JPH02240279A - 装飾品等を多色化する表面処理方法 - Google Patents
装飾品等を多色化する表面処理方法Info
- Publication number
- JPH02240279A JPH02240279A JP5873689A JP5873689A JPH02240279A JP H02240279 A JPH02240279 A JP H02240279A JP 5873689 A JP5873689 A JP 5873689A JP 5873689 A JP5873689 A JP 5873689A JP H02240279 A JPH02240279 A JP H02240279A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alloy
- coating
- metal
- titanium
- plating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 157
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims abstract description 76
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims abstract description 68
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 57
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 57
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims abstract description 56
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 55
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 55
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 53
- 229910002710 Au-Pd Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 151
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 147
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 111
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 108
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 107
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 93
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 32
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 claims description 31
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 21
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 19
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 claims description 16
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 16
- 229910000623 nickel–chromium alloy Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 9
- 239000000788 chromium alloy Substances 0.000 claims description 9
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- -1 and oxides Substances 0.000 claims description 4
- 229910017398 Au—Ni Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000005034 decoration Methods 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910002668 Pd-Cu Inorganic materials 0.000 abstract description 19
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 11
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N Acetylene Chemical compound C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 10
- 239000003973 paint Substances 0.000 abstract description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 21
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 20
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 19
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 19
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 18
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 14
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 13
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 12
- 238000009489 vacuum treatment Methods 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 10
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 229910001093 Zr alloy Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- 239000002659 electrodeposit Substances 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 229910000756 V alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910000967 As alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZEWFHLRYVTOIW-UHFFFAOYSA-N [Ti].[Ni] Chemical compound [Ti].[Ni] HZEWFHLRYVTOIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910001000 nickel titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
皇星上■科朋分団
本発明は、時計、＠鏡フレーム、ライター、万年筆、ブ
ローチ等の各種装飾品等を多色化する表面処１方法に関
する。 狐」ヱリ話 −ｍに、装飾品の色彩としては、金、銀、黒等が好まれ
てきたが、近年においては、種々の色調の組み合わせに
よる多色化が好まれる傾向にある。 そして従来は、イオンプレーティング法による有色被膜
の形成と湿式メッキを組み合わせた表面処理方法によっ
て多色化を図っている。 この従来におけるイオンプレーティング法による有色被
膜の形成と湿式メッキとの組み合わせによる場合は、ま
ず基材に湿式メッキにより金メッキ等の貴金属メッキを
施し、次に所定部分にマスキング処理を施し、続いてイ
オンプレーティング法により有色被膜を形成した後、有
色被膜とともにマスク材を剥離除去し、ＦＡＭされなか
った有色被膜部分と露出した貴金属メッキ部分とからな
る、多色の装飾品を得るものである。 ■が ゛ しよ゛と る１ しかしながら、上述した従来の湿式メッキ法を用いた場
合には、マスキング後にイオンプレーティングするため
、イオンプレーティングする際に２５０〜４００℃に加
熱された有機物であるマスク材からガスが発生し、色調
、密着性等の品質に悪影響を及ぼし、また、マスクの上
にまで有色被膜が付着しているので、最終工程でのマス
ク材の剥離除去が容品でなく、大変困難な作業になって
しまい、さらには、剥離されない有色被膜の下にも貴金
属メッキが付着しているので、高価格になってしまうと
いう欠点がある。 本発明は、このような欠点を解消した装飾品等を多色化
する表面処理方法を提供することを目的とする。 １ を”ンするための− 上記目的を達成するために本発明は、例えばチタン、チ
タン合金、ステンレス、ニッケル・クロム合金、銅合金
等の基材上に、金属または金属合金、例えばチタン、バ
ナジウム、クロム、ジルコニウム、またはこれらとアル
ミニウムとの合金の好ましくは厚さ０．１−１．３μの
有色被膜と、貴金属、例えば金、パラジウムまたはこれ
らの合金の好ましくは厚さ０．５μ以下の被膜とを、イ
オンプレーティング法により順次形成し、続いて湿式方
法により、好ましくは有色被膜とは色調の異なる貴金属
メッキを、好ましくは厚さが０．０５〜５μになるよう
施した後、所定部分に！Ｉ塗り、スクリーン印刷等によ
りマスキング処理を施し、マスクされていない貴金属メ
ッキ部分及びイオンプレーティング法による貴金属被膜
部分を熔解除去したうえ、マスク材を除去することを特
徴とする。 前記有色被膜は金属または金属合金の窒化物、炭化物、
酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせからな
ることが好ましい。 また、基材上にイオンプレーティング法により、金属ま
たは金属合金の窒化物、炭化物、酸化物から選ばれた単
一または複数の組み合わせからなる有色被膜と、クロム
またはクロム合金のいずれかの金属被膜と、貴金属の被
膜とを順次形成し、続いて湿式方法により貴金属メッキ
を施した後、所定部分にマスキング処理を施し、マスク
されていない貴金属メッキ部分及びイオンプレーティン
グ法による貴金属被膜部分とクロムまたはクロム合金の
いずれかの金属被膜部分を溶解除去する方法でもよい。 さらに、基材上にイオンプレーティング法により、金属
または金属合金の窒化物、炭化物、酸化物から選ばれた
単一または複数の組み合わせからなる有色被膜を形成し
、さらにチタン、チタン合金、チタン・アルミニウム合
金またはニッケル・クロム合金のいずれかの金属被膜を
形成し、続いて湿式方法により、好ましくは耐蝕性及び
経済性を考慮して０．０５μ〜５μの厚さに貴金属メッ
キを施した後、所定部分にマスキング処理を施し、マス
クされていない貴金属メッキ部分及びチタン、チタン合
金、チタン・アルミニウム合金またはニッケルクロム合
金のいずれかの金属被膜部分を溶解除去する方法でもよ
い。 またさらに、基材上にイオンプレーティング法により、
金属または金属合金の窒化物、炭化物、酸化物から選ば
れた単一または複数の組み合わせからなる有色被膜と、
チタン、チタン合金またはチタン・アルミニウム合金の
いずれかの金属被膜と１．貴金属の被膜を順次形成し、
続いて湿式方法により貴金属メッキを施した後、所定部
分にマスキング処理を施し、マスクされていない貴金属
メッキ部分及びイオンプレーティング法による貴金属被
膜部分とチタン、チタン合金またはチタン・アルミニウ
ム合金のいずれかの金Ｘ被膜部分を溶解除去する方法で
もよい。 そして、有色被膜はチタン、バナジウム、クロム、ジル
コニウムから選ばれた金属または選ばれた金属のアルミ
ニウム合金についての窒化物、炭化物、酸化物のｊｐ−
または複数の組み合わせからなることが好ましく、例え
ば、ＴｉＮ、ＴｉＡＩＮあるいはＴｉＮ／ＴｉＣ／Ｔｌ
０ｉの混合物等が挙げられる。 さらに、湿式方法による貴金属メッキは、Ａｕ−Ｎ１Ａ
ｕ−Ｃｏ、 Ａｕ−Ｐｄ等の金色合金メッキ、あるいは
、Ｐｄ、 Ｐｄ−旧、Ｒｈ等の白色合金メッキであるこ
とが好ましい。 立−一一瓜 イオンプレーティング後の工程でマスキング処理を施す
ので、従来の湿式メッキ法における欠点がなくなる。そ
して、露出した有色被膜と、マスクされて熔解除去され
ない貴金属メッキをはじめとする被膜部分とによって、
多色化が実現される。 大−立一貫 以下、本発明を眼鏡枠に通用した場合の好適な実施例に
ついて、添付図面にＷづき詳細に説明する。 ここにおいて、第１図は第１実施例の工程を示す概略図
、第２図は本発明を実施する公知のイオンプレーティン
グ装置の概略図、第３図は第２実施例の工程を示す概略
図、第４図は第３実施例の工程を示す概略図である。 まず、第２図に基づきイオンプレーティング装置につい
て説明する。このイオンプレーティング装置は、従来か
ら知られているもので、真空処理４８１内に、上部には
カソード電極２が、下部には蒸発源ボード３が、互いに
対向するように配置され、直流電源４に接続されるとと
もに、前記蒸発源ボード３は加熱電源５によって所望の
温度に加熱制御されるよう構成されている。そして、前
記カソード電極２には、ａｕｉ枠基材６が吊持される。 前記眼鏡枠基材６の材質としては、チタン、チタン合金
、ステンレス、ニッケル・クロム合金、銅合金等が適し
ている。 次に、チタンからなる眼鏡枠基材（以下チタン基材とい
う）を多色化する表面処理法について説明する。 上述したイオンプレーティング装置の真空処理槽ｌ内に
おいて、蒸発源としてチタンを使用し、反応ガスとして
窒素ガスとアセチレンガスの混合ガスを使用して、電子
ビームにより前記チタンを蒸発させ、析出速度を約０．
Ｏ１〜０．０２μ／分に制ｉｆｌし、１０−”〜１０−
’Ｔｏｒｒの真空下で約３０分間イオンプレーティン
グを行い、第１図ｔａ）に示すように、チタン基材１１
表面に厚さ０．４μの７ｉＮ／Ｔｉｃの混合物による暗
黒色の有色被膜１２を形成する。続いて、前記真空処理
槽ｌ内における反応ガスの流量を制限し、真空度を１０
−４〜１０−’Ｔｏｒｒにし゛Ｃ１蒸発源ボード３に投
入した２ｇのＡｕ−Ｐｄの２０Ｋｔ合金を加熱溶解し、
３分間で蒸発させて、前記暗黒色の有色被膜１２を形成
したチタン基材１１表面に、第１図＋８１に示すように
、金色の金合金被Ｍ１３を０．０５μ厚付着させる。 次に、前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基材ｌｌを取
り出し、湿式メッキ法により、第１図（Ｃ）に示すよう
に、２０）［ｔのＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１４をｌＩ
Ｊｇ電着させる。さらに、第１図＋８１に示すように、
前記／１ｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１４の表面の一部にア
クリル系塗料からなるマスク材１５を塗布してマスキン
グ処理した後、金ｒｆ、ＩＪ ＩＩ！Ｉｌ液に浸漬して
、第１図＋８１に示すように、マスクされていない部分
の金合金被膜１３及びＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１４を
溶解剥離する。そして、第１図（［１に示すように、マ
スク材１５を除去すると、マスク材１５除去部分は金色
で、他の有色液ＩＩＩ １２ ｆｉｌ出部分は暗黒色の
チタン基材１１となる。 以上の方法を４０枚のロフトで１０回繰り返し作業した
が、不良品が発生することはなかった。 囚に、従来の湿式メッキを使用した方法によると、不良
品発生率は４０〜５０％である。 ま力、上述した実施例の変化例として、反応ガスとして
窒素ガスのみを使用し、チタン基材１１表面に厚さ０．
４μのＴｉ１ｌｌによる金色の有色被膜１２ａを形成し
た（第１図＋ａ）参照）後、真空処理槽ｌ内における反
応ガスの流■を制限し、真空度を１０”’〜１０−’Ｔ
ｏｒｒにして、Ａｕ−Ｐｄ合金に換えて蒸発源ボード３
に投入した２ｇの純Ｐｄ合金を加熱溶解し、３分間で蒸
発させて、前記金色の有色被膜１２ａを形成したチタン
基材１１表面に、白色のＰｄ合金被膜１３ａを０．１μ
厚付着させる（第１図１ｂ）参照）、そして、前記真空
処理槽ｌ内からｎｎ記チタン基材１１を取り出し、湿式
メッキ法により、Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被＋１５！１４
に換えてＰｄ−Ｎ ｉ （８０％Ｐｄ）合金被膜１４ａ
を２μ厚電着させる（第１図ｔｅｌ参照）、さらに、第
１図１ｄ＋に示すように、前記チタン基材１１の一部に
アクリル系塗料からなるマスク材１５を塗布してマスキ
ング処理した後、Ｐｄ剥離液に浸漬して、第１図＋８１
に示すように、マスクされていないＰｄ合金被膜１３ａ
及びＰｄ−Ｎｉ（８０＠ＡＰｄ）合金１膜１４ａを溶解
剥離する。そして、第１図（
ローチ等の各種装飾品等を多色化する表面処１方法に関
する。 狐」ヱリ話 −ｍに、装飾品の色彩としては、金、銀、黒等が好まれ
てきたが、近年においては、種々の色調の組み合わせに
よる多色化が好まれる傾向にある。 そして従来は、イオンプレーティング法による有色被膜
の形成と湿式メッキを組み合わせた表面処理方法によっ
て多色化を図っている。 この従来におけるイオンプレーティング法による有色被
膜の形成と湿式メッキとの組み合わせによる場合は、ま
ず基材に湿式メッキにより金メッキ等の貴金属メッキを
施し、次に所定部分にマスキング処理を施し、続いてイ
オンプレーティング法により有色被膜を形成した後、有
色被膜とともにマスク材を剥離除去し、ＦＡＭされなか
った有色被膜部分と露出した貴金属メッキ部分とからな
る、多色の装飾品を得るものである。 ■が ゛ しよ゛と る１ しかしながら、上述した従来の湿式メッキ法を用いた場
合には、マスキング後にイオンプレーティングするため
、イオンプレーティングする際に２５０〜４００℃に加
熱された有機物であるマスク材からガスが発生し、色調
、密着性等の品質に悪影響を及ぼし、また、マスクの上
にまで有色被膜が付着しているので、最終工程でのマス
ク材の剥離除去が容品でなく、大変困難な作業になって
しまい、さらには、剥離されない有色被膜の下にも貴金
属メッキが付着しているので、高価格になってしまうと
いう欠点がある。 本発明は、このような欠点を解消した装飾品等を多色化
する表面処理方法を提供することを目的とする。 １ を”ンするための− 上記目的を達成するために本発明は、例えばチタン、チ
タン合金、ステンレス、ニッケル・クロム合金、銅合金
等の基材上に、金属または金属合金、例えばチタン、バ
ナジウム、クロム、ジルコニウム、またはこれらとアル
ミニウムとの合金の好ましくは厚さ０．１−１．３μの
有色被膜と、貴金属、例えば金、パラジウムまたはこれ
らの合金の好ましくは厚さ０．５μ以下の被膜とを、イ
オンプレーティング法により順次形成し、続いて湿式方
法により、好ましくは有色被膜とは色調の異なる貴金属
メッキを、好ましくは厚さが０．０５〜５μになるよう
施した後、所定部分に！Ｉ塗り、スクリーン印刷等によ
りマスキング処理を施し、マスクされていない貴金属メ
ッキ部分及びイオンプレーティング法による貴金属被膜
部分を熔解除去したうえ、マスク材を除去することを特
徴とする。 前記有色被膜は金属または金属合金の窒化物、炭化物、
酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせからな
ることが好ましい。 また、基材上にイオンプレーティング法により、金属ま
たは金属合金の窒化物、炭化物、酸化物から選ばれた単
一または複数の組み合わせからなる有色被膜と、クロム
またはクロム合金のいずれかの金属被膜と、貴金属の被
膜とを順次形成し、続いて湿式方法により貴金属メッキ
を施した後、所定部分にマスキング処理を施し、マスク
されていない貴金属メッキ部分及びイオンプレーティン
グ法による貴金属被膜部分とクロムまたはクロム合金の
いずれかの金属被膜部分を溶解除去する方法でもよい。 さらに、基材上にイオンプレーティング法により、金属
または金属合金の窒化物、炭化物、酸化物から選ばれた
単一または複数の組み合わせからなる有色被膜を形成し
、さらにチタン、チタン合金、チタン・アルミニウム合
金またはニッケル・クロム合金のいずれかの金属被膜を
形成し、続いて湿式方法により、好ましくは耐蝕性及び
経済性を考慮して０．０５μ〜５μの厚さに貴金属メッ
キを施した後、所定部分にマスキング処理を施し、マス
クされていない貴金属メッキ部分及びチタン、チタン合
金、チタン・アルミニウム合金またはニッケルクロム合
金のいずれかの金属被膜部分を溶解除去する方法でもよ
い。 またさらに、基材上にイオンプレーティング法により、
金属または金属合金の窒化物、炭化物、酸化物から選ば
れた単一または複数の組み合わせからなる有色被膜と、
チタン、チタン合金またはチタン・アルミニウム合金の
いずれかの金属被膜と１．貴金属の被膜を順次形成し、
続いて湿式方法により貴金属メッキを施した後、所定部
分にマスキング処理を施し、マスクされていない貴金属
メッキ部分及びイオンプレーティング法による貴金属被
膜部分とチタン、チタン合金またはチタン・アルミニウ
ム合金のいずれかの金Ｘ被膜部分を溶解除去する方法で
もよい。 そして、有色被膜はチタン、バナジウム、クロム、ジル
コニウムから選ばれた金属または選ばれた金属のアルミ
ニウム合金についての窒化物、炭化物、酸化物のｊｐ−
または複数の組み合わせからなることが好ましく、例え
ば、ＴｉＮ、ＴｉＡＩＮあるいはＴｉＮ／ＴｉＣ／Ｔｌ
０ｉの混合物等が挙げられる。 さらに、湿式方法による貴金属メッキは、Ａｕ−Ｎ１Ａ
ｕ−Ｃｏ、 Ａｕ−Ｐｄ等の金色合金メッキ、あるいは
、Ｐｄ、 Ｐｄ−旧、Ｒｈ等の白色合金メッキであるこ
とが好ましい。 立−一一瓜 イオンプレーティング後の工程でマスキング処理を施す
ので、従来の湿式メッキ法における欠点がなくなる。そ
して、露出した有色被膜と、マスクされて熔解除去され
ない貴金属メッキをはじめとする被膜部分とによって、
多色化が実現される。 大−立一貫 以下、本発明を眼鏡枠に通用した場合の好適な実施例に
ついて、添付図面にＷづき詳細に説明する。 ここにおいて、第１図は第１実施例の工程を示す概略図
、第２図は本発明を実施する公知のイオンプレーティン
グ装置の概略図、第３図は第２実施例の工程を示す概略
図、第４図は第３実施例の工程を示す概略図である。 まず、第２図に基づきイオンプレーティング装置につい
て説明する。このイオンプレーティング装置は、従来か
ら知られているもので、真空処理４８１内に、上部には
カソード電極２が、下部には蒸発源ボード３が、互いに
対向するように配置され、直流電源４に接続されるとと
もに、前記蒸発源ボード３は加熱電源５によって所望の
温度に加熱制御されるよう構成されている。そして、前
記カソード電極２には、ａｕｉ枠基材６が吊持される。 前記眼鏡枠基材６の材質としては、チタン、チタン合金
、ステンレス、ニッケル・クロム合金、銅合金等が適し
ている。 次に、チタンからなる眼鏡枠基材（以下チタン基材とい
う）を多色化する表面処理法について説明する。 上述したイオンプレーティング装置の真空処理槽ｌ内に
おいて、蒸発源としてチタンを使用し、反応ガスとして
窒素ガスとアセチレンガスの混合ガスを使用して、電子
ビームにより前記チタンを蒸発させ、析出速度を約０．
Ｏ１〜０．０２μ／分に制ｉｆｌし、１０−”〜１０−
’Ｔｏｒｒの真空下で約３０分間イオンプレーティン
グを行い、第１図ｔａ）に示すように、チタン基材１１
表面に厚さ０．４μの７ｉＮ／Ｔｉｃの混合物による暗
黒色の有色被膜１２を形成する。続いて、前記真空処理
槽ｌ内における反応ガスの流量を制限し、真空度を１０
−４〜１０−’Ｔｏｒｒにし゛Ｃ１蒸発源ボード３に投
入した２ｇのＡｕ−Ｐｄの２０Ｋｔ合金を加熱溶解し、
３分間で蒸発させて、前記暗黒色の有色被膜１２を形成
したチタン基材１１表面に、第１図＋８１に示すように
、金色の金合金被Ｍ１３を０．０５μ厚付着させる。 次に、前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基材ｌｌを取
り出し、湿式メッキ法により、第１図（Ｃ）に示すよう
に、２０）［ｔのＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１４をｌＩ
Ｊｇ電着させる。さらに、第１図＋８１に示すように、
前記／１ｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１４の表面の一部にア
クリル系塗料からなるマスク材１５を塗布してマスキン
グ処理した後、金ｒｆ、ＩＪ ＩＩ！Ｉｌ液に浸漬して
、第１図＋８１に示すように、マスクされていない部分
の金合金被膜１３及びＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１４を
溶解剥離する。そして、第１図（［１に示すように、マ
スク材１５を除去すると、マスク材１５除去部分は金色
で、他の有色液ＩＩＩ １２ ｆｉｌ出部分は暗黒色の
チタン基材１１となる。 以上の方法を４０枚のロフトで１０回繰り返し作業した
が、不良品が発生することはなかった。 囚に、従来の湿式メッキを使用した方法によると、不良
品発生率は４０〜５０％である。 ま力、上述した実施例の変化例として、反応ガスとして
窒素ガスのみを使用し、チタン基材１１表面に厚さ０．
４μのＴｉ１ｌｌによる金色の有色被膜１２ａを形成し
た（第１図＋ａ）参照）後、真空処理槽ｌ内における反
応ガスの流■を制限し、真空度を１０”’〜１０−’Ｔ
ｏｒｒにして、Ａｕ−Ｐｄ合金に換えて蒸発源ボード３
に投入した２ｇの純Ｐｄ合金を加熱溶解し、３分間で蒸
発させて、前記金色の有色被膜１２ａを形成したチタン
基材１１表面に、白色のＰｄ合金被膜１３ａを０．１μ
厚付着させる（第１図１ｂ）参照）、そして、前記真空
処理槽ｌ内からｎｎ記チタン基材１１を取り出し、湿式
メッキ法により、Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被＋１５！１４
に換えてＰｄ−Ｎ ｉ （８０％Ｐｄ）合金被膜１４ａ
を２μ厚電着させる（第１図ｔｅｌ参照）、さらに、第
１図１ｄ＋に示すように、前記チタン基材１１の一部に
アクリル系塗料からなるマスク材１５を塗布してマスキ
ング処理した後、Ｐｄ剥離液に浸漬して、第１図＋８１
に示すように、マスクされていないＰｄ合金被膜１３ａ
及びＰｄ−Ｎｉ（８０＠ＡＰｄ）合金１膜１４ａを溶解
剥離する。そして、第１図（
【）に示すように、マスク
材１５を除去すると、マスク材１５除去部分は白色で、
他の有色被膜１２ａ ｎ山部分は金色のチタン基材１１
が得られる。この変化例においても不良品の発生は皆無
という好結果が得られた。 なお、上述した実施例において、チタン基材１１に換え
てステンレス基材を用いたところ、チタン基材１１と同
様な結果が得られた。 続いて、第３図に基づきチタン基材に適用した場合の本
発明の第２実施例を説明する。 第１実施例と同じイオンプレーティング装置の真空処理
槽ｌ内において、蒸発源としてクロムを使用し、反応ガ
スとして窒素ガス及びアセチレンガスの混合ガスを使用
して、電子ビームにより前記クロムを蒸発させ、析出速
度を約０．Ｏ１〜０．０２μ／分に制御能シ、１０−
” 〜１０− ”Ｔｏｒｒの真空下で約３０分間イオン
プレーティングを行い、第３図１ａ）に示すように、チ
タン基材２１表面にｊγさ０．４μのＣｒＮＣによる灰
色の有色被膜２２を形成する。続いて、前記真空処理槽
１内における反応ガスの流量を制限し、真空度をｌロー
４〜１０−”Ｔｏｒｒにして、さらにクロムを加熱溶解
し、約３分間で蒸発させて、第３図ｔｂ＋に示すように
、クロ１％？＆ｌｌ５１２３を０．０５μ厚付着させる
。さらに続いて、蒸発源ボード３に投入した２ｇのＡｕ
−Ｐｄの２０に【合金を加熱溶解し、約３分間で蒸発さ
せて、前記灰色の有色液１２２２及びクロム被膜２３を
形成したチタン基材２１表面に、第３図（ｅ）に示すよ
うに、金合金被膜２４を０．０５μ厚付着させる。 次に、前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基材２１を取
り出し、湿式メッキ法により、第３図（ｄｌに示すよう
に、２０に會、のＡｕ−１’ｄ−Ｃｕ合金被膜２５を１
μ厚電着させる。さらに、第３図ｔｅ＋に示すように、
前記Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜２５の表面の一部にアク
リル系塗料からなるマスク材２６を塗布してマスキング
処理した後、金剥離液に浸漬して、第３図（「）に示す
ように、マスクされていない部分の金合金被膜２４及び
Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金破膜２５を溶解剥離し、続けて５
０％塩酸水溶液に浸漬して、第３図（ｇｌに示すように
、同じくマスクされていない部分のクロム被膜２３を溶
解剥離する。そして、第３図ｔｈｌに示すように、マス
ク材２６を除去すると、マスク材２６除去部分は金色で
、他の有色被膜２２ｎ山部分は灰色のチタン基材２１が
得られる。 以上の方法を４０枚のロフトで１０回繰り返して作業し
たが、第１実施例と同様に、不良品が発生することはな
かった。 また、上述した実施例の変化例として、反応ガスのアセ
チレンガスの量を増加することによって、チタン基材２
１表面にＣｒＣＮの厚さ０．４ μの黒色の有色液１１
５！２２ａを形成した（第３図（８）参照）後、真空処
理槽ｌ内における反応ガスの流量を制服し、真空度を１
０− ’ 〜１０− ”Ｔｏｒｒにして、同様に０．０
５ ｐ厚のクロム被膜２３を形成（第３図（ｂｌ参照）
し、さらにΔｕ−１’ｄ合金に換えて蒸発源ボード３に
投入した２ｇの純Ｐｄ合金を加熱溶解し、３分間蒸発さ
せて、前記黒色の有色被膜２２ａ及びクロム被膜２３を
形成したチタン基材２１表面に、Ｐｄ合金被膜２４ａを
０．１μ厚付着さ・ける（第３図（Ｃ１参照）、そして
、前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基材２１を取り出
し、湿式メッキ法により、Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜２
５に換えてＰｄ−Ｎ１（８０％Ｐｄ）合金被膜２５ａを
２μ厚電着させる（第３図１ｄｌ参照）０次に、前記Ｐ
ｃ！−Ｎｌ （８０％Ｐｄ）合金破膜２５ａの表面の一
部にアクリル系塗料からなるマスク材２６を塗布してマ
スキング処理した（第３図（ｅ）参照）後、Ｐｄ剥離液
に浸漬して、マスクされていない部分のＰｄ合金ＰＩＩ
ＰＩＡ ２４ ａ及びＰｄ−Ｎ１（８０％Ｐｄ）合金被
膜２５ａを溶解剥離（第３図ｆｆ）参照）し、さらに５
０％塩酸水溶液に浸漬して、マスクされていない部分の
クロム被膜２３を溶解剥離する（第３図１ｇ１参照）、
そして、第３図（ｈｌに示すように、マスク材２６を除
去すると、マスク材２６除去部分は白色で、他の有色被
膜２２ａの露出部分部分は黒色のチタン基材２１となる
。この変化例においても不良品の発生は皆無という好結
果が得られた。 なお、上述した各実施例において、チタン基材２１に換
えてステンレス基材を用いたところ、チタン基材２１と
同様な結果が得られた。 次に、チタン基材に適用した場合の第３実施例について
第４図に基づき説明する。 上記各実施例と同様にしてイオンプレーティング装置の
真空処理槽ｌ内において、蒸発源としてチタンを使用し
、反応ガスとして窒素ガス及びアセチレンガスの混合ガ
スを使用して、電子ビームにより…１記チタンを蒸発さ
せ、析出速度を約０．０１〜０．０２／Ｊ／分に制御ｎ
シ、１０″”〜１０−’Ｔｏｒｒの真空下で約３０分間
イオンプレーティングを行い、第４図＋ａ）に示すよう
に、チタン基材３１表面に厚さ０．４μのＴｉＮ／Ｔｉ
ｃの混合物による暗黒色の有色破膜３２を形成する。続
いて、＋１７１記真空処理槽１内における反応ガスの流
量を０とし、真空度を１Ｏ−４〜１０− ”Ｔｏｒｒに
して、さらにチタンを電子ビームにより約３分間で蒸発
させ、第４図ｔｂｌに示すように、グ・タン破１１Ｇ１
３３を０．０３μ厚付着させる。 次に、前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基材３１を取
り出し、湿式メッキ法により、第４図ｔｃ＋に示すよう
に、金色の２０１ ｔのＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜３４
を１μ厚電着させる。さらに、第４図ｆｄ）に示すよう
に、前記チタン基材３１の一部にアクリル系塗料からな
るマスク材３５を塗布してマスキング処理した後、金！
ＰｊＩｉｌｉｌｉ液及びチタン剥離液に順次浸潤して、
第４図ｉｅ）に示すように、マスクしていない部分の金
合金被１１５！３４及びチタン被１１１３３を溶解剥離
する。 そして、第４図（ｆｌに示すように、マスク材３５を除
去すると、マスク材３５除去部分は金色で、他の有色液
Ｉｔ！３３２が露出した部分は暗黒色のチタン基材３１
が得られる。 また、上記第３実施例において、反応ガスを窒素ガスた
りとすれば、ＴｉＮによる金色の有色被膜３２ａが形成
でき、この上にチタン被膜３３に換えてチタン合金液Ｉ
ＰＪ３３ａを形成したうえ、さらに、金色の２０にＬの
Δｕ−１’ｄ−Ｃｕ合金被１１ｉ３４に喚えて白色のＰ
ｄ−Ｎ ｉ （８０％Ｐｄ）合金液１１１３４ａを２μ
厚電著させ、その後上記第３実施例と同様の工程を絢す
ことによって、マスク材３５塗布対応部分は白色で、有
色液１模３２ａが露出した他の部分は金色のチタン基材
３１が得られる。 さらに、上記第３実施例においてチタン基材３１に換え
てステンレス基材を用いても同様の好結果が得られた。 なお、本発明は上述した各実施例に限定されるものでは
なく、例えば基材の材質は、チタン合金、ニッケル・ク
ロム合金、銅合金等でもよく、また、有色被膜を形成す
るための金属また番よ金属合金としてはチタンやチタン
合金、クロムやクロム合金のほか、バナジウムやバナジ
ウム合金、ジルコニウムやジルコニウム合金、アルミニ
ウム合金、ニッケル合金等でもよい、この有色被膜は、
上述した実施例のＴＩＮの金色系、ＴｉＮ／Ｔｉｃ／Ｔ
ｌ０ｚの混合物による黒色系、ＣｒまたはＣｒ合金をベ
ースとしたＣｒＮＣ等の灰色系のほか、Ｔｉ八へＮの褐
色系があり、さらに、バナジウム、ニオブ、ジルコニウ
ムまたはこれらをベースとした場合には、チタンまたは
チタン合金をベースとした場合に近似する色調となる。 また、基材１１，２１．３１に形成する各被膜の厚さも
上述した各実施例の値に限定されないことはいうまでも
ない。 処−−−來 以上説明したところで明らかなように、本発明によれば
、イオンプレーティング法により金属または金属合金の
有色被膜を形成した後に、湿式法により貴金属メッキを
施すので、従来の湿式法よりも貴金属の使用量が少なく
済むので経済的であり、また、マスキング処理は有色被
膜の形成及び貴金属メッキの後に施すので、マスク材の
剥離作業が容易化されて作業効率が向上するほか、不良
品の発生がほとんど無（なり、さらには製品の耐久性も
向上するという多くの効果を奏する。 【図面の簡単な説明】 図は本発明の好適な実施例を示すもので、第１図は第１
実施例の工程を示す概略図、第２図は本発明を実施する
公知のイオンプレーティング装置の概略図、第３図は第
２実施例の工程を示す（唸略図、第４図は第３実施例の
工程を示す概略図である。 ｌ・・・真空処理槽 ６・・・眼鏡枠尽７Ｆ、１ｔ
１１、２１．３１・・・チタン基材 １２．１２ａ
、 ２２゜２２ａ、 ３２．３２ａ ・・・有色液１！
９ １３．２４−・−金合金被膜 １３ａ、 ２
４ａ・・・Ｐｄ合金被膜１４、２５．３４−−−Ａｕ−
１’ｄ−Ｃｕ合金被１９ １４ａ、 ２５ａ、 ３
４ａ ・・・Ｐｄ−Ｎ１（８０％Ｐｄ）合金液１１９
１５゜２６、３５・・・マスク材 ２３・・
・クロム被膜３３・・・チタン被膜 特許出願人 有限会社福信透金工業所 第１図 第３図 第２図 第４図 明 細 書 特許庁長官 吉 １）文 毅 殿 １、事件の表示 平成１年特 許 願第５８７３６号 ２、発明の名称 装飾品等を多色化する表面処理方法 ３、補正をする者 事件との関係時 許 出 １ 人 住所 福井県鯖江市御幸町１丁目２番６５号名称有限会
社福信蹟金工業所 代表者 木 村 恵 典 ４、代理人■１０３ 住所 東京都中央区日本橋本石町４−６−１３６、Ｉｉ
正の対象 １、発明の名称 装飾品等を多色化する表面処理方法 ２、特許請求の範囲 （１）基材上に、金属または金属合金の有色被膜と、貴
金属の被膜とを、イオンプレーティング法により順次形
成し、続いて湿式方法により貴金属メソ、１−を施した
後、所定部分の貴金属メッキ部分及びイオンプレーティ
ング法で形成した貴金属被膜部分を除去することを特徴
とする装飾品等を多色化する表面処理方法。 （２）有色被膜が金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なることを特徴とする請求項第１項記載の装飾品等を多
色化する表面処理方法。 （３）基材上に、金属または金属合金の有色破膜ど、貴
金属の被膜とを、イオンプレーティング法により順次形
成し、続いて湿式方法により貴金属メッキを施した後、
所定部分にマスキング処理を施し、貴金属メッキ及びイ
オンプレーティング法で形成した貴金属被膜におけるマ
スクされていない部分を溶解除去したうえ、マスク材を
除去することを特徴とする請求項第１項記載の装飾品等
を多色化する表面処理方法。 （４）基材上に、金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なる有色被膜と、ｌ會逼共孔至金属被ＩＩＩと、貴金属
の被膜とを、イオンプレーティング法により順次形成し
、続いて湿式方法により貴金属メッキを施した後、所定
部分にマスキング処理を施し、貴金属メッキ及びイオン
プレーティング法で形成した貴金属被膜とｌ已Ｉ曵ノＬ
ｑ金属破収におけるマスクされていない部分を溶解除去
したうえ、マスク材を除去することを特徴とする装飾品
等を多色化する表面処理方法。 （５）基材上に、金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なる有色液Ｉｌｌと、１余県以外□□□金匡被膜とを、
イオンプレーティング法により順次形成し、続いて湿式
方法により貴金属メッキを施した後、所定部分にマスキ
ング処理を施し、貴金属メッキ及びイオンプレーティン
グ法で形成したｈ品扶外皇金属被ＩＩ！におけるマスク
されていない部分を熔解除去したうえ、マスク材を除去
することを特徴とする装飾品等を多色化する表面処理方
法。 （（ｉ）貴金属以外の金ｆｆｔ被膜が、チタン、チタン
合金、チタン・アルミニウム合金、クロム、クロム合金
、コバルト合金、ニッケル・チタン合金、ニッケル・り
ＩＪｌｈ合金、ジルコニウム、ジルコニウム合金、バナ
ジウム、バナジウム合金のいずれかであることを特徴と
する請求項第４項または第５項記載の装飾品等を多色化
する表面処理方法。 （７）基材上に、金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なる有色被膜と、ニッケル・クロム合金の被膜とを、イ
オンプレーティング法により順次形成し、続いて湿式方
法により貴金属メッキを施した後、所定部分にマスキン
グ処理を施し、貴金属メッキ及びイオンプレーティング
法で形成したニッケル・クロム合金被膜におけるマスク
されていない部分を溶解除去したうえ、マスク月を除去
することを特徴とする装飾品等を多色化する表面処理方
法。 （８）有色被膜がチタン、バナジウム、クロム、ジルコ
ニラｌ、から選ばれた金属または選ばれた金属のアルミ
ニウム合金についての窒化物、炭化物、酸化物の単一ま
たは１Ｍ数の組み合わせからなることを特徴とする請求
項第１項、第３項、第４項、第５項、第６項または第７
項のいずれか１項記載の装飾品等を多色化する表面処理
方法。 （９）湿式方法による貴金属メッキがＡｕ−Ｎｉ＋ Ａ
ｕ−ＣｏＡｕ−Ｐｄ等の金色合金メッキであることを特
徴とする請求項第１項、第３項、第４項、第５項、第６
項または第７項のいずれか１項記戦の装飾品等を多色化
する表面処理方法。 （１０）湿式方法による貴金属メッキが、ｐｄ、 Ｐｄ
−Ｎｔ＋１？ｈ等の白色合金メッキであることを特徴と
する請求項第１項、第３項、第４項、第５項、第６項ま
たは第７項のいずれか１項記載の装飾品等を多色化する
表面処理方法。 ３、発明の詳細な説明 厘１上坐肌■分立 本発明は、時計、眼鏡フレーム、ライター、万年筆、ブ
ローチ等の各■！！装飾品等を多色化する表面処理方法
に関する。 監米■侠± 一般に、装飾品の色彩としては、金、銀、黒等が好まれ
てきたが、近年においては、種々の色調の組み合わせに
よる多色化が好まれる傾向にある。 そして従来は、イオンプレーティング法（本明細書にお
いてイオンプレーティング法とは、イオンプレーティン
グ装置を使用する表面処理方法をすべて含む広義な意味
で用いる）による有色被膜の形成と湿式メッキを組み合
わせた表面処理方法によって多色化を図っている。 この従来におけるイオンプレーティング法による有色被
膜の形成と湿式メッキとの組み合わせによる場合は、ま
ず基材に湿式メッキにより金メッキ等の貴金属メッキを
施し、次に所定部分にマスキング処理を施し、続いてイ
オンプレーティング法により有色扱１１りを形成した後
、有色被膜とともにマスク材を剥離除去し、剥離されな
かった有色被膜部分と露出した貴金属メッキ部分とから
なる、多色の装飾品を得るものである。 ２．■１が ン しようとｔ（毘則 しかしながら、上述した従来の湿式メッキ法を用いた場
合には、マスキング後にイオンプレーティングするため
、イオンプレーティングする際に２５０〜４００℃に加
熱された有機物であるマスク材からガスが発生し、色調
、密着性等の品質に悪影響を及ぼし、また、マスクの上
にまで有色被膜が付着しているので、最終工程でのマス
ク材の剥離除去が容易でな（、大変困難な作業になって
しよい、さらには、剥離されない有色被膜の下にも貴金
属メッキが付着しているので、高価格になってしまうと
いう欠点がある。 本発明は、このような欠点を解消した装飾品等を多色化
する表面処理方法を提供することを目的とする。 課題工邂淋１メ４８り死モ役 上記目的を達成するために本発明は、例えばチタン、チ
タン合金、ステンレス、ニッケル・クロム合金、銅合金
等の基材上に、金属または金属合金、例えばチタン、バ
ナジウム、クロム、ジルコニウム、またはこれらとアル
ミニウムとの合金の好ましくはＪＶ−さ（）、１〜１．
３μの有色被膜と、貴金属、例えば金、パラジウムまた
はこれらの合金の好ましくは厚さ０．５μ以下の被膜と
を、イオンプレーティング法により順次形成し、続いて
湿式方法により、好ましくは有色被膜とは色調の異なる
貴金属メッキを、好ましくは厚さが０．０５〜５μにな
るよう施した後、所定部分に筆塗り、スクリーン印刷等
によりマスキング処理を施し、マスクされていない貴金
属メッキ部分及びイオンプレーティング法による貴金属
被膜部分を溶解除去したうえ、マスク材を除去すること
を特徴とする。 前記有色被膜は金属または金属合金の窒化物、炭化物、
酸化物から選ばれた単一またはｕｉ敗の組み合わせから
なることが好ましい。 また、基材上にイオンプレーティング法により、金属ま
たは金属合金の窒化物、炭化物、酸化物から選ばれた単
一または補数の組み合わせからなる有色被膜と、好まし
くはクロムまたはクロム合金のいずれかの金属被膜と、
貴金属の被膜とを順次形成し、続いて湿式方法により貴
金属メッキを施した後、所定部分にマスキング処理を施
し、マスクされていない貴金属メッキ部分及びイオンプ
レーティング法による貴金属被膜部分とクロムまたはク
ロム合金のいずれかの金属被膜部分を溶解除去する方法
でもよい。 さらに、基材上にイオンプレーティング法により、金属
または金属合金の窒化物、炭化物、酸化物から選ばれた
単一または複数の組み合わせからなる有色被膜を形成し
、さらに好ましくはチタン、チタン合金、チタン・アル
ミニウム合金またはニッケ１ル・クロム合金のいずれか
の金属被膜を形成し、続いて湿式方法により、好ましく
は耐蝕性及び経済性を考慮して０．０５μ〜５μの厚さ
に貴金属メッキを施した後、所定、部分にマスキング処
理を施し、マスクされていない貴金属メッキ部分及びチ
タン、チタン合金、チタン・アルミニウム合金またはニ
ッケルクロム合金のいずれかの金属被膜部分を溶解除去
する方法でもよい。 またさらに、基材上にイオンプレーティング法により、
金属または金属合金の窒化物、炭化物、酸化物から選ば
れた単一または複数の組み合わせからなる有色被膜と、
チタン、チタン合金またはチタン・アルミニウム合金の
いずれかの金属被膜と、貴金属の被膜を順次形成し、続
いて湿式方法により貴金属メッキを施した後、所定部分
にマスキング処理を施し、マスクされていない貴金属メ
ッキ部分及びイオンプレーティング法による貴金属被膜
部分とチタン、チタン合金またはチタン・アルミニウム
合金のいずれかの金属被膜部分を熔解除去する方法でも
よい。 そして、有色被１艮はチタン、バナジウム、クロム、ジ
ルコニウムから選ばれた金属または選ばれた金属のアル
ミニウム合金についての窒化物、炭化物、酸化物の単一
または複数の組み合わせからなることが好ましく、例え
ば、ＴｉＮ、ＴｉＡＩＮあるいはＴｉＮ／ＴｊＣ／Ｔｉ
Ｏ＊の混合物等が挙げられる。 さらに、湿式方法による貴金属メッキはＡｕ−Ｎ１Ａｕ
−Ｇｏ＋ Ａｕ−Ｐｄ等の金色合金メッキ、あるいは、
Ｐｄ、 Ｐｄ−Ｎｉ、Ｒｈ等の白色合金メッキであるこ
とが好ましい。 作−一一一計 イオンプレーティング後の工程でマスキング処理を施す
ので、従来の湿式メッキ法における欠点がなくなる。そ
して、露出した有色被膜と、マスクされて熔解除去され
ない貴金属メッキをはじめとする被膜部分とによって、
多色化が実現される。 大−隻一班 以下、本発明を眼鏡枠に適用した場合の好適な実施例に
ついて、添付図面に基づき詳細に説明する。 ここにおいて、第１図は第１実施例の工程を示す概略図
、第２図は本発明を実施する公知のイオンプレーティン
グ装置の概略図、第３図は第２実施例の工程を示す概略
図、第４図は第３実施例の工程を示す概略図である。 まず、第２図に基づきイオンプレーティング装置につい
て説明する。このイオンプレーティング装置は、従来か
ら知られているもので、真空処理槽ｌ内に、上部にはカ
ソード電極２が、下部には蒸発源ボード３が、互いに対
向するように配置され、直流型［４に接続されるととも
に、ｒｉｉｉ記蒸発源ボード３は加熱電源５によって所
望の温度に加熱制御されるよう構成されている。そして
、ｎ：Ｉ記カソード電極２には、眼鏡枠基材６が吊持さ
れる。 ０１１記ＩＩ！鏡枠基材６の材質としては、チタン、チ
タン合金、ステンレス、ニッケル・クロム合金、銅合金
等が適している。 次に、チタンからなる眼鏡枠基材（以下チタン基材とい
う）を多色化する表面処理法について説明する。 上述したイオンプレーティング装置の真空処理槽１内に
おいて、蒸発源としてチタンを使用し、反応ガスとして
窒素ガスとアセチレンガスの混合ガスを使用して、電子
ビームにより前記チタンを蒸発さゼ、析出速度を約０．
０１〜０．０２μ／分に制御し、１０− ”−１０−”
Ｔｏｒｒの真空下で約３０分間イオンプレーティングを
行い、第１図（０）に示すように、チタン基材１１表面
に１７さ０．４μのＴｉＮ／ＴｉＣの混合物による暗黒
色の有色破膜１２を形成する。続いて、前記真空処理槽
１内における反応ガスの流■を制限し、真空度をｌｏ−
４〜１０− ”Ｔｏｒｒにして、蒸発源ボード３に投入
した２ｇのＡｕ−［’ｄの２０Ｋ Ｌ合金を加熱溶解し
、３分間で蒸発させて、前記暗黒色の有色ＰＩＩｌｎ＠
１２ヲ形成ＬタチタｙＨｔｌｌ！Ｕｌｕ＝、第１図＋ｂ
）に示すように、金色の金合金被１１１１３を０．０５
μ厚付着させる。 次に１．前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基材１１を
取り出し、湿式メッキ法により、第１図１０１に示すよ
うに、２０に【のＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１４を１．
ｕＪｆ。 電若さ・Ｕる。さらに、第１図ｔｄ）に示すように、前
記Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１４の表面の一部にアクリ
ル系塗料からなるマスク材１５を塗布してマスキング処
理した後、金剥離液に浸漬して、第１図＋８１に示すよ
うに、マスクされていない部分の金合金被膜１３及びＡ
ｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１４を溶解剥離する。そして、
第１図１ｆｌに示すように、マスク材１５を除去すると
、マスク材１５除去部分は金色で、他の有色被膜１２露
出部分は１１０黒色のチタン基材１１となる。 以上の方法を４０枚のロントで１０回繰り返し作業した
が、不良品が発生ずることはなかった。 因に、従来の湿式メッキを使用した方法によると、不良
品発生率は４０〜５０％である。 また、上述した実施例の変化例として、反応ガスとして
窒素ガスのみを使用し、チタン基材１１表面に厚さ０．
４μのＴｉＨによる金色の有色被１模１２ａを形成した
く第１図１８１参照）後、真空処理槽ｌ内における反応
ガスのｉ！ｆｌｉｔを制限し、真空度を１０−４〜１０
− ”Ｔｏｒｒにして、Ａｕ−Ｐｄ合金に換えて蒸発源
ボー１！３に投入した２ｇの純Ｐｄ合金を加熱溶解し、
３分間で蒸発させて、前記金色の有色被膜１２ａを形成
したチタン基材１１表面に、白色のＰｄ合金被膜１３ａ
を０．１μ厚付着させる（第１図（ｂｌ参照）、そして
、前記真空処理槽１内から前記チタン基材１１を取り出
し、湿式メッキ法により、Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１
４に換えてＰｄ−Ｎ１（８０％Ｐｄ）合金液ＩＩ５！１
４ ａを２μ厚電着させる（第１図（Ｃ１参照）、さら
に、第１図１ｔｌｌに示すように、前記チタン基材１１
の一部にアクリル系塗料からなるマスク材１５を塗布し
てマスキング処理した後、Ｉ’＋Ｊｌｌ離液に浸漬して
、第１図＋８１に示すように、マスクされていないＰｄ
合金被膜１３ａ及びＰｄ−Ｎｉ（８０％ＰＬＩ）合金？
＆ １１９ ｔ ａ ａを溶解剥離する。そして、第１
図１ｆ）に示すように、マスク材１５を除去すると、マ
スク材１５除去部分は白色で、他の有色被膜１２ａ ｎ
山部分は金色のチタン基材１１が得られる。この変化例
においても不良品の発生は皆無という好結果が得られた
。 なお、上述した実施例において、チタン基材１１に換え
てステンレス基材を用いたところ、チタン基材１１と同
様な結果が得られた。 続いて、第３図に基づきチタン凸材に適用した場合の本
発明の第２実施例を説明する。 第１実施例と同じイオンプレーティング装置の真空処理
槽ｌ内において、蒸発源としてクロムを使用し、反応ガ
スとして窒素ガス及びアセチレンガスの混合ガスを使用
して、電子ビームにより前記クロムを蒸発させ、析出速
度を約０．０１〜０．０２μ／分に制ｉ２１ Ｌ、ＩＧ
−” 〜１０− ”Ｔｏｒｒの真空下で約３０分間イオ
ンプレーティングを行い、第３図ｆａ＋に示すように、
チタン基材２１表面に厚さ０．４μのＣｒＮＣによる灰
色の有色被膜２２を形成する。続いて、前記真空処理槽
１内における反応ガスの流量を制限し、真空度を１０”
’ 〜１０− ”Ｔｏｒｒにして、さらにクロムを加
熱熔解し、約３分間で蒸発させて、第３図（ｂｌに示す
ように、クロム被Ｉｌ＊２３を０．０５μ厚付着させる
。さらに続いて、蒸発源ボード３に投入した２ｇのＡｕ
−Ｐｄの２０Ｋ を合金を加熱溶解し、約３分間で蒸発
させて、ｎ；１記灰色の有色被膜２２及びクロム被膜２
３を形成したチタン基材２１表面に、第３図（Ｃ１に示
すように、金合金被膜２４を０．０５μ厚付着させる。 次に、前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基材２１を取
り出し、湿式メッキ法により、第１図＋８１に示すよう
に、２０にｔのＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜２５をｌμＩ
γ電着させる。さらに、第３図ｔｅｌに示すように、ｎ
ｉｉ記Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜２５の表面の一部にア
クリル系塗料からなるマスク材２６を塗布してマスキン
グ処理した後、合判ｎ１液に浸漬して、第３図（ｒｌに
示すように、マスクされていない部分の金合金被膜２４
及びＡｕ４’ｄ−Ｃｕ合金被１１り２５を溶解剥離し、
続け°ζ５０％塩酸水溶液に浸漬して、第３図（ｇｌに
示すように、同じくマスクされていない部分のクロム被
膜２３を溶解剥離する。そして、第３図（ｈｌに示すよ
うに、マスク材２６を除去すると、マスク材２６除去部
分は金色で、他の有色被膜２２１出部分は灰色のチタン
基材２１が得られる。 以上の方法を４０枚のロフトで１０回繰り返して作業し
たが、第１実施例と同様に、不良品が発生ずることはな
かった。 また、上述した実施例の変化例として、反応ガスのアセ
チレンガスの量を増加することによって、チタン基材２
１表面にＣｒＣＮの厚さ０．４ μの黒色の有色被膜２
２ａを形成した（第３図１０１参照）後、真空処理槽ｌ
内における反応ガスの流量を制限し、真空度を１０−
’ 〜１０− ’Ｔｏｒｒにして、同様に０．０５／ｊ
厚のクロ１１被膜２３を形成（第３図１０１参照）し、
さらにＡｕ−Ｐｃｔ合金に換えて蒸発源ボード３に投入
した２ｇの純ｌｉｄ合金を加熱溶解し、３分間薫発させ
て、ｎ；１記黒色の有色被膜２２ａ及びクロム被膜２３
を形成したチタン基材２１表面に、Ｐｄ合金被膜２４ａ
を０．１μ厚（Ｘ１着させる（第３図１０１参照）。そ
して、前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基＋Ａ’ ２
１を取り出し、湿式メッキ法によりＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合
金被ＩＩり２５に換えてｌ１ｄ−Ｎｉ（８０％Ｐｄ）合
金液Ｍ２５ａを２μμ厚性させる（第３図（ｄｌ参照）
０次に、前記＋１ｄ−Ｎｉ（８０％Ｐｄ）合金液Ｉｆ！
２５ａの表面の一部にアクリル系塗料からなるマスク材
２６を塗布してマスキング処理した（第３図１０１参照
）後、ｌｉｄ剥離液に浸漬して、マスクされていない部
分のＰｄ合金被Ｎ ２４ ａ及びｌ１ｄ−Ｎｉ（８０％
Ｐｄ）合金液１１１２５ａを溶解剥離（第３図（ｆｌ参
照）し、さらに５０％塩酸水溶液に浸漬して、マスクさ
れていない部分のクロム破膜２３を熔解剥離する（第３
図ｔｇ＋参照）、そして、第３図１ｈｌに示すように、
マスク材２Ｇを除去すると、マスク材２Ｇ除去部分は白
色で、他の有色被１模２２ａの露出部分部分は黒色のチ
タン基材２１となる。この変化例においζも不良品の発
生は皆無という好結果が得られた。 なお、上述した各実施例において、チタン基材２１に換
えてステンレスＪＩｓ＋Ａを用いたところ、チタン基材
２１と同様な結果が得られた。 次に、チタン基材に適用した場合の第３実施例について
第４図に基づき説明する。 上記各実施例と同様にしてイオンプレーティング装：Ｉ
！７の真空処理槽１内において、蒸発源としてチタンを
使用し、反応ガスとして窒素ガス及びアセチレンガスの
混合ガスを使用して、電子ビームにより１１；１記チタ
ンを蒸発させ、析出速度を約０．Ｏ１〜０．０２μ／分
に制御し、１０− ” 〜１０− ’Ｔｏｒｒの真空下
で約３０分間イオンプレーティングを行い、第４図＋ａ
＋に示すように、チタン基材３１表面に１ｒｌ−さ０．
４μのＴｉＮ／ＴｉＣの混合物による暗黒色の有色被膜
３２を形成する。続いて、前記真空処理槽１内における
反応ガスの流量をＯとし、真空度を１０−４〜１Ｏ−４
Ｔｏｒｒにして、さらにチタンを電子ビームにより約３
分間で蒸発させ、第４図（ｂ）に示すように、チタン被
膜３３を０．０３μ厚付着させる。 次に、前記真空処理槽１内から前記チタン基材３１を取
り出し、湿式メッキ法により、第４図ｔｅｌに示すよう
に、金色の２０Ｋ ｔのＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜３４
を１μ厚電着させる。さらに、第４図ｉｄｌに示すよう
に、前記チタンｕ ＋ｇ３１の一部にアクリル系■料か
らなるマスク材３５を塗布してマスキング処理した後、
金剥ｌＩＩｗ１．及びチタンｊＡＩＩ Ｆｌｕ液に順次
浸潤して、第４図ｔａｒに示すように、マスクしていな
い部分の金合金破１！５１３４及びチタン被膜３３を溶
解ｆｉｊｌｌ Ｍする。 そして、第４図（ｆ）に示すように、マスク材３５を除
去すると、マスク材３５除去部分は金色で、他の有色被
膜３２が露出した部分は暗黒色のチタン基材３１が得ら
れる。 また、上記第３実施例において、反応ガスを窒素ガスだ
けとすれば、ＴｉＮによる金色の有色被膜３２ａが形成
でき、この上にチタン破膜３３に換えてチタン合金被膜
３３ａを形成したうえ、さらに、金色の２０にＬのＡｕ
−Ｐｄ−Ｃｕ合金被ｊ模３４に換えて白色の１ｌｄＮｉ
（８０％Ｐｄ）合金被膜３４ａをｆｕｌｌ電着させ、そ
の後上記第３実施例と同様の工程を施すことによって、
マスク材３５塗布対応部分は白色で、有色被１模３２ｉ
がｇ貫出した他の部分は金色のチタン基材３１が得られ
る。 さらに、上記第３実施例においてチタン基材３１に１ｔ
Ａえてステンレスｌを用いても同様の好結果が得られた
。 なお、本発明は上述した各実施例に限定されるものでは
な（、例えば基材の材質は、チタン合金、ニッケル・ク
ロム合金、銅合金等でもよく、また、有色被膜を形成す
るだめの金属または金属合金としてはチタンやチタン合
金、クロムやクロム合金のほか、バナジウムやバナジウ
ム合金、ジルコニウムやジルコニウム合金、アルミニウ
ム合金、ニッケル合金等でもよい、この有色被膜は、上
述した実施例のＴｉＮの金色系、ＴｉＮ／Ｔｉｃ／ＴＩ
Ｏ！の混合物による黒色系、ＣｒまたはＣｒ合金をベー
スとしたＣｒＮＣ等の灰色系のほか、ＴｉＡＩＮの褐色
系があり、さらに、バナジウム、ニオブ、ジルコニウム
またはこれらをベースとした場合には、チタンまたはチ
タン合金をベースとした場合に近イ以する色調となる。 また、基材１１，２１．３１に形成する各被膜の厚さも
上述した各実施例の値に限定されないことはいうまでも
ない。 肱−−−果 以上説明したところで明らかなように、本発明によれば
、イオンプレーティング法により金属または金属合金の
有色被膜を形成した後に、湿式法により負金属メッキを
施すので、従来の湿式法よりも貴金属の使用量が少なく
済むので経済的であり、また、マスキング処理は有色被
膜の形成及びｎ金属メッキの後に施すので、マスク材の
剥離作業が容易化されて作業効率が向上するほか、不良
品の発生がほとんど無くなり、さらには製品の耐久性も
向上するという多くの効果を奏する。
材１５を除去すると、マスク材１５除去部分は白色で、
他の有色被膜１２ａ ｎ山部分は金色のチタン基材１１
が得られる。この変化例においても不良品の発生は皆無
という好結果が得られた。 なお、上述した実施例において、チタン基材１１に換え
てステンレス基材を用いたところ、チタン基材１１と同
様な結果が得られた。 続いて、第３図に基づきチタン基材に適用した場合の本
発明の第２実施例を説明する。 第１実施例と同じイオンプレーティング装置の真空処理
槽ｌ内において、蒸発源としてクロムを使用し、反応ガ
スとして窒素ガス及びアセチレンガスの混合ガスを使用
して、電子ビームにより前記クロムを蒸発させ、析出速
度を約０．Ｏ１〜０．０２μ／分に制御能シ、１０−
” 〜１０− ”Ｔｏｒｒの真空下で約３０分間イオン
プレーティングを行い、第３図１ａ）に示すように、チ
タン基材２１表面にｊγさ０．４μのＣｒＮＣによる灰
色の有色被膜２２を形成する。続いて、前記真空処理槽
１内における反応ガスの流量を制限し、真空度をｌロー
４〜１０−”Ｔｏｒｒにして、さらにクロムを加熱溶解
し、約３分間で蒸発させて、第３図ｔｂ＋に示すように
、クロ１％？＆ｌｌ５１２３を０．０５μ厚付着させる
。さらに続いて、蒸発源ボード３に投入した２ｇのＡｕ
−Ｐｄの２０に【合金を加熱溶解し、約３分間で蒸発さ
せて、前記灰色の有色液１２２２及びクロム被膜２３を
形成したチタン基材２１表面に、第３図（ｅ）に示すよ
うに、金合金被膜２４を０．０５μ厚付着させる。 次に、前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基材２１を取
り出し、湿式メッキ法により、第３図（ｄｌに示すよう
に、２０に會、のＡｕ−１’ｄ−Ｃｕ合金被膜２５を１
μ厚電着させる。さらに、第３図ｔｅ＋に示すように、
前記Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜２５の表面の一部にアク
リル系塗料からなるマスク材２６を塗布してマスキング
処理した後、金剥離液に浸漬して、第３図（「）に示す
ように、マスクされていない部分の金合金被膜２４及び
Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金破膜２５を溶解剥離し、続けて５
０％塩酸水溶液に浸漬して、第３図（ｇｌに示すように
、同じくマスクされていない部分のクロム被膜２３を溶
解剥離する。そして、第３図ｔｈｌに示すように、マス
ク材２６を除去すると、マスク材２６除去部分は金色で
、他の有色被膜２２ｎ山部分は灰色のチタン基材２１が
得られる。 以上の方法を４０枚のロフトで１０回繰り返して作業し
たが、第１実施例と同様に、不良品が発生することはな
かった。 また、上述した実施例の変化例として、反応ガスのアセ
チレンガスの量を増加することによって、チタン基材２
１表面にＣｒＣＮの厚さ０．４ μの黒色の有色液１１
５！２２ａを形成した（第３図（８）参照）後、真空処
理槽ｌ内における反応ガスの流量を制服し、真空度を１
０− ’ 〜１０− ”Ｔｏｒｒにして、同様に０．０
５ ｐ厚のクロム被膜２３を形成（第３図（ｂｌ参照）
し、さらにΔｕ−１’ｄ合金に換えて蒸発源ボード３に
投入した２ｇの純Ｐｄ合金を加熱溶解し、３分間蒸発さ
せて、前記黒色の有色被膜２２ａ及びクロム被膜２３を
形成したチタン基材２１表面に、Ｐｄ合金被膜２４ａを
０．１μ厚付着さ・ける（第３図（Ｃ１参照）、そして
、前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基材２１を取り出
し、湿式メッキ法により、Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜２
５に換えてＰｄ−Ｎ１（８０％Ｐｄ）合金被膜２５ａを
２μ厚電着させる（第３図１ｄｌ参照）０次に、前記Ｐ
ｃ！−Ｎｌ （８０％Ｐｄ）合金破膜２５ａの表面の一
部にアクリル系塗料からなるマスク材２６を塗布してマ
スキング処理した（第３図（ｅ）参照）後、Ｐｄ剥離液
に浸漬して、マスクされていない部分のＰｄ合金ＰＩＩ
ＰＩＡ ２４ ａ及びＰｄ−Ｎ１（８０％Ｐｄ）合金被
膜２５ａを溶解剥離（第３図ｆｆ）参照）し、さらに５
０％塩酸水溶液に浸漬して、マスクされていない部分の
クロム被膜２３を溶解剥離する（第３図１ｇ１参照）、
そして、第３図（ｈｌに示すように、マスク材２６を除
去すると、マスク材２６除去部分は白色で、他の有色被
膜２２ａの露出部分部分は黒色のチタン基材２１となる
。この変化例においても不良品の発生は皆無という好結
果が得られた。 なお、上述した各実施例において、チタン基材２１に換
えてステンレス基材を用いたところ、チタン基材２１と
同様な結果が得られた。 次に、チタン基材に適用した場合の第３実施例について
第４図に基づき説明する。 上記各実施例と同様にしてイオンプレーティング装置の
真空処理槽ｌ内において、蒸発源としてチタンを使用し
、反応ガスとして窒素ガス及びアセチレンガスの混合ガ
スを使用して、電子ビームにより…１記チタンを蒸発さ
せ、析出速度を約０．０１〜０．０２／Ｊ／分に制御ｎ
シ、１０″”〜１０−’Ｔｏｒｒの真空下で約３０分間
イオンプレーティングを行い、第４図＋ａ）に示すよう
に、チタン基材３１表面に厚さ０．４μのＴｉＮ／Ｔｉ
ｃの混合物による暗黒色の有色破膜３２を形成する。続
いて、＋１７１記真空処理槽１内における反応ガスの流
量を０とし、真空度を１Ｏ−４〜１０− ”Ｔｏｒｒに
して、さらにチタンを電子ビームにより約３分間で蒸発
させ、第４図ｔｂｌに示すように、グ・タン破１１Ｇ１
３３を０．０３μ厚付着させる。 次に、前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基材３１を取
り出し、湿式メッキ法により、第４図ｔｃ＋に示すよう
に、金色の２０１ ｔのＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜３４
を１μ厚電着させる。さらに、第４図ｆｄ）に示すよう
に、前記チタン基材３１の一部にアクリル系塗料からな
るマスク材３５を塗布してマスキング処理した後、金！
ＰｊＩｉｌｉｌｉ液及びチタン剥離液に順次浸潤して、
第４図ｉｅ）に示すように、マスクしていない部分の金
合金被１１５！３４及びチタン被１１１３３を溶解剥離
する。 そして、第４図（ｆｌに示すように、マスク材３５を除
去すると、マスク材３５除去部分は金色で、他の有色液
Ｉｔ！３３２が露出した部分は暗黒色のチタン基材３１
が得られる。 また、上記第３実施例において、反応ガスを窒素ガスた
りとすれば、ＴｉＮによる金色の有色被膜３２ａが形成
でき、この上にチタン被膜３３に換えてチタン合金液Ｉ
ＰＪ３３ａを形成したうえ、さらに、金色の２０にＬの
Δｕ−１’ｄ−Ｃｕ合金被１１ｉ３４に喚えて白色のＰ
ｄ−Ｎ ｉ （８０％Ｐｄ）合金液１１１３４ａを２μ
厚電著させ、その後上記第３実施例と同様の工程を絢す
ことによって、マスク材３５塗布対応部分は白色で、有
色液１模３２ａが露出した他の部分は金色のチタン基材
３１が得られる。 さらに、上記第３実施例においてチタン基材３１に換え
てステンレス基材を用いても同様の好結果が得られた。 なお、本発明は上述した各実施例に限定されるものでは
なく、例えば基材の材質は、チタン合金、ニッケル・ク
ロム合金、銅合金等でもよく、また、有色被膜を形成す
るための金属また番よ金属合金としてはチタンやチタン
合金、クロムやクロム合金のほか、バナジウムやバナジ
ウム合金、ジルコニウムやジルコニウム合金、アルミニ
ウム合金、ニッケル合金等でもよい、この有色被膜は、
上述した実施例のＴＩＮの金色系、ＴｉＮ／Ｔｉｃ／Ｔ
ｌ０ｚの混合物による黒色系、ＣｒまたはＣｒ合金をベ
ースとしたＣｒＮＣ等の灰色系のほか、Ｔｉ八へＮの褐
色系があり、さらに、バナジウム、ニオブ、ジルコニウ
ムまたはこれらをベースとした場合には、チタンまたは
チタン合金をベースとした場合に近似する色調となる。 また、基材１１，２１．３１に形成する各被膜の厚さも
上述した各実施例の値に限定されないことはいうまでも
ない。 処−−−來 以上説明したところで明らかなように、本発明によれば
、イオンプレーティング法により金属または金属合金の
有色被膜を形成した後に、湿式法により貴金属メッキを
施すので、従来の湿式法よりも貴金属の使用量が少なく
済むので経済的であり、また、マスキング処理は有色被
膜の形成及び貴金属メッキの後に施すので、マスク材の
剥離作業が容易化されて作業効率が向上するほか、不良
品の発生がほとんど無（なり、さらには製品の耐久性も
向上するという多くの効果を奏する。 【図面の簡単な説明】 図は本発明の好適な実施例を示すもので、第１図は第１
実施例の工程を示す概略図、第２図は本発明を実施する
公知のイオンプレーティング装置の概略図、第３図は第
２実施例の工程を示す（唸略図、第４図は第３実施例の
工程を示す概略図である。 ｌ・・・真空処理槽 ６・・・眼鏡枠尽７Ｆ、１ｔ
１１、２１．３１・・・チタン基材 １２．１２ａ
、 ２２゜２２ａ、 ３２．３２ａ ・・・有色液１！
９ １３．２４−・−金合金被膜 １３ａ、 ２
４ａ・・・Ｐｄ合金被膜１４、２５．３４−−−Ａｕ−
１’ｄ−Ｃｕ合金被１９ １４ａ、 ２５ａ、 ３
４ａ ・・・Ｐｄ−Ｎ１（８０％Ｐｄ）合金液１１９
１５゜２６、３５・・・マスク材 ２３・・
・クロム被膜３３・・・チタン被膜 特許出願人 有限会社福信透金工業所 第１図 第３図 第２図 第４図 明 細 書 特許庁長官 吉 １）文 毅 殿 １、事件の表示 平成１年特 許 願第５８７３６号 ２、発明の名称 装飾品等を多色化する表面処理方法 ３、補正をする者 事件との関係時 許 出 １ 人 住所 福井県鯖江市御幸町１丁目２番６５号名称有限会
社福信蹟金工業所 代表者 木 村 恵 典 ４、代理人■１０３ 住所 東京都中央区日本橋本石町４−６−１３６、Ｉｉ
正の対象 １、発明の名称 装飾品等を多色化する表面処理方法 ２、特許請求の範囲 （１）基材上に、金属または金属合金の有色被膜と、貴
金属の被膜とを、イオンプレーティング法により順次形
成し、続いて湿式方法により貴金属メソ、１−を施した
後、所定部分の貴金属メッキ部分及びイオンプレーティ
ング法で形成した貴金属被膜部分を除去することを特徴
とする装飾品等を多色化する表面処理方法。 （２）有色被膜が金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なることを特徴とする請求項第１項記載の装飾品等を多
色化する表面処理方法。 （３）基材上に、金属または金属合金の有色破膜ど、貴
金属の被膜とを、イオンプレーティング法により順次形
成し、続いて湿式方法により貴金属メッキを施した後、
所定部分にマスキング処理を施し、貴金属メッキ及びイ
オンプレーティング法で形成した貴金属被膜におけるマ
スクされていない部分を溶解除去したうえ、マスク材を
除去することを特徴とする請求項第１項記載の装飾品等
を多色化する表面処理方法。 （４）基材上に、金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なる有色被膜と、ｌ會逼共孔至金属被ＩＩＩと、貴金属
の被膜とを、イオンプレーティング法により順次形成し
、続いて湿式方法により貴金属メッキを施した後、所定
部分にマスキング処理を施し、貴金属メッキ及びイオン
プレーティング法で形成した貴金属被膜とｌ已Ｉ曵ノＬ
ｑ金属破収におけるマスクされていない部分を溶解除去
したうえ、マスク材を除去することを特徴とする装飾品
等を多色化する表面処理方法。 （５）基材上に、金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なる有色液Ｉｌｌと、１余県以外□□□金匡被膜とを、
イオンプレーティング法により順次形成し、続いて湿式
方法により貴金属メッキを施した後、所定部分にマスキ
ング処理を施し、貴金属メッキ及びイオンプレーティン
グ法で形成したｈ品扶外皇金属被ＩＩ！におけるマスク
されていない部分を熔解除去したうえ、マスク材を除去
することを特徴とする装飾品等を多色化する表面処理方
法。 （（ｉ）貴金属以外の金ｆｆｔ被膜が、チタン、チタン
合金、チタン・アルミニウム合金、クロム、クロム合金
、コバルト合金、ニッケル・チタン合金、ニッケル・り
ＩＪｌｈ合金、ジルコニウム、ジルコニウム合金、バナ
ジウム、バナジウム合金のいずれかであることを特徴と
する請求項第４項または第５項記載の装飾品等を多色化
する表面処理方法。 （７）基材上に、金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なる有色被膜と、ニッケル・クロム合金の被膜とを、イ
オンプレーティング法により順次形成し、続いて湿式方
法により貴金属メッキを施した後、所定部分にマスキン
グ処理を施し、貴金属メッキ及びイオンプレーティング
法で形成したニッケル・クロム合金被膜におけるマスク
されていない部分を溶解除去したうえ、マスク月を除去
することを特徴とする装飾品等を多色化する表面処理方
法。 （８）有色被膜がチタン、バナジウム、クロム、ジルコ
ニラｌ、から選ばれた金属または選ばれた金属のアルミ
ニウム合金についての窒化物、炭化物、酸化物の単一ま
たは１Ｍ数の組み合わせからなることを特徴とする請求
項第１項、第３項、第４項、第５項、第６項または第７
項のいずれか１項記載の装飾品等を多色化する表面処理
方法。 （９）湿式方法による貴金属メッキがＡｕ−Ｎｉ＋ Ａ
ｕ−ＣｏＡｕ−Ｐｄ等の金色合金メッキであることを特
徴とする請求項第１項、第３項、第４項、第５項、第６
項または第７項のいずれか１項記戦の装飾品等を多色化
する表面処理方法。 （１０）湿式方法による貴金属メッキが、ｐｄ、 Ｐｄ
−Ｎｔ＋１？ｈ等の白色合金メッキであることを特徴と
する請求項第１項、第３項、第４項、第５項、第６項ま
たは第７項のいずれか１項記載の装飾品等を多色化する
表面処理方法。 ３、発明の詳細な説明 厘１上坐肌■分立 本発明は、時計、眼鏡フレーム、ライター、万年筆、ブ
ローチ等の各■！！装飾品等を多色化する表面処理方法
に関する。 監米■侠± 一般に、装飾品の色彩としては、金、銀、黒等が好まれ
てきたが、近年においては、種々の色調の組み合わせに
よる多色化が好まれる傾向にある。 そして従来は、イオンプレーティング法（本明細書にお
いてイオンプレーティング法とは、イオンプレーティン
グ装置を使用する表面処理方法をすべて含む広義な意味
で用いる）による有色被膜の形成と湿式メッキを組み合
わせた表面処理方法によって多色化を図っている。 この従来におけるイオンプレーティング法による有色被
膜の形成と湿式メッキとの組み合わせによる場合は、ま
ず基材に湿式メッキにより金メッキ等の貴金属メッキを
施し、次に所定部分にマスキング処理を施し、続いてイ
オンプレーティング法により有色扱１１りを形成した後
、有色被膜とともにマスク材を剥離除去し、剥離されな
かった有色被膜部分と露出した貴金属メッキ部分とから
なる、多色の装飾品を得るものである。 ２．■１が ン しようとｔ（毘則 しかしながら、上述した従来の湿式メッキ法を用いた場
合には、マスキング後にイオンプレーティングするため
、イオンプレーティングする際に２５０〜４００℃に加
熱された有機物であるマスク材からガスが発生し、色調
、密着性等の品質に悪影響を及ぼし、また、マスクの上
にまで有色被膜が付着しているので、最終工程でのマス
ク材の剥離除去が容易でな（、大変困難な作業になって
しよい、さらには、剥離されない有色被膜の下にも貴金
属メッキが付着しているので、高価格になってしまうと
いう欠点がある。 本発明は、このような欠点を解消した装飾品等を多色化
する表面処理方法を提供することを目的とする。 課題工邂淋１メ４８り死モ役 上記目的を達成するために本発明は、例えばチタン、チ
タン合金、ステンレス、ニッケル・クロム合金、銅合金
等の基材上に、金属または金属合金、例えばチタン、バ
ナジウム、クロム、ジルコニウム、またはこれらとアル
ミニウムとの合金の好ましくはＪＶ−さ（）、１〜１．
３μの有色被膜と、貴金属、例えば金、パラジウムまた
はこれらの合金の好ましくは厚さ０．５μ以下の被膜と
を、イオンプレーティング法により順次形成し、続いて
湿式方法により、好ましくは有色被膜とは色調の異なる
貴金属メッキを、好ましくは厚さが０．０５〜５μにな
るよう施した後、所定部分に筆塗り、スクリーン印刷等
によりマスキング処理を施し、マスクされていない貴金
属メッキ部分及びイオンプレーティング法による貴金属
被膜部分を溶解除去したうえ、マスク材を除去すること
を特徴とする。 前記有色被膜は金属または金属合金の窒化物、炭化物、
酸化物から選ばれた単一またはｕｉ敗の組み合わせから
なることが好ましい。 また、基材上にイオンプレーティング法により、金属ま
たは金属合金の窒化物、炭化物、酸化物から選ばれた単
一または補数の組み合わせからなる有色被膜と、好まし
くはクロムまたはクロム合金のいずれかの金属被膜と、
貴金属の被膜とを順次形成し、続いて湿式方法により貴
金属メッキを施した後、所定部分にマスキング処理を施
し、マスクされていない貴金属メッキ部分及びイオンプ
レーティング法による貴金属被膜部分とクロムまたはク
ロム合金のいずれかの金属被膜部分を溶解除去する方法
でもよい。 さらに、基材上にイオンプレーティング法により、金属
または金属合金の窒化物、炭化物、酸化物から選ばれた
単一または複数の組み合わせからなる有色被膜を形成し
、さらに好ましくはチタン、チタン合金、チタン・アル
ミニウム合金またはニッケ１ル・クロム合金のいずれか
の金属被膜を形成し、続いて湿式方法により、好ましく
は耐蝕性及び経済性を考慮して０．０５μ〜５μの厚さ
に貴金属メッキを施した後、所定、部分にマスキング処
理を施し、マスクされていない貴金属メッキ部分及びチ
タン、チタン合金、チタン・アルミニウム合金またはニ
ッケルクロム合金のいずれかの金属被膜部分を溶解除去
する方法でもよい。 またさらに、基材上にイオンプレーティング法により、
金属または金属合金の窒化物、炭化物、酸化物から選ば
れた単一または複数の組み合わせからなる有色被膜と、
チタン、チタン合金またはチタン・アルミニウム合金の
いずれかの金属被膜と、貴金属の被膜を順次形成し、続
いて湿式方法により貴金属メッキを施した後、所定部分
にマスキング処理を施し、マスクされていない貴金属メ
ッキ部分及びイオンプレーティング法による貴金属被膜
部分とチタン、チタン合金またはチタン・アルミニウム
合金のいずれかの金属被膜部分を熔解除去する方法でも
よい。 そして、有色被１艮はチタン、バナジウム、クロム、ジ
ルコニウムから選ばれた金属または選ばれた金属のアル
ミニウム合金についての窒化物、炭化物、酸化物の単一
または複数の組み合わせからなることが好ましく、例え
ば、ＴｉＮ、ＴｉＡＩＮあるいはＴｉＮ／ＴｊＣ／Ｔｉ
Ｏ＊の混合物等が挙げられる。 さらに、湿式方法による貴金属メッキはＡｕ−Ｎ１Ａｕ
−Ｇｏ＋ Ａｕ−Ｐｄ等の金色合金メッキ、あるいは、
Ｐｄ、 Ｐｄ−Ｎｉ、Ｒｈ等の白色合金メッキであるこ
とが好ましい。 作−一一一計 イオンプレーティング後の工程でマスキング処理を施す
ので、従来の湿式メッキ法における欠点がなくなる。そ
して、露出した有色被膜と、マスクされて熔解除去され
ない貴金属メッキをはじめとする被膜部分とによって、
多色化が実現される。 大−隻一班 以下、本発明を眼鏡枠に適用した場合の好適な実施例に
ついて、添付図面に基づき詳細に説明する。 ここにおいて、第１図は第１実施例の工程を示す概略図
、第２図は本発明を実施する公知のイオンプレーティン
グ装置の概略図、第３図は第２実施例の工程を示す概略
図、第４図は第３実施例の工程を示す概略図である。 まず、第２図に基づきイオンプレーティング装置につい
て説明する。このイオンプレーティング装置は、従来か
ら知られているもので、真空処理槽ｌ内に、上部にはカ
ソード電極２が、下部には蒸発源ボード３が、互いに対
向するように配置され、直流型［４に接続されるととも
に、ｒｉｉｉ記蒸発源ボード３は加熱電源５によって所
望の温度に加熱制御されるよう構成されている。そして
、ｎ：Ｉ記カソード電極２には、眼鏡枠基材６が吊持さ
れる。 ０１１記ＩＩ！鏡枠基材６の材質としては、チタン、チ
タン合金、ステンレス、ニッケル・クロム合金、銅合金
等が適している。 次に、チタンからなる眼鏡枠基材（以下チタン基材とい
う）を多色化する表面処理法について説明する。 上述したイオンプレーティング装置の真空処理槽１内に
おいて、蒸発源としてチタンを使用し、反応ガスとして
窒素ガスとアセチレンガスの混合ガスを使用して、電子
ビームにより前記チタンを蒸発さゼ、析出速度を約０．
０１〜０．０２μ／分に制御し、１０− ”−１０−”
Ｔｏｒｒの真空下で約３０分間イオンプレーティングを
行い、第１図（０）に示すように、チタン基材１１表面
に１７さ０．４μのＴｉＮ／ＴｉＣの混合物による暗黒
色の有色破膜１２を形成する。続いて、前記真空処理槽
１内における反応ガスの流■を制限し、真空度をｌｏ−
４〜１０− ”Ｔｏｒｒにして、蒸発源ボード３に投入
した２ｇのＡｕ−［’ｄの２０Ｋ Ｌ合金を加熱溶解し
、３分間で蒸発させて、前記暗黒色の有色ＰＩＩｌｎ＠
１２ヲ形成ＬタチタｙＨｔｌｌ！Ｕｌｕ＝、第１図＋ｂ
）に示すように、金色の金合金被１１１１３を０．０５
μ厚付着させる。 次に１．前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基材１１を
取り出し、湿式メッキ法により、第１図１０１に示すよ
うに、２０に【のＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１４を１．
ｕＪｆ。 電若さ・Ｕる。さらに、第１図ｔｄ）に示すように、前
記Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１４の表面の一部にアクリ
ル系塗料からなるマスク材１５を塗布してマスキング処
理した後、金剥離液に浸漬して、第１図＋８１に示すよ
うに、マスクされていない部分の金合金被膜１３及びＡ
ｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１４を溶解剥離する。そして、
第１図１ｆｌに示すように、マスク材１５を除去すると
、マスク材１５除去部分は金色で、他の有色被膜１２露
出部分は１１０黒色のチタン基材１１となる。 以上の方法を４０枚のロントで１０回繰り返し作業した
が、不良品が発生ずることはなかった。 因に、従来の湿式メッキを使用した方法によると、不良
品発生率は４０〜５０％である。 また、上述した実施例の変化例として、反応ガスとして
窒素ガスのみを使用し、チタン基材１１表面に厚さ０．
４μのＴｉＨによる金色の有色被１模１２ａを形成した
く第１図１８１参照）後、真空処理槽ｌ内における反応
ガスのｉ！ｆｌｉｔを制限し、真空度を１０−４〜１０
− ”Ｔｏｒｒにして、Ａｕ−Ｐｄ合金に換えて蒸発源
ボー１！３に投入した２ｇの純Ｐｄ合金を加熱溶解し、
３分間で蒸発させて、前記金色の有色被膜１２ａを形成
したチタン基材１１表面に、白色のＰｄ合金被膜１３ａ
を０．１μ厚付着させる（第１図（ｂｌ参照）、そして
、前記真空処理槽１内から前記チタン基材１１を取り出
し、湿式メッキ法により、Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜１
４に換えてＰｄ−Ｎ１（８０％Ｐｄ）合金液ＩＩ５！１
４ ａを２μ厚電着させる（第１図（Ｃ１参照）、さら
に、第１図１ｔｌｌに示すように、前記チタン基材１１
の一部にアクリル系塗料からなるマスク材１５を塗布し
てマスキング処理した後、Ｉ’＋Ｊｌｌ離液に浸漬して
、第１図＋８１に示すように、マスクされていないＰｄ
合金被膜１３ａ及びＰｄ−Ｎｉ（８０％ＰＬＩ）合金？
＆ １１９ ｔ ａ ａを溶解剥離する。そして、第１
図１ｆ）に示すように、マスク材１５を除去すると、マ
スク材１５除去部分は白色で、他の有色被膜１２ａ ｎ
山部分は金色のチタン基材１１が得られる。この変化例
においても不良品の発生は皆無という好結果が得られた
。 なお、上述した実施例において、チタン基材１１に換え
てステンレス基材を用いたところ、チタン基材１１と同
様な結果が得られた。 続いて、第３図に基づきチタン凸材に適用した場合の本
発明の第２実施例を説明する。 第１実施例と同じイオンプレーティング装置の真空処理
槽ｌ内において、蒸発源としてクロムを使用し、反応ガ
スとして窒素ガス及びアセチレンガスの混合ガスを使用
して、電子ビームにより前記クロムを蒸発させ、析出速
度を約０．０１〜０．０２μ／分に制ｉ２１ Ｌ、ＩＧ
−” 〜１０− ”Ｔｏｒｒの真空下で約３０分間イオ
ンプレーティングを行い、第３図ｆａ＋に示すように、
チタン基材２１表面に厚さ０．４μのＣｒＮＣによる灰
色の有色被膜２２を形成する。続いて、前記真空処理槽
１内における反応ガスの流量を制限し、真空度を１０”
’ 〜１０− ”Ｔｏｒｒにして、さらにクロムを加
熱熔解し、約３分間で蒸発させて、第３図（ｂｌに示す
ように、クロム被Ｉｌ＊２３を０．０５μ厚付着させる
。さらに続いて、蒸発源ボード３に投入した２ｇのＡｕ
−Ｐｄの２０Ｋ を合金を加熱溶解し、約３分間で蒸発
させて、ｎ；１記灰色の有色被膜２２及びクロム被膜２
３を形成したチタン基材２１表面に、第３図（Ｃ１に示
すように、金合金被膜２４を０．０５μ厚付着させる。 次に、前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基材２１を取
り出し、湿式メッキ法により、第１図＋８１に示すよう
に、２０にｔのＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜２５をｌμＩ
γ電着させる。さらに、第３図ｔｅｌに示すように、ｎ
ｉｉ記Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜２５の表面の一部にア
クリル系塗料からなるマスク材２６を塗布してマスキン
グ処理した後、合判ｎ１液に浸漬して、第３図（ｒｌに
示すように、マスクされていない部分の金合金被膜２４
及びＡｕ４’ｄ−Ｃｕ合金被１１り２５を溶解剥離し、
続け°ζ５０％塩酸水溶液に浸漬して、第３図（ｇｌに
示すように、同じくマスクされていない部分のクロム被
膜２３を溶解剥離する。そして、第３図（ｈｌに示すよ
うに、マスク材２６を除去すると、マスク材２６除去部
分は金色で、他の有色被膜２２１出部分は灰色のチタン
基材２１が得られる。 以上の方法を４０枚のロフトで１０回繰り返して作業し
たが、第１実施例と同様に、不良品が発生ずることはな
かった。 また、上述した実施例の変化例として、反応ガスのアセ
チレンガスの量を増加することによって、チタン基材２
１表面にＣｒＣＮの厚さ０．４ μの黒色の有色被膜２
２ａを形成した（第３図１０１参照）後、真空処理槽ｌ
内における反応ガスの流量を制限し、真空度を１０−
’ 〜１０− ’Ｔｏｒｒにして、同様に０．０５／ｊ
厚のクロ１１被膜２３を形成（第３図１０１参照）し、
さらにＡｕ−Ｐｃｔ合金に換えて蒸発源ボード３に投入
した２ｇの純ｌｉｄ合金を加熱溶解し、３分間薫発させ
て、ｎ；１記黒色の有色被膜２２ａ及びクロム被膜２３
を形成したチタン基材２１表面に、Ｐｄ合金被膜２４ａ
を０．１μ厚（Ｘ１着させる（第３図１０１参照）。そ
して、前記真空処理槽ｌ内から前記チタン基＋Ａ’ ２
１を取り出し、湿式メッキ法によりＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合
金被ＩＩり２５に換えてｌ１ｄ−Ｎｉ（８０％Ｐｄ）合
金液Ｍ２５ａを２μμ厚性させる（第３図（ｄｌ参照）
０次に、前記＋１ｄ−Ｎｉ（８０％Ｐｄ）合金液Ｉｆ！
２５ａの表面の一部にアクリル系塗料からなるマスク材
２６を塗布してマスキング処理した（第３図１０１参照
）後、ｌｉｄ剥離液に浸漬して、マスクされていない部
分のＰｄ合金被Ｎ ２４ ａ及びｌ１ｄ−Ｎｉ（８０％
Ｐｄ）合金液１１１２５ａを溶解剥離（第３図（ｆｌ参
照）し、さらに５０％塩酸水溶液に浸漬して、マスクさ
れていない部分のクロム破膜２３を熔解剥離する（第３
図ｔｇ＋参照）、そして、第３図１ｈｌに示すように、
マスク材２Ｇを除去すると、マスク材２Ｇ除去部分は白
色で、他の有色被１模２２ａの露出部分部分は黒色のチ
タン基材２１となる。この変化例においζも不良品の発
生は皆無という好結果が得られた。 なお、上述した各実施例において、チタン基材２１に換
えてステンレスＪＩｓ＋Ａを用いたところ、チタン基材
２１と同様な結果が得られた。 次に、チタン基材に適用した場合の第３実施例について
第４図に基づき説明する。 上記各実施例と同様にしてイオンプレーティング装：Ｉ
！７の真空処理槽１内において、蒸発源としてチタンを
使用し、反応ガスとして窒素ガス及びアセチレンガスの
混合ガスを使用して、電子ビームにより１１；１記チタ
ンを蒸発させ、析出速度を約０．Ｏ１〜０．０２μ／分
に制御し、１０− ” 〜１０− ’Ｔｏｒｒの真空下
で約３０分間イオンプレーティングを行い、第４図＋ａ
＋に示すように、チタン基材３１表面に１ｒｌ−さ０．
４μのＴｉＮ／ＴｉＣの混合物による暗黒色の有色被膜
３２を形成する。続いて、前記真空処理槽１内における
反応ガスの流量をＯとし、真空度を１０−４〜１Ｏ−４
Ｔｏｒｒにして、さらにチタンを電子ビームにより約３
分間で蒸発させ、第４図（ｂ）に示すように、チタン被
膜３３を０．０３μ厚付着させる。 次に、前記真空処理槽１内から前記チタン基材３１を取
り出し、湿式メッキ法により、第４図ｔｅｌに示すよう
に、金色の２０Ｋ ｔのＡｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜３４
を１μ厚電着させる。さらに、第４図ｉｄｌに示すよう
に、前記チタンｕ ＋ｇ３１の一部にアクリル系■料か
らなるマスク材３５を塗布してマスキング処理した後、
金剥ｌＩＩｗ１．及びチタンｊＡＩＩ Ｆｌｕ液に順次
浸潤して、第４図ｔａｒに示すように、マスクしていな
い部分の金合金破１！５１３４及びチタン被膜３３を溶
解ｆｉｊｌｌ Ｍする。 そして、第４図（ｆ）に示すように、マスク材３５を除
去すると、マスク材３５除去部分は金色で、他の有色被
膜３２が露出した部分は暗黒色のチタン基材３１が得ら
れる。 また、上記第３実施例において、反応ガスを窒素ガスだ
けとすれば、ＴｉＮによる金色の有色被膜３２ａが形成
でき、この上にチタン破膜３３に換えてチタン合金被膜
３３ａを形成したうえ、さらに、金色の２０にＬのＡｕ
−Ｐｄ−Ｃｕ合金被ｊ模３４に換えて白色の１ｌｄＮｉ
（８０％Ｐｄ）合金被膜３４ａをｆｕｌｌ電着させ、そ
の後上記第３実施例と同様の工程を施すことによって、
マスク材３５塗布対応部分は白色で、有色被１模３２ｉ
がｇ貫出した他の部分は金色のチタン基材３１が得られ
る。 さらに、上記第３実施例においてチタン基材３１に１ｔ
Ａえてステンレスｌを用いても同様の好結果が得られた
。 なお、本発明は上述した各実施例に限定されるものでは
な（、例えば基材の材質は、チタン合金、ニッケル・ク
ロム合金、銅合金等でもよく、また、有色被膜を形成す
るだめの金属または金属合金としてはチタンやチタン合
金、クロムやクロム合金のほか、バナジウムやバナジウ
ム合金、ジルコニウムやジルコニウム合金、アルミニウ
ム合金、ニッケル合金等でもよい、この有色被膜は、上
述した実施例のＴｉＮの金色系、ＴｉＮ／Ｔｉｃ／ＴＩ
Ｏ！の混合物による黒色系、ＣｒまたはＣｒ合金をベー
スとしたＣｒＮＣ等の灰色系のほか、ＴｉＡＩＮの褐色
系があり、さらに、バナジウム、ニオブ、ジルコニウム
またはこれらをベースとした場合には、チタンまたはチ
タン合金をベースとした場合に近イ以する色調となる。 また、基材１１，２１．３１に形成する各被膜の厚さも
上述した各実施例の値に限定されないことはいうまでも
ない。 肱−−−果 以上説明したところで明らかなように、本発明によれば
、イオンプレーティング法により金属または金属合金の
有色被膜を形成した後に、湿式法により負金属メッキを
施すので、従来の湿式法よりも貴金属の使用量が少なく
済むので経済的であり、また、マスキング処理は有色被
膜の形成及びｎ金属メッキの後に施すので、マスク材の
剥離作業が容易化されて作業効率が向上するほか、不良
品の発生がほとんど無くなり、さらには製品の耐久性も
向上するという多くの効果を奏する。
図は本発明の好適な実施例を示すもので、第１図は第１
実施例の工程を示す概略図、第２図は本発明を実施する
公知のイオンプレーティング装置の概略図、第３図は第
２実施例の工程を示す概略図、第４図は第３実施例の工
程を示す概略図であ！・・・真空処理槽 ６・・・
眼鏡枠基材１１、２１．３１ ＝ −−チタン基材
１２．１２ａ、 ２２．２２ａ、 ３２．３２ａ ・
・・有色被膜 １３．２４−− ・金合金被膜
１３ａ＋ ２４ａ・・・Ｐｄ合金被膜１４、２５．３４
−− ＝Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜 １４ａ、 ２
５ａ、 ３４ａ ・・４’ｄ−Ｎｉ（８０％Ｐｄ）合
金Ｍ膜 １５２６、３５・・・マスク材 ２３
・・・クロム被膜３３・・・チタン被膜 特許出願人 有限会社福信鍍金工業所
実施例の工程を示す概略図、第２図は本発明を実施する
公知のイオンプレーティング装置の概略図、第３図は第
２実施例の工程を示す概略図、第４図は第３実施例の工
程を示す概略図であ！・・・真空処理槽 ６・・・
眼鏡枠基材１１、２１．３１ ＝ −−チタン基材
１２．１２ａ、 ２２．２２ａ、 ３２．３２ａ ・
・・有色被膜 １３．２４−− ・金合金被膜
１３ａ＋ ２４ａ・・・Ｐｄ合金被膜１４、２５．３４
−− ＝Ａｕ−Ｐｄ−Ｃｕ合金被膜 １４ａ、 ２
５ａ、 ３４ａ ・・４’ｄ−Ｎｉ（８０％Ｐｄ）合
金Ｍ膜 １５２６、３５・・・マスク材 ２３
・・・クロム被膜３３・・・チタン被膜 特許出願人 有限会社福信鍍金工業所
Claims (10)
- （１）基材上に、金属または金属合金の有色被膜と、貴
金属の被膜とを、イオンプレーティング法により順次形
成し、続いて湿式方法により貴金属メッキを施した後、
所定部分の貴金属メッキ部分及びイオンプレーティング
法で形成した貴金属被膜部分を除去することを特徴とす
る装飾品等を多色化する表面処理方法。 - （２）有色被膜が金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なることを特徴とする請求項第１項記載の装飾品等を多
色化する表面処理方法。 - （３）基材上に、金属または金属合金の有色被膜と、貴
金属の被膜とを、イオンプレーティング法により順次形
成し、続いて湿式方法により貴金属メッキを施した後、
所定部分にマスキング処理を施し、貴金属メッキ及びイ
オンプレーティング法で形成した貴金属被膜におけるマ
スクされていない部分を溶解除去したうえ、マスク材を
除去することを特徴とする請求項第１項記載の装飾品等
を多色化する表面処理方法。 - （４）基材上に、金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なる有色被膜と、クロムまたはクロム合金のいずれかの
金属被膜と、貴金属の被膜とを、イオンプレーティング
法により順次形成し、続いて湿式方法により貴金属メッ
キを施した後、所定部分にマスキング処理を施し、貴金
属メッキ及びイオンプレーティング法で形成した貴金属
被膜とクロムまたはクロム合金のいずれかの金属被膜に
おけるマスクされていない部分を溶解除去したうえ、マ
スク材を除去することを特徴とする装飾品等を多色化す
る表面処理方法。 - （５）基材上に、金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なる有色被膜と、チタン、チタン合金またはチタン・ア
ルミニウム合金のいずれかの金属被膜とを、イオンプレ
ーティング法により順次形成し、続いて湿式方法により
貴金属メッキを施した後、所定部分にマスキング処理を
施し、貴金属メッキ及びイオンプレーティング法で形成
したチタン、チタン合金またはチタン・アルミニウム合
金のいずれかの金属被膜におけるマスクされていない部
分を溶解除去したうえ、マスク材を除去することを特徴
とする装飾品等を多色化する表面処理方法。 - （６）基材上に、金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なる有色被膜と、チタン、チタン合金またはチタン・ア
ルミニウム合金のいずれかの金属被膜と、貴金属の被膜
とを、イオンプレーティング法により順次形成し、続い
て湿式方法により貴金属メッキを施した後、所定部分に
マスキング処理を施し、貴金属メッキ及びイオンプレー
ティング法で形成した貴金属被膜とチタン、チタン合金
またはチタン・アルミニウム合金のいずれかの金属被膜
におけるマスクされていない部分を溶解除去したうえ、
マスク材を除去することを特徴とする装飾品等を多色化
する表面処理方法。 - （７）基材上に、金属または金属合金の窒化物、炭化物
、酸化物から選ばれた単一または複数の組み合わせから
なる有色被膜と、ニッケル・クロム合金の被膜とを、イ
オンプレーティング法により順次形成し、続いて湿式方
法により貴金属メッキを施した後、所定部分にマスキン
グ処理を施し、貴金属メッキ及びイオンプレーティング
法で形成したニッケル・クロム合金被膜におけるマスク
されていない部分を溶解除去したうえ、マスク材を除去
することを特徴とする装飾品等を多色化する表面処理方
法。 - （８）有色被膜がチタン、バナジウム、クロム、ジルコ
ニウムから選ばれた金属または選ばれた金属のアルミニ
ウム合金についての窒化物、炭化物、酸化物の単一また
は複数の組み合わせからなることを特徴とする請求項第
１項、第３項、第４項、第５項、第６項または第７項の
いずれか１項記載の装飾品等を多色化する表面処理方法
。 - （９）湿式方法による貴金属メッキが、Ａｕ−Ｎｉ、Ａ
ｕ−Ｃｏ、Ａｕ−Ｐｄ等の金色合金メッキであることを
特徴とする請求項第１項、第３項、第４項、第５項、第
６項または第７項のいずれか１項記載の装飾品等を多色
化する表面処理方法。 - （１０）湿式方法による貴金属メッキが、Ｐｄ、Ｐｄ−
Ｎｉ、Ｒｈ等の白色合金メッキであることを特徴とする
請求項第１項、第３項、第４項、第５項、第６項または
第７項のいずれか１項記載の装飾品等を多色化する表面
処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5873689A JPH02240279A (ja) | 1989-03-11 | 1989-03-11 | 装飾品等を多色化する表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5873689A JPH02240279A (ja) | 1989-03-11 | 1989-03-11 | 装飾品等を多色化する表面処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02240279A true JPH02240279A (ja) | 1990-09-25 |
Family
ID=13092798
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5873689A Pending JPH02240279A (ja) | 1989-03-11 | 1989-03-11 | 装飾品等を多色化する表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02240279A (ja) |
-
1989
- 1989-03-11 JP JP5873689A patent/JPH02240279A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101705322B1 (ko) | 차등화된 외관을 가지는 금속화 마감 영역을 가지는 부품의 처리 | |
| EP0459461B1 (en) | Multi-colored product and process for producing the same | |
| JP4067434B2 (ja) | 白色被膜を有する装飾品及びその製造方法 | |
| JPH02240279A (ja) | 装飾品等を多色化する表面処理方法 | |
| JP2630344B2 (ja) | 多色表面物品の製造方法 | |
| GB2227756A (en) | Method for the preparation of a two-tone coloured metal-made personal ornament | |
| JPH05156425A (ja) | 装飾部材およびその製造方法 | |
| JPH02104680A (ja) | 表面化粧処理方法 | |
| JPH04165085A (ja) | 装飾品の多色化方法 | |
| JP3331619B2 (ja) | 装飾部材及びその製造方法 | |
| JPH069006Y2 (ja) | 貴金属装飾品 | |
| JPH02125860A (ja) | 装飾品の多彩化方法 | |
| JPH04214881A (ja) | 装飾品の多色化方法 | |
| US653024A (en) | Process of ornamenting hollow ware. | |
| JPS59200796A (ja) | 腕時計用文字板 | |
| JP2985088B2 (ja) | 時計用外装部品の製造方法 | |
| JPH05212563A (ja) | 装飾部材の製造方法 | |
| KR940004663Y1 (ko) | 귀금속 장식품 | |
| JPH02282467A (ja) | 装飾品等を多色化する表面処理方法 | |
| JPH0426755A (ja) | イオンプレーティングを用いた眼鏡構成材の装飾模様形成方法 | |
| JPH04160179A (ja) | 装飾部材の製造方法 | |
| JPH0441679A (ja) | 有色表面物品及びその製造方法 | |
| JP2947208B2 (ja) | 装飾部材及びこれを用いた時計 | |
| KR940004777Y1 (ko) | 금색 외장 부품 | |
| JPH04218683A (ja) | 多色化装飾品およびその製造方法 |