JPH0223603A - 永久磁石 - Google Patents
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- JPH0223603A JPH0223603A JP17422088A JP17422088A JPH0223603A JP H0223603 A JPH0223603 A JP H0223603A JP 17422088 A JP17422088 A JP 17422088A JP 17422088 A JP17422088 A JP 17422088A JP H0223603 A JPH0223603 A JP H0223603A
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- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 77
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 36
- 239000012071 phase Substances 0.000 claims description 8
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 17
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 17
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 20
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 2
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 2
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- -1 CI2 Substances 0.000 description 1
- 229910052691 Erbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052775 Thulium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- JZQOJFLIJNRDHK-CMDGGOBGSA-N alpha-irone Chemical compound CC1CC=C(C)C(\C=C\C(C)=O)C1(C)C JZQOJFLIJNRDHK-CMDGGOBGSA-N 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 210000003608 fece Anatomy 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010871 livestock manure Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001172 neodymium magnet Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種
以上)、FeおよびBを含有し、特に耐食性にすぐれた
永久磁石に関する。
以上)、FeおよびBを含有し、特に耐食性にすぐれた
永久磁石に関する。
〈従来の技術〉
高性能を有する永久磁石としては、粉末冶金法によるS
m−Co系磁石でエネルギ積として、32MGOeのも
のが量産されている。
m−Co系磁石でエネルギ積として、32MGOeのも
のが量産されている。
しかし、このものは、Sm、Goの原料価格が高いとい
う欠点を有する。 希土類の中では原子量の小さい希土
類元素、たとえばセリウムやプラセオジム、ネオジムは
、サマリウムよりも豊富にあり価格が安い。 また、F
eは安価である。
う欠点を有する。 希土類の中では原子量の小さい希土
類元素、たとえばセリウムやプラセオジム、ネオジムは
、サマリウムよりも豊富にあり価格が安い。 また、F
eは安価である。
そこで、近年Nd−Fe−B基磁石が開発され、特開昭
59−46008号公報では、焼結磁石が、また特開昭
60−9852号公報では、高速急冷法によるものが開
示されている。
59−46008号公報では、焼結磁石が、また特開昭
60−9852号公報では、高速急冷法によるものが開
示されている。
このものは、25MGOe以上の高エネルギー積を示す
高性能磁石であるが、主成分として酸化され易い希土類
元素と鉄とを含有するため、耐食性が低く、性能の劣化
、バラつき等が問題となっている。
高性能磁石であるが、主成分として酸化され易い希土類
元素と鉄とを含有するため、耐食性が低く、性能の劣化
、バラつき等が問題となっている。
このようなR−Fe−B基磁石の耐食性の低さを改善す
ることを目的として、種々の耐食性膜を表面に有する永
久磁石あるいはその製造方法が提案されている(特開昭
60−54406号公報、同60−63901号公報、
同60−63902号公報、同61−130453号公
報、同61−150201号公報、同61−16611
5号公報、同61−166116号公報、同61−16
6117号公報、同61−185910号公報、同61
−270308号公報、同62−120004号公報等
)。
ることを目的として、種々の耐食性膜を表面に有する永
久磁石あるいはその製造方法が提案されている(特開昭
60−54406号公報、同60−63901号公報、
同60−63902号公報、同61−130453号公
報、同61−150201号公報、同61−16611
5号公報、同61−166116号公報、同61−16
6117号公報、同61−185910号公報、同61
−270308号公報、同62−120004号公報等
)。
これらのうち、特開昭62−120004号公報では、
蒸着法等の気相めっきによりへ4層あるいはZn層を形
成している。 しかし、気相めっきにより設層された金
属保護層は密度が低くピンホール、スルーホールが多数
存在するため、同公報では、この保護層上にクロム酸塩
皮膜層を設層し、さらに、保護層およびクロム酸塩皮膜
層中に存在するピンホールに、樹脂を充填している。
蒸着法等の気相めっきによりへ4層あるいはZn層を形
成している。 しかし、気相めっきにより設層された金
属保護層は密度が低くピンホール、スルーホールが多数
存在するため、同公報では、この保護層上にクロム酸塩
皮膜層を設層し、さらに、保護層およびクロム酸塩皮膜
層中に存在するピンホールに、樹脂を充填している。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかし、これらの公報に記載されている方法では工程数
が多く、コストアップを招く。
が多く、コストアップを招く。
また、液和めつきにより設層された金属保護層にもピン
ホール、スルーホールが多数存在するため、気相めっき
により設層された保護層と同様な問題が生じる。
ホール、スルーホールが多数存在するため、気相めっき
により設層された保護層と同様な問題が生じる。
本発明は、上記した問題を解決し、耐食性にすぐれたR
−Fe−B系永久磁石を低コストで提供することを目的
とする。
−Fe−B系永久磁石を低コストで提供することを目的
とする。
く課題を解決するための手段〉
このような目的は、下肥の本発明によって達成される。
すなわち、本発明は、下記(1)〜(3)である。
(1) R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以
上)、FeおよびBを含有し、実質的に正方晶系の主相
を有する永久磁石体表面に保護層を有する永久磁石であ
って、 前記保護層が、前記永久磁石体表面に直接接して設層さ
れた第1保護層と、この第1保護層上に設層された第2
保護層とから構成され、前記第1保護層がN1またはN
iを含有する合金から構成され、前記第2保護層がNi
およびSを含有する合金から構成されることを特徴とす
る永久磁石。
上)、FeおよびBを含有し、実質的に正方晶系の主相
を有する永久磁石体表面に保護層を有する永久磁石であ
って、 前記保護層が、前記永久磁石体表面に直接接して設層さ
れた第1保護層と、この第1保護層上に設層された第2
保護層とから構成され、前記第1保護層がN1またはN
iを含有する合金から構成され、前記第2保護層がNi
およびSを含有する合金から構成されることを特徴とす
る永久磁石。
(2)前記第2保護層中のSの含有量が002〜1.0
wt%である上記(1)に記載の永久磁石。
wt%である上記(1)に記載の永久磁石。
(3)前記保護層が液相めつきにより設層される上記(
1)または(2)に記載の永久磁石。
1)または(2)に記載の永久磁石。
以下、本発明の具体的構成を、詳細に説明する。
上記した組成の永久磁石体表面に設層される保護層は、
永久磁石体に耐食性を付与する機能を有する。
永久磁石体に耐食性を付与する機能を有する。
本発明の永久磁石が表面に有する保護層は、永久磁石体
表面に直接接して設層された第1保護層と、この第1保
護層上に設層された第2保護層とから構成される。
表面に直接接して設層された第1保護層と、この第1保
護層上に設層された第2保護層とから構成される。
第1保護層はN1またはN1を含有する合金から構成さ
れ、第2保護層はN1およびSを含有する合金から構成
される。
れ、第2保護層はN1およびSを含有する合金から構成
される。
第1保護層は、生産性が高いことからN1で構成される
ことが好ましいが、硬度、耐久性、耐食性等の点から、
必要に応じFe、Go、Cu、Zn、P、B、Mn、S
n、Wから選択される元素とNiとの合金を用いてもよ
い。
ことが好ましいが、硬度、耐久性、耐食性等の点から、
必要に応じFe、Go、Cu、Zn、P、B、Mn、S
n、Wから選択される元素とNiとの合金を用いてもよ
い。
第2保護層も、生産性が高いことからNiとSとの合金
で構成されることが好ましいが、硬度、耐久性、耐食性
等の点から、必要に応じFe、Co、Cu、Zn、P、
B、Mn、Sn、Wから選択される元素と、Niおよび
Sとの合金を用いてもよい。
で構成されることが好ましいが、硬度、耐久性、耐食性
等の点から、必要に応じFe、Co、Cu、Zn、P、
B、Mn、Sn、Wから選択される元素と、Niおよび
Sとの合金を用いてもよい。
第1保護層は、第2保護層と永久磁石体との間の酸化電
位差を小さくするはたらきを有し、N1およびSを含有
する第2保護層は、液相めっきにより設層される場合、
後述するようにその表面にピンホール、スルーホールが
生じ難いため、これら第1および第2保護層の組み合わ
せにより、本発明の永久磁石は、きわめて高い耐食性を
有する。
位差を小さくするはたらきを有し、N1およびSを含有
する第2保護層は、液相めっきにより設層される場合、
後述するようにその表面にピンホール、スルーホールが
生じ難いため、これら第1および第2保護層の組み合わ
せにより、本発明の永久磁石は、きわめて高い耐食性を
有する。
第2保護層中のSの含有量は、好ましくは002〜1.
0wt%、さらに好ましくは0.2〜0.8wt%であ
る。 そして、残部が実質的にNiとされる。
0wt%、さらに好ましくは0.2〜0.8wt%であ
る。 そして、残部が実質的にNiとされる。
第1保護層の層厚は1〜20μm、より好ましくは3〜
10μmであることが好ましい。
10μmであることが好ましい。
この範囲の層厚であれば、保護層としての機能は十分で
あり、しかも、磁気特性が低下することもない。 また
、第2保護層の層厚は1〜20μm、より好ましくは3
〜10μmであることが、耐食性の面で好ましい。
あり、しかも、磁気特性が低下することもない。 また
、第2保護層の層厚は1〜20μm、より好ましくは3
〜10μmであることが、耐食性の面で好ましい。
なお、保護層中には、不純物としてCI2、Na、K、
遷移金属等が3wt%以下含有されていてもよい。
遷移金属等が3wt%以下含有されていてもよい。
本発明において、保護層は、電気めっき等の公知の液相
めっき、あるいは、スパッタ、イオンブレーティング、
真空蒸着等の公知の気相めっきのいずれにより設層して
もよいが、前述したように第2保護層表面にピンホール
、スルーホールが発生し難いことおよび生産性に優れる
ことから、液和めつきにより設層されることが好ましい
。
めっき、あるいは、スパッタ、イオンブレーティング、
真空蒸着等の公知の気相めっきのいずれにより設層して
もよいが、前述したように第2保護層表面にピンホール
、スルーホールが発生し難いことおよび生産性に優れる
ことから、液和めつきにより設層されることが好ましい
。
液和めつきとしては、電気めっきを用いることが好まし
い。 電気めっきは、通常の電気めっき法に従えばよい
。
い。 電気めっきは、通常の電気めっき法に従えばよい
。
本発明では永久磁石体表面に接して設層される第1保護
層はNiから構成されるため、中性のめっき浴を用いて
液相めっきを行なうことができる。 したがって、永久
磁石体表面にめっき液が残存している場合でも、発錆の
可能性は大幅に減少する。
層はNiから構成されるため、中性のめっき浴を用いて
液相めっきを行なうことができる。 したがって、永久
磁石体表面にめっき液が残存している場合でも、発錆の
可能性は大幅に減少する。
第1保護層の設層に用いるめっき浴は、ワット浴、スル
ファミン酸浴等のいずれであってもよい。
ファミン酸浴等のいずれであってもよい。
第2保護層の設層に用いるめっき浴は、ワット浴、スル
ファミン酸浴等が挙げられ、これらのうち特に、ワット
浴を用いることが好ましい。
ファミン酸浴等が挙げられ、これらのうち特に、ワット
浴を用いることが好ましい。
好ましいめっき浴の組成を、下記に示す。
NiSO46H20200〜500 g/βNiCβ2
10〜100g/pHaB04
10〜100g/ρ第2保護層の設層には、このよう
なめつき浴にS系活性剤を適量添加して用いる。
10〜100g/pHaB04
10〜100g/ρ第2保護層の設層には、このよう
なめつき浴にS系活性剤を適量添加して用いる。
本発明において、NiおよびSを含有するめっき浴を用
いて第2保護層を設層する理由は、下記の通りである。
いて第2保護層を設層する理由は、下記の通りである。
永久磁石体表面には、通常、微細な凹凸が存在する。
このような永久磁石体表面にN1からなる液相めっき層
(本発明における第1保護層)を形成する場合、形成時
の初期には永久磁石体表面の凹凸に影響されて均一なめ
つき層が形成され難い。 そして、N1めっき層は、通
常、連続成長するため、形成時初期に生したピンホール
、スルーホールが保存され、結果としてNiめっき層表
面にはピンホール、スルーホールが存在することになる
。 このようなNiめっき層表面に、さらに液相めつき
によりめっき層を設層すると、このめっき層にも、上記
と同様な作用によりピンホール、スルーホールが形成さ
れることになる。 すなわち、液相めっきにより設層さ
れるN1めっき層は連続成長をするため、下地表面の影
響を受は易い。
このような永久磁石体表面にN1からなる液相めっき層
(本発明における第1保護層)を形成する場合、形成時
の初期には永久磁石体表面の凹凸に影響されて均一なめ
つき層が形成され難い。 そして、N1めっき層は、通
常、連続成長するため、形成時初期に生したピンホール
、スルーホールが保存され、結果としてNiめっき層表
面にはピンホール、スルーホールが存在することになる
。 このようなNiめっき層表面に、さらに液相めつき
によりめっき層を設層すると、このめっき層にも、上記
と同様な作用によりピンホール、スルーホールが形成さ
れることになる。 すなわち、液相めっきにより設層さ
れるN1めっき層は連続成長をするため、下地表面の影
響を受は易い。
ところが、N1および8を含有するめっき浴を用いてめ
っき層を設層する場合、めっき層の不連続成長が生しる
ため、下地表面の影響を受難い。 すなわち、本発明に
おいては、第2保護層が第1保護層表面に存在するピン
ホール、スルーホールの影響を受は難く、欠陥の少ない
保護層を実現することができる。
っき層を設層する場合、めっき層の不連続成長が生しる
ため、下地表面の影響を受難い。 すなわち、本発明に
おいては、第2保護層が第1保護層表面に存在するピン
ホール、スルーホールの影響を受は難く、欠陥の少ない
保護層を実現することができる。
液相めっきにより保護層を設層する場合、第1保護層設
層前に、永久磁石体表面には前処理を施してもよい。
層前に、永久磁石体表面には前処理を施してもよい。
前処理は通常のめっきと同様に有機溶剤による脱脂を行
い、次いて、酸処理(活性化)を行うことが好ましい。
い、次いて、酸処理(活性化)を行うことが好ましい。
上記のようにして保護層が表面に設層される永久磁石体
は、R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上)
、FeおよびBを含有するものである。
は、R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上)
、FeおよびBを含有するものである。
R,FeおよびBの含有量は、
5.5at%≦R≦30at%
42at%≦Fe ≦90at%
2at%≦B ≦ 28at%
であることが好ましい。
特に、磁石を焼結法により製造する場合、下記の組成で
あることが好ましい。
あることが好ましい。
希土類元素Rとしては、Nd、Pr、Ha、Tbのうち
少なくとも1種、あるいはさらに、La、Sm、Ce、
Gd、Er、Eu、Pm、Tm、Yb、Yのうち1種以
上を含むものが好ましい。
少なくとも1種、あるいはさらに、La、Sm、Ce、
Gd、Er、Eu、Pm、Tm、Yb、Yのうち1種以
上を含むものが好ましい。
なお、Rとして2種以上の元素を用いる場合、原料とし
てミツシュメタル等の混合物を用いることもできる。
てミツシュメタル等の混合物を用いることもできる。
Rの含有量は、8〜30at%であることが好ましい。
8at%未満では、結晶構造がα−鉄と同構造の立方晶
組織となるため、高い保磁力(iHc)が得られず、3
0at%を超えると、Rリッチな非6n性相が多くなり
、残留磁束密度(Br)が低下する。
組織となるため、高い保磁力(iHc)が得られず、3
0at%を超えると、Rリッチな非6n性相が多くなり
、残留磁束密度(Br)が低下する。
Feの含有量は42〜90at%であることが好ましい
。
。
Feが42at%未満であるとBrが低下し、90at
%を超えるとiHcが低下する。
%を超えるとiHcが低下する。
Bの含有量は、2〜28at%であることが好ましい。
Bが2at%未満であると菱面体組織となるためiHc
が不十分であり、28at%を超えるとBリッチな非磁
性相が多くなるため、Brが低下する。
が不十分であり、28at%を超えるとBリッチな非磁
性相が多くなるため、Brが低下する。
なお、Feの一部をCoで置換することにより、磁気特
性を損うことなく温度特性を改善することができる。
この場合、Co置換量がFeの50%を超えると磁気特
性が劣化するため、Co置換量は50%以下とすること
が好ましい。
性を損うことなく温度特性を改善することができる。
この場合、Co置換量がFeの50%を超えると磁気特
性が劣化するため、Co置換量は50%以下とすること
が好ましい。
また、R,FeおよびBの他、不可避的不純物としてN
1、Sl、AI2.、Cu、Ca等が全体の3at%以
下含有されていてもよい。
1、Sl、AI2.、Cu、Ca等が全体の3at%以
下含有されていてもよい。
さらに、Bの一部を、C,P、S、Cuのうちの1種以
上で置換することにより、生産性の向上および低コスト
化が実現できる。 この場合、置換量は全体の4at
%以下であることが好ましい。
上で置換することにより、生産性の向上および低コスト
化が実現できる。 この場合、置換量は全体の4at
%以下であることが好ましい。
また、保磁力の向上、生産性の向上、低コスト化のため
に、八4、T1、■、Cr、Mn、B1、Nb、Ta、
Mo、W、Sb、Ge、Sn、Zr、Ni、Si、Hf
等の1種以上を添加してもよい。 この場合、添加量は
総計で10at%以下とすることが好ましい。
に、八4、T1、■、Cr、Mn、B1、Nb、Ta、
Mo、W、Sb、Ge、Sn、Zr、Ni、Si、Hf
等の1種以上を添加してもよい。 この場合、添加量は
総計で10at%以下とすることが好ましい。
本発明に用いるこのような永久磁石体は、実質的に正方
晶系の結晶構造の主相を有する。
晶系の結晶構造の主相を有する。
この主相の粒径は、1〜1100LL程度であることが
好ましい。
好ましい。
そして、通常、体積比で1〜50%の非6R性相を含む
ものである。
ものである。
本発明に好適に用いられるこのような永久磁石体は、前
述した特開昭61−185910号公報等に開示されて
いる。
述した特開昭61−185910号公報等に開示されて
いる。
上記のような永久磁石体は、以下に述べるような焼結法
により製造されることが好ましい。
により製造されることが好ましい。
まず、所望の組成の合金を鋳造し、インゴットを得る。
得られたインボッi・を、スタンプミル等により粒径1
0〜100μm程度に粗粉砕し、次いで、ボールミル等
により05〜5μm程度の粒径に微粉砕する。
0〜100μm程度に粗粉砕し、次いで、ボールミル等
により05〜5μm程度の粒径に微粉砕する。
得られた粉末を、好ましくは磁場中にて成形する。 こ
の場合、磁場強度は10kOe以上、成形圧力は1〜5
t / c m 2程度であることが好ましい。
の場合、磁場強度は10kOe以上、成形圧力は1〜5
t / c m 2程度であることが好ましい。
得られた成形体を、1000〜1200℃で05〜5時
間焼結し、急冷する。 なお、焼結雰囲気は、Arガス
等の不活性ガス雰囲気であることが好ましい。
間焼結し、急冷する。 なお、焼結雰囲気は、Arガス
等の不活性ガス雰囲気であることが好ましい。
この後、好ましくは不活性ガス雰囲気中で、500〜9
00℃にて1〜5時間時効処理を行なう。
00℃にて1〜5時間時効処理を行なう。
なお、本発明は、上記の焼結法により製造される永久磁
石体に限らず、いわゆる急冷法により製造されるバルク
体磁石にも好適に適用することができる。
石体に限らず、いわゆる急冷法により製造されるバルク
体磁石にも好適に適用することができる。
急冷法により製造されるバルク体磁石であって、特に磁
気特性に優れ、本発明に好適に用いられる永久磁石は、
特願昭62−90709号、同62−191380号、
同62−259373号等に開示されている。
気特性に優れ、本発明に好適に用いられる永久磁石は、
特願昭62−90709号、同62−191380号、
同62−259373号等に開示されている。
〈実施例〉
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をさらに詳
細に説明する。
細に説明する。
鋳造により14Nd−IDy−7B−78Fe(数字は
原子比)の組成のインゴットを得た。
原子比)の組成のインゴットを得た。
このインゴットをスタンプミルにより粗粉砕後、ボール
ミルにより微粉砕し、平均粒径3.5μmの合金粉末を
得た。
ミルにより微粉砕し、平均粒径3.5μmの合金粉末を
得た。
この合金粉末を12kOeの磁場中にて1.5t/cm
”の圧力で成形し、成形体を得た。
”の圧力で成形し、成形体を得た。
この成形体を、Ar雰囲気中で1100℃、1時間加熱
後、急冷し、焼結体を得た。
後、急冷し、焼結体を得た。
得られた焼結体を、Ar雰囲気中で600°Cにて2時
間時効処理を施し、永久磁石を得た。
間時効処理を施し、永久磁石を得た。
この永久磁石からI Qx 10X20mmの磁石片を
切り出し、永久磁石体とした。
切り出し、永久磁石体とした。
この永久磁石体の表面に、電気めっきにより各種保護層
を設層し、永久磁石サンプルN。
を設層し、永久磁石サンプルN。
1〜6を得た。
保護層設層に用いためっき浴、保護層組成、保護層層厚
を表1に示す。
を表1に示す。
なお、比較のために、保護層を設層しないサンプルNo
、7および保護層として10μm厚のNiめっき層のみ
を設層したサンプルN。
、7および保護層として10μm厚のNiめっき層のみ
を設層したサンプルN。
8とについて下2の耐食性試験を行なった。
(耐食性試験)
塩水噴露試験(35℃、5%NaCρ、240時間)後
の磁気特性を測定し、外観の変化も観察した。 結果を
表1に示す。
の磁気特性を測定し、外観の変化も観察した。 結果を
表1に示す。
なお、上記耐食性試験前の永久磁石の磁気特性を、サン
プルNo、’0として表1に併記する。
プルNo、’0として表1に併記する。
表1に示される結果から、本発明の効果が明らかである
。 なお、サンプルNo、7は、耐食性試験後金面に発
錆し、磁気特性の測定が不可能であった。
。 なお、サンプルNo、7は、耐食性試験後金面に発
錆し、磁気特性の測定が不可能であった。
また、各永久磁石サンプル表面を走査型電子顕微鏡によ
り観察した結果、サンプルNo、1の第2保護層表面に
はピンホールが観察されたが、サンプルNo、2〜5の
第2保護層表面には、ピンホールは殆ど観察されなかっ
た。
り観察した結果、サンプルNo、1の第2保護層表面に
はピンホールが観察されたが、サンプルNo、2〜5の
第2保護層表面には、ピンホールは殆ど観察されなかっ
た。
劣化を抑えることができる。
特許出願人 ティーデイ−ケイ株式会社代 理 人
弁理士 石 井 陽〈発明の作用効果〉 本発明の永久磁石は、永久五R石体表面に設けられたN
1またはN1合金から構成される第1保護層と、第1保
護層上に設けられ、NiおよびSを含有する合金からな
る第2保護層を有する。 このため、第2保護層にはピ
ンホール、スルーホールが殆ど存在しない。
弁理士 石 井 陽〈発明の作用効果〉 本発明の永久磁石は、永久五R石体表面に設けられたN
1またはN1合金から構成される第1保護層と、第1保
護層上に設けられ、NiおよびSを含有する合金からな
る第2保護層を有する。 このため、第2保護層にはピ
ンホール、スルーホールが殆ど存在しない。
Claims (3)
- (1)R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上
)、FeおよびBを含有し、実質的に正方晶系の主相を
有する永久磁石体表面に保護層を有する永久磁石であっ
て、 前記保護層が、前記永久磁石体表面に直接接して設層さ
れた第1保護層と、この第1保護層上に設層された第2
保護層とから構成され、前記第1保護層がNiまたはN
iを含有する合金から構成され、前記第2保護層がNi
およびSを含有する合金から構成されることを特徴とす
る永久磁石。 - (2)前記第2保護層中のSの含有量が 002〜1.0wt%である請求項(1)に記載の永久
磁石。 - (3)前記保護相が液相めっきにより設層される請求項
(1)または(2)に記載の永久磁石。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17422088A JP2620956B2 (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | 永久磁石 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17422088A JP2620956B2 (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | 永久磁石 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0223603A true JPH0223603A (ja) | 1990-01-25 |
JP2620956B2 JP2620956B2 (ja) | 1997-06-18 |
Family
ID=15974826
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17422088A Expired - Lifetime JP2620956B2 (ja) | 1988-07-12 | 1988-07-12 | 永久磁石 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2620956B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5302464A (en) * | 1991-03-04 | 1994-04-12 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of plating a bonded magnet and a bonded magnet carrying a metal coating |
JP2008063829A (ja) * | 2006-09-07 | 2008-03-21 | Sakawa:Kk | トラス骨組部材 |
-
1988
- 1988-07-12 JP JP17422088A patent/JP2620956B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5302464A (en) * | 1991-03-04 | 1994-04-12 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of plating a bonded magnet and a bonded magnet carrying a metal coating |
JP2008063829A (ja) * | 2006-09-07 | 2008-03-21 | Sakawa:Kk | トラス骨組部材 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2620956B2 (ja) | 1997-06-18 |
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