいること
となる。これらの操業者のうち装置間を移動する歩行者
の数を減らすことによっても、クリーンルーム内の清浄
度を保持することができるが、従来のクリーンルームに
おいてはこの点ついて配慮されていなかった。
装置の性能の向上、工場内の情報管理の効率化によって
作業頻度は小さくなりつつあるものの、今後ともこれら
の作業を完全になくせる見通しはない。従ってこれらの
作業を行なうための作業者は装置と同一空間にいること
となる。これらの操業者のうち装置間を移動する歩行者
の数を減らすことによっても、クリーンルーム内の清浄
度を保持することができるが、従来のクリーンルームに
おいてはこの点ついて配慮されていなかった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、装置間
を移動する作業者の数を減らして高清浄度を保持するこ
とのできるクリーンルームを提供することを目的とする
。
を移動する作業者の数を減らして高清浄度を保持するこ
とのできるクリーンルームを提供することを目的とする
。
上記目的を達成するために、本発明は、下床の上部設け
た通気性を有する床と、天井の近傍に設けたファンとを
具備したクリーニングルームにおいて、前記下床と前記
通気性を有する床との間に第2の通気性を有する床を設
けて歩行通路を形成したものである。
た通気性を有する床と、天井の近傍に設けたファンとを
具備したクリーニングルームにおいて、前記下床と前記
通気性を有する床との間に第2の通気性を有する床を設
けて歩行通路を形成したものである。
[作m]
上記の構成によると、第2の通気性を有する床を作業者
の歩行通路とすることにより、第1の通気性を有する床
上の装置間を作業者が移動するときに、この歩行通路を
利用できる。この結果、クリーンルーム内にいる作業者
の数を減らすことができ、高清浄度を保持することがで
きる。
の歩行通路とすることにより、第1の通気性を有する床
上の装置間を作業者が移動するときに、この歩行通路を
利用できる。この結果、クリーンルーム内にいる作業者
の数を減らすことができ、高清浄度を保持することがで
きる。
以下、本発明に係るクリーンルームの一実施例を図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例を示す。図において、第2図
に示す従来例と同一または同等部分には同一符号を付し
て示し、説明を省略する。
に示す従来例と同一または同等部分には同一符号を付し
て示し、説明を省略する。
通気性を有する第1のグレーチング床2上が複数のベイ
5に分けられ、それぞれのベイ5に保全域62作業域7
及び装置域9が設けられていて、装置域9には装置8が
置かれていること、及び作業域7及び装置域9のそれぞ
れの天井上にファン11が設けられていることは、第2
図に示す従来例と同様である。本実施例の特徴は第1の
グレーチング床2と下床1との間に第2のグレーチング
床13を設けた点にある。この第2のグレーチング床1
3は第1のグレーチング床2の約1.9m下に設けられ
ており、この第2のグレーチング床13は作業者12の
床下の歩行通路となっている。
5に分けられ、それぞれのベイ5に保全域62作業域7
及び装置域9が設けられていて、装置域9には装置8が
置かれていること、及び作業域7及び装置域9のそれぞ
れの天井上にファン11が設けられていることは、第2
図に示す従来例と同様である。本実施例の特徴は第1の
グレーチング床2と下床1との間に第2のグレーチング
床13を設けた点にある。この第2のグレーチング床1
3は第1のグレーチング床2の約1.9m下に設けられ
ており、この第2のグレーチング床13は作業者12の
床下の歩行通路となっている。
従って第2のグレーチング床13と下床1との間は約1
mの高さとなる。また第1のグレーチング床2には作業
域7に開閉自在に開口する出入口14と、ハシゴ15は
が設けられており、これらの出入口14及びハシゴ15
を介して作業者12が第2のグレーチング床13から作
業域7に出入できるようになっている。さらに、補機1
0は第2のグレーチング床13上に載置されている。
mの高さとなる。また第1のグレーチング床2には作業
域7に開閉自在に開口する出入口14と、ハシゴ15は
が設けられており、これらの出入口14及びハシゴ15
を介して作業者12が第2のグレーチング床13から作
業域7に出入できるようになっている。さらに、補機1
0は第2のグレーチング床13上に載置されている。
上記のように構成された本実施例の作用を以下に説明す
る。本実施例によれば、作業者12が第1のグレーチン
グ床2の下に設けられた第2のグレーチング床13を通
行できるので第1のグレーチング床2上クリーニングル
ーム内を移動する作業者の数を従来に比べて約半数にす
ることができ、高清浄度を保持することができる。この
とき、ファン11によって作業域7及び装置域9内に吹
き付けられる清浄な空気は、さらに第2のグレーチング
床13を通って床下空間3に入り、従来例と同様に再び
第2及び第1のグレーチング床13及び2を通って、保
全域6からファン11に戻る。
る。本実施例によれば、作業者12が第1のグレーチン
グ床2の下に設けられた第2のグレーチング床13を通
行できるので第1のグレーチング床2上クリーニングル
ーム内を移動する作業者の数を従来に比べて約半数にす
ることができ、高清浄度を保持することができる。この
とき、ファン11によって作業域7及び装置域9内に吹
き付けられる清浄な空気は、さらに第2のグレーチング
床13を通って床下空間3に入り、従来例と同様に再び
第2及び第1のグレーチング床13及び2を通って、保
全域6からファン11に戻る。
また第1及び第2グレーチング床2,13間の間隔は約
1.9mあるので、作業者12は容易に通行できる。そ
してこの部分を作業者12が通行して発塵しても、汚れ
た空気は作業域7及び装置域9には戻らないので、クリ
ーンルームの清浄度は全くその影響を受けることはない
。
1.9mあるので、作業者12は容易に通行できる。そ
してこの部分を作業者12が通行して発塵しても、汚れ
た空気は作業域7及び装置域9には戻らないので、クリ
ーンルームの清浄度は全くその影響を受けることはない
。
一方、従来保全域6に置かれていた補機類10が第2の
グレーチング床13上に置かれるため、保全域6に必要
なスペースが従来に比べて小さくなり、その分、クリー
ニングルーム全体の大きさを変えることなく、各作業域
7のスペースを約1.5倍に大きくすることができる。
グレーチング床13上に置かれるため、保全域6に必要
なスペースが従来に比べて小さくなり、その分、クリー
ニングルーム全体の大きさを変えることなく、各作業域
7のスペースを約1.5倍に大きくすることができる。
この結果、クリーンルームの自動化に伴なって各種ロボ
ットが作業域7をを走行する場合にも1作業者の保守作
業がその走行の障害となることはない。従ってロボット
の導入及びその数の増加も容易となる。
ットが作業域7をを走行する場合にも1作業者の保守作
業がその走行の障害となることはない。従ってロボット
の導入及びその数の増加も容易となる。
さらに床下配管4の保守点検容易となる。
本実施例によれば、クリーンルームの作業域7内を通行
する作業者の数を約半分とすることができ、高清浄度を
保持することができる。また、クリーンルーム全体の広
さを変えることなく作業域7を広くすることができ、作
業性が向上するとともに、ロット導入による自動化が容
易となる。
する作業者の数を約半分とすることができ、高清浄度を
保持することができる。また、クリーンルーム全体の広
さを変えることなく作業域7を広くすることができ、作
業性が向上するとともに、ロット導入による自動化が容
易となる。
以上説明したように、本発明に係るクリーンルームによ
れば、通気性を有する床を2段設けて、下方の床を作業
者の通路としたので、上方の床より上記のクリーニング
ルーム内の作業者の数を減少することができ、高清浄度
を保持することができる。またクリーニングルーム内の
作業域を広くすることができ、作業性を向上させること
ができる。
れば、通気性を有する床を2段設けて、下方の床を作業
者の通路としたので、上方の床より上記のクリーニング
ルーム内の作業者の数を減少することができ、高清浄度
を保持することができる。またクリーニングルーム内の
作業域を広くすることができ、作業性を向上させること
ができる。
第1図は本発明に係るクリーンルームの一実施例を示す
縦断面図、第2図は従来のクリーンルームを示す縦断面
図である。 1・・・下床、2・・・第1のグレーチング床、11・
・・ファン、13・・・第2のグレーチング床。
縦断面図、第2図は従来のクリーンルームを示す縦断面
図である。 1・・・下床、2・・・第1のグレーチング床、11・
・・ファン、13・・・第2のグレーチング床。
Claims (1)
- 1、下床の上部に設けた通気性を有する床と、天井の近
傍に設けたファンとを具備したクリーンルームにおいて
、前記下床と前記通気性を有する床との間に第2の通気
性を有する床を設けて歩行通路を形成したことを特徴と
するクリーンルーム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1063719A JPH02243882A (ja) | 1989-03-17 | 1989-03-17 | クリーンルーム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1063719A JPH02243882A (ja) | 1989-03-17 | 1989-03-17 | クリーンルーム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02243882A true JPH02243882A (ja) | 1990-09-27 |
Family
ID=13237482
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1063719A Pending JPH02243882A (ja) | 1989-03-17 | 1989-03-17 | クリーンルーム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02243882A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007212015A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Takenaka Komuten Co Ltd | クリーンルーム構造 |
JP5620023B1 (ja) * | 2014-03-06 | 2014-11-05 | 株式会社三菱地所設計 | データセンターのフロア構造およびデータセンター |
-
1989
- 1989-03-17 JP JP1063719A patent/JPH02243882A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007212015A (ja) * | 2006-02-07 | 2007-08-23 | Takenaka Komuten Co Ltd | クリーンルーム構造 |
JP4700509B2 (ja) * | 2006-02-07 | 2011-06-15 | 株式会社竹中工務店 | クリーンルーム構造 |
JP5620023B1 (ja) * | 2014-03-06 | 2014-11-05 | 株式会社三菱地所設計 | データセンターのフロア構造およびデータセンター |
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