JPH02240688A - 液晶表示装置の欠陥検査方法 - Google Patents
液晶表示装置の欠陥検査方法Info
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- JPH02240688A JPH02240688A JP1063000A JP6300089A JPH02240688A JP H02240688 A JPH02240688 A JP H02240688A JP 1063000 A JP1063000 A JP 1063000A JP 6300089 A JP6300089 A JP 6300089A JP H02240688 A JPH02240688 A JP H02240688A
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 13
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 239000000523 sample Substances 0.000 abstract description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 10
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 102100040401 DNA topoisomerase 3-alpha Human genes 0.000 description 1
- 101000611068 Homo sapiens DNA topoisomerase 3-alpha Proteins 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、アクティブマトリックス基板と共通電極基
板とで構成された液晶表示装置の欠陥検査方法に関し、
特に短絡欠陥の検出方法に関する。
板とで構成された液晶表示装置の欠陥検査方法に関し、
特に短絡欠陥の検出方法に関する。
a−Siの薄膜トランジスタ (以下TPTという)を
用いたアクティブマトリックス方式は走査電極ラインと
映像信号電極ラインとをマトリックス状に交差させたマ
トリックス回路を1枚のガラス上で構成し、そのマトリ
ックス回路上にa −3iTPTをマトリックス状に設
けて画素毎の液晶を直接駆動する方式であり、液晶テレ
ビのように高密度デイスプレィを実現するために開発さ
れたものである。
用いたアクティブマトリックス方式は走査電極ラインと
映像信号電極ラインとをマトリックス状に交差させたマ
トリックス回路を1枚のガラス上で構成し、そのマトリ
ックス回路上にa −3iTPTをマトリックス状に設
けて画素毎の液晶を直接駆動する方式であり、液晶テレ
ビのように高密度デイスプレィを実現するために開発さ
れたものである。
TPTアクティブマトリックス方式の液晶テレビの場合
、TPTがゲートソース及びドレインの3端子構造とな
っていて、夫々走査電極、映像信号電極及び画素電極に
接続されたTFTアレイをなしている。マトリックス回
路及びTFTアレイ中に発生する欠陥は大きく分類する
とパターンの断線、短絡及びTPTの特性不良の3つに
分けられる。
、TPTがゲートソース及びドレインの3端子構造とな
っていて、夫々走査電極、映像信号電極及び画素電極に
接続されたTFTアレイをなしている。マトリックス回
路及びTFTアレイ中に発生する欠陥は大きく分類する
とパターンの断線、短絡及びTPTの特性不良の3つに
分けられる。
第2図はrsf!MICON NEWS (1988,
3) J P2O“液晶デイスプレィボードの検査とレ
スキュー1に示されたa−SiTPTを用いたアクティ
ブマトリックス方式の液晶デイスプレィ (以下LCD
という)の構造を示す斜視図であり、このLCDはnx
n画素を有している。図においてD1〜D、、は1本の
ドレインライン、G、〜G7はドレインラインと交差す
るれ本のゲートラインであり、それらがマトリックス状
となっている。ドレインラインD1〜D、、とゲートラ
インG、 −G、lとはnxn個のTPT ’rl、
1〜T11++1のドレイン及びゲートに各別に接続さ
れている。TFT T、、 l〜TII+11のソース
は画素として設けられた表示用電極としてのITOP+
、+〜PI’l+11に接続されている。
3) J P2O“液晶デイスプレィボードの検査とレ
スキュー1に示されたa−SiTPTを用いたアクティ
ブマトリックス方式の液晶デイスプレィ (以下LCD
という)の構造を示す斜視図であり、このLCDはnx
n画素を有している。図においてD1〜D、、は1本の
ドレインライン、G、〜G7はドレインラインと交差す
るれ本のゲートラインであり、それらがマトリックス状
となっている。ドレインラインD1〜D、、とゲートラ
インG、 −G、lとはnxn個のTPT ’rl、
1〜T11++1のドレイン及びゲートに各別に接続さ
れている。TFT T、、 l〜TII+11のソース
は画素として設けられた表示用電極としてのITOP+
、+〜PI’l+11に接続されている。
次に以上のように構成されたLCDの短絡欠陥の検出す
る従来の欠陥検査方法について説明する。
る従来の欠陥検査方法について説明する。
第3図は3つの短絡パターンを示した第2図の一部拡大
平面図である。この図では斜線で短絡部位を示しており
、ITOP、、、がゲートラインG2と短絡している第
1パターン、ITOP2. 、がゲートラインG2と短
絡している第2パターン及び[TOP3. +とITO
Ps、zとがドレインラインD2を介して短絡している
第3パターンの3つの短絡のパターンを示している。
平面図である。この図では斜線で短絡部位を示しており
、ITOP、、、がゲートラインG2と短絡している第
1パターン、ITOP2. 、がゲートラインG2と短
絡している第2パターン及び[TOP3. +とITO
Ps、zとがドレインラインD2を介して短絡している
第3パターンの3つの短絡のパターンを示している。
このようなLCDの短絡の検出は従来、任意の相隣する
ドレインライン間又はドレインラインーゲートライン間
に電圧を印加し、そこに流れる電流から抵抗値を算出し
て行っていた。即ら第3図に示す如くドレインラインD
2に電源を接続し、電圧ν2を印加し、ドレインライン
貼に電流計Aを接続し、電流を計測するか、又はゲート
ラインG2に電源を接続し、電圧v1を印加し、ドレイ
ンラインDに電流計Aを接続して電流を計測していた。
ドレインライン間又はドレインラインーゲートライン間
に電圧を印加し、そこに流れる電流から抵抗値を算出し
て行っていた。即ら第3図に示す如くドレインラインD
2に電源を接続し、電圧ν2を印加し、ドレインライン
貼に電流計Aを接続し、電流を計測するか、又はゲート
ラインG2に電源を接続し、電圧v1を印加し、ドレイ
ンラインDに電流計Aを接続して電流を計測していた。
従来の欠陥検査方法では、第2パターンの短絡欠陥は、
電圧V、のゲートラインG2への印加により、TPT
T2. lのゲートに電圧が印加され、TPT Tz、
+がON状態となるため、ゲートラインG2、TFT
T2. 、を介して電流がドレインラインD1に流れ
それが電流計Aにて検出され、それによりITOl)、
、 、とゲートラインGtとの短絡を検出できるが、第
1パターン及び第2のパターンはTFT T、、 、及
びTFT T:1. +がON状態とはなっていないた
め、夫々ITOP1.I及びITOPll、からの電流
がドレインラインD、に流れず、電流計Aにて検出する
ことができなかった。
電圧V、のゲートラインG2への印加により、TPT
T2. lのゲートに電圧が印加され、TPT Tz、
+がON状態となるため、ゲートラインG2、TFT
T2. 、を介して電流がドレインラインD1に流れ
それが電流計Aにて検出され、それによりITOl)、
、 、とゲートラインGtとの短絡を検出できるが、第
1パターン及び第2のパターンはTFT T、、 、及
びTFT T:1. +がON状態とはなっていないた
め、夫々ITOP1.I及びITOPll、からの電流
がドレインラインD、に流れず、電流計Aにて検出する
ことができなかった。
この発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、a
−St TFTを用いたアクティダマ1−リンクス方式
の液晶表示装置に光を照射して画素中の全てのa−Si
TFTを導通状態として短絡欠陥を検査することによ
り、従来検出不能であった短絡欠陥を検出でき、検出精
度を向上させた液晶表示装置の欠陥検査方法を提供する
ことをその目的とする。
−St TFTを用いたアクティダマ1−リンクス方式
の液晶表示装置に光を照射して画素中の全てのa−Si
TFTを導通状態として短絡欠陥を検査することによ
り、従来検出不能であった短絡欠陥を検出でき、検出精
度を向上させた液晶表示装置の欠陥検査方法を提供する
ことをその目的とする。
この発明に斯かる液晶表示装置の欠陥検査方法は、a−
Siの薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリック
ス方式の液晶表示装置の任意の前記薄膜トランジスタの
ゲート線又はドレイン線に電圧を印加し、そこに流れる
電流を検出することにより、前記液晶表示装置の欠陥部
位を検出する欠陥検査方法において、前記a−Si薄膜
トランジスタを導通状態とすべく光を前記液晶表示装置
に照射することを特徴とする。
Siの薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリック
ス方式の液晶表示装置の任意の前記薄膜トランジスタの
ゲート線又はドレイン線に電圧を印加し、そこに流れる
電流を検出することにより、前記液晶表示装置の欠陥部
位を検出する欠陥検査方法において、前記a−Si薄膜
トランジスタを導通状態とすべく光を前記液晶表示装置
に照射することを特徴とする。
この発明においては、a−3i薄膜トランジスタに光を
照射すると、その光導電性により導通状態となるので、
いずれの箇所に短絡が生じた場合であっても、電圧を供
給する線とそれを検出する線との組合せにより必ず短絡
が検出できると共に、その欠陥部位が検出できる。
照射すると、その光導電性により導通状態となるので、
いずれの箇所に短絡が生じた場合であっても、電圧を供
給する線とそれを検出する線との組合せにより必ず短絡
が検出できると共に、その欠陥部位が検出できる。
以下、この発明をその一実施例を示す図面に基づいて説
明する。第1図はこの発明に係る液晶表示装置の欠陥検
査方法を用いて検査される液晶デイスプレィ (以下L
CDという)の一部拡大平面図である。図においてD1
〜D、は映像信号を送るドレインラインであり、該ドレ
インラインD、〜D3に交差して画素を走査するゲート
ライン61〜G4が設けられ、それらがマトリックス状
となっている。ドレインラインD1〜D、とゲートライ
ン61〜G4とは9個のa−Siの薄膜トランジスタ(
以下TPTという)TI+l〜T3.、のドレイン及び
ソースに各別に接続されている。またTPTT、、、〜
T8,3のソースは画素として設けられた表示用電極で
あるITOP+、+〜P1,3に接続されている。
明する。第1図はこの発明に係る液晶表示装置の欠陥検
査方法を用いて検査される液晶デイスプレィ (以下L
CDという)の一部拡大平面図である。図においてD1
〜D、は映像信号を送るドレインラインであり、該ドレ
インラインD、〜D3に交差して画素を走査するゲート
ライン61〜G4が設けられ、それらがマトリックス状
となっている。ドレインラインD1〜D、とゲートライ
ン61〜G4とは9個のa−Siの薄膜トランジスタ(
以下TPTという)TI+l〜T3.、のドレイン及び
ソースに各別に接続されている。またTPTT、、、〜
T8,3のソースは画素として設けられた表示用電極で
あるITOP+、+〜P1,3に接続されている。
またこのLCDの欠陥を検査する欠陥検査装置において
は、2種類のプローブが設けられている。
は、2種類のプローブが設けられている。
即ち、1つは電圧印加用のプローブ2であり、他の1つ
は電流検出用のプローブ3である。そしてこれらのプロ
ーブ2及び同3をLCDのゲートライン61〜G4及び
ドレインラインD、−03に接続させて電圧の印加及び
電流の検出を行い短絡及び断線の検出を行う。またこの
欠陥検査装置には光源lが設けられ、光源1によりLC
Dに光を照射してTPTを導通状態にすることができる
。
は電流検出用のプローブ3である。そしてこれらのプロ
ーブ2及び同3をLCDのゲートライン61〜G4及び
ドレインラインD、−03に接続させて電圧の印加及び
電流の検出を行い短絡及び断線の検出を行う。またこの
欠陥検査装置には光源lが設けられ、光源1によりLC
Dに光を照射してTPTを導通状態にすることができる
。
いまLCDに第1図に示す如くの3つのパターンの短絡
欠陥が生じた場合を例にこの発明方法の欠陥検出手順を
説明する。LCDの短絡部位は斜線で示してあり、第1
パターンはITOP+、+がゲートラインG2と短絡し
ている場合、第2パターンはITOPZ+1がゲートラ
インG2と短絡している場合、第三パターンはITOh
、+と同P1,2とがドレインラインD2を介して短絡
している場合を夫々示している。
欠陥が生じた場合を例にこの発明方法の欠陥検出手順を
説明する。LCDの短絡部位は斜線で示してあり、第1
パターンはITOP+、+がゲートラインG2と短絡し
ている場合、第2パターンはITOPZ+1がゲートラ
インG2と短絡している場合、第三パターンはITOh
、+と同P1,2とがドレインラインD2を介して短絡
している場合を夫々示している。
最初に光源lを点灯し、LCDに光を照射し、TFTT
l、1〜T1.3を全て導通状態にする。次に例えばゲ
ートラインG2にプローブ2を接続して、電源から電圧
V、を印加すると、TFT T+、 +及びTFT T
t、 +は導通状態であるので、ゲートラインG2から
の電流はITOPg□及びTPT ’h、 +並びにr
TOP、、 、及びTFTT+、+を介してドレインラ
インD1に流れ、ドレインラインD、にプローブ3を接
続することにより、電流を検出し、それにより第1パタ
ーン及び第2パターンの短絡を検出できる。またドレイ
ンラインDtにプローブ2を接続し、電源から電圧v7
を与えると、電流がITOP+、+及びTFT T*、
+を介して流れ、プローブ3をドレインラインD、に
接続することにより、電流を検出し、それにより第3パ
ターンの短絡が検出できる。なお第3パターンの場合は
ドレインラインD、と同D3との短絡は検出できるが、
その位置までは検出できないので、さらにゲートライン
G、〜G、を走査してその欠陥部位を特定する。
l、1〜T1.3を全て導通状態にする。次に例えばゲ
ートラインG2にプローブ2を接続して、電源から電圧
V、を印加すると、TFT T+、 +及びTFT T
t、 +は導通状態であるので、ゲートラインG2から
の電流はITOPg□及びTPT ’h、 +並びにr
TOP、、 、及びTFTT+、+を介してドレインラ
インD1に流れ、ドレインラインD、にプローブ3を接
続することにより、電流を検出し、それにより第1パタ
ーン及び第2パターンの短絡を検出できる。またドレイ
ンラインDtにプローブ2を接続し、電源から電圧v7
を与えると、電流がITOP+、+及びTFT T*、
+を介して流れ、プローブ3をドレインラインD、に
接続することにより、電流を検出し、それにより第3パ
ターンの短絡が検出できる。なお第3パターンの場合は
ドレインラインD、と同D3との短絡は検出できるが、
その位置までは検出できないので、さらにゲートライン
G、〜G、を走査してその欠陥部位を特定する。
なお、この実施例ではプローブを印加及び検出用に夫々
1つずつ用いたが、これは例示にすぎず、実際は複数の
ラインを1ブロツクとして同時に測定して検査の効率化
を図ることは言うまでもない。
1つずつ用いたが、これは例示にすぎず、実際は複数の
ラインを1ブロツクとして同時に測定して検査の効率化
を図ることは言うまでもない。
また、この実施例では短絡の検出について述べているが
、断線については従来と同様に各ラインの一端に電圧を
印加し、他端で電流を計測することにより検出できるこ
とは言うまでもない。
、断線については従来と同様に各ラインの一端に電圧を
印加し、他端で電流を計測することにより検出できるこ
とは言うまでもない。
以上、説明したとおり、この発明によればa −SiT
FTを用いたアクティブマトリックス方式の液晶デイス
プレィ全面に光源からの光を照射して、夫々の画素のa
−SiTFTを導通状態とすることにより、従来の方法
ではa −Si TFTが遮断状態となっていることに
より検出不能の場合の欠陥であっても検出可能となり、
検出精度が向上する等優れた効果を奏する。
FTを用いたアクティブマトリックス方式の液晶デイス
プレィ全面に光源からの光を照射して、夫々の画素のa
−SiTFTを導通状態とすることにより、従来の方法
ではa −Si TFTが遮断状態となっていることに
より検出不能の場合の欠陥であっても検出可能となり、
検出精度が向上する等優れた効果を奏する。
第1図はこの発明に係る液晶表示装置の欠陥検査方法を
用いて検査される液晶デイスプレィの一部拡大断面図、
第2図は液晶デイスプレィの構造を示す斜視図、第3図
は第2図の一部拡大平面図である。 1・・・光源 2・・・プローブ 3・・・プローブD
、、1〜D7.7・・・ドレインラインG1,1〜G
、l++1・・・ゲートラインT1. I〜T ll+
fl・・・薄膜トランジスタ弔 図 弔 図
用いて検査される液晶デイスプレィの一部拡大断面図、
第2図は液晶デイスプレィの構造を示す斜視図、第3図
は第2図の一部拡大平面図である。 1・・・光源 2・・・プローブ 3・・・プローブD
、、1〜D7.7・・・ドレインラインG1,1〜G
、l++1・・・ゲートラインT1. I〜T ll+
fl・・・薄膜トランジスタ弔 図 弔 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、a−Siの薄膜トランジスタを用いたアクティブマ
トリックス方式の液晶表示装置の任意の前記薄膜トラン
ジスタのゲート線又はドレイン線に電圧を印加し、そこ
に流れる電流を検出することにより、前記液晶表示装置
の欠陥部位を検出する欠陥検査方法において、 前記a−Si薄膜トランジスタを導通状態とすべく光を
前記液晶表示装置に照射することを特徴とする液晶表示
装置の欠陥検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1063000A JPH02240688A (ja) | 1989-03-14 | 1989-03-14 | 液晶表示装置の欠陥検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1063000A JPH02240688A (ja) | 1989-03-14 | 1989-03-14 | 液晶表示装置の欠陥検査方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02240688A true JPH02240688A (ja) | 1990-09-25 |
Family
ID=13216616
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1063000A Pending JPH02240688A (ja) | 1989-03-14 | 1989-03-14 | 液晶表示装置の欠陥検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02240688A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0590524A1 (en) * | 1992-09-29 | 1994-04-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Defect detection and defect removal apparatus of thin film electronic device |
EP0943951A1 (en) * | 1998-03-20 | 1999-09-22 | Nec Corporation | Optical surface inspection apparatus and inspecting method |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63246796A (ja) * | 1987-04-01 | 1988-10-13 | 松下電器産業株式会社 | アクテイブマトリツクスアレイの検査方法 |
-
1989
- 1989-03-14 JP JP1063000A patent/JPH02240688A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63246796A (ja) * | 1987-04-01 | 1988-10-13 | 松下電器産業株式会社 | アクテイブマトリツクスアレイの検査方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0590524A1 (en) * | 1992-09-29 | 1994-04-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Defect detection and defect removal apparatus of thin film electronic device |
EP0943951A1 (en) * | 1998-03-20 | 1999-09-22 | Nec Corporation | Optical surface inspection apparatus and inspecting method |
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