JPH02234040A - カラーフィルタの分光特性測定方法およびカラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの分光特性測定方法およびカラーフィルタの製造方法Info
- Publication number
- JPH02234040A JPH02234040A JP1055493A JP5549389A JPH02234040A JP H02234040 A JPH02234040 A JP H02234040A JP 1055493 A JP1055493 A JP 1055493A JP 5549389 A JP5549389 A JP 5549389A JP H02234040 A JPH02234040 A JP H02234040A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- color filter
- light
- light shielding
- pattern
- spectral characteristics
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 title claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 13
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000003976 Ruta Nutrition 0.000 description 1
- 240000005746 Ruta graveolens Species 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005375 photometry Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 235000005806 ruta Nutrition 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、撮像素子や表示素子等に付与するカラーフ
ィルタの分光特性測定方法およびカラーフィルタの製造
方法に関するものである．〔従来の技術〕 第７図は従来から用いられているカラーフィルタの分光
透過率の測定システム（例えば、オリンパス社製，ＭＭ
ＳＰ等）を示し、第８図は従来の測定例を示すものであ
り、第８図（ａ）はサンプルの断面図、第８図（ロ）は
平面図である．第７図において４ｌはキセノン光、４２
はスペクトロスコープ、４３はコンデンサ、４４はサン
プル、４５はステージ、４６は対象物、４７は光検出器
である．また、第８図において、４はカラーフィルタパ
ターン、５は透明基板、３は測光スポットである．次に
従来の測定例について説明する．第８図に示されたよう
な所望のカラーフィルタパターン４に含まれる測定スポ
ット３にて、矢印Ａに示すように基板５の透過率測定を
行い、続いて矢印Ｂに示すように所望のカラーフィルタ
パターン４の透過率測定を行う。Ｂの測定結果からＡの
測定結果を差し引いたものが所望のカラーフィルタ４の
分光透過率となる． 本測定法では測光スポット３の径は測定フィルタパター
ン４サイズより充分に小さいことが必要である．即ち、
スポット径が大きいとフィルタ周辺からの迷光によって
分光透過率が見掛け上増大し、測定精度が低下するとい
う問題があった．また、スポット径をあまり小さくする
と測定感度が充分に取れず、前述と同様測定精度が低下
するという問題が発生する。
ィルタの分光特性測定方法およびカラーフィルタの製造
方法に関するものである．〔従来の技術〕 第７図は従来から用いられているカラーフィルタの分光
透過率の測定システム（例えば、オリンパス社製，ＭＭ
ＳＰ等）を示し、第８図は従来の測定例を示すものであ
り、第８図（ａ）はサンプルの断面図、第８図（ロ）は
平面図である．第７図において４ｌはキセノン光、４２
はスペクトロスコープ、４３はコンデンサ、４４はサン
プル、４５はステージ、４６は対象物、４７は光検出器
である．また、第８図において、４はカラーフィルタパ
ターン、５は透明基板、３は測光スポットである．次に
従来の測定例について説明する．第８図に示されたよう
な所望のカラーフィルタパターン４に含まれる測定スポ
ット３にて、矢印Ａに示すように基板５の透過率測定を
行い、続いて矢印Ｂに示すように所望のカラーフィルタ
パターン４の透過率測定を行う。Ｂの測定結果からＡの
測定結果を差し引いたものが所望のカラーフィルタ４の
分光透過率となる． 本測定法では測光スポット３の径は測定フィルタパター
ン４サイズより充分に小さいことが必要である．即ち、
スポット径が大きいとフィルタ周辺からの迷光によって
分光透過率が見掛け上増大し、測定精度が低下するとい
う問題があった．また、スポット径をあまり小さくする
と測定感度が充分に取れず、前述と同様測定精度が低下
するという問題が発生する。
従来の測定方法では以上のようにカラーフィルタパター
ンの中心付近の一部のみを測定しているため、カラーフ
ィルタパターンエッジ部の分光特性や実際のフィルタア
レイで生じる隣接画素間のクロストーク量等を、ＣＣＤ
のフォトダイオードアレイ等の下地デバイスなしでは評
価できない等の問題があった． この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、カラーフィルタエッジ部の分光特性や隣接画
素間のクロストーク量等を下地デバイスなしで評価する
ことのできるカラーフィルタの分光特性測定方法および
これを用いたカラーフィルタの製造方法を得ることを目
的とする。
ンの中心付近の一部のみを測定しているため、カラーフ
ィルタパターンエッジ部の分光特性や実際のフィルタア
レイで生じる隣接画素間のクロストーク量等を、ＣＣＤ
のフォトダイオードアレイ等の下地デバイスなしでは評
価できない等の問題があった． この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、カラーフィルタエッジ部の分光特性や隣接画
素間のクロストーク量等を下地デバイスなしで評価する
ことのできるカラーフィルタの分光特性測定方法および
これを用いたカラーフィルタの製造方法を得ることを目
的とする。
この発明に係るカラーフィルタの分光特性測定方法は、
透明基板上に遮光用薄膜を用いて遮光部と開口部を有す
るパターン（以後遮光パターンと呼ぶ）を形成し、該開
口部上または遮光部上にカラーフィルタを形成し、その
開口部上のカラーフィルタまたは上記遮光部上にカラー
フィルタを設けた際の上記開口部の分光透過率を上記開
口部および遮光部を含むスポット光にて測光するように
したものである． この発明にかかるカラーフィルタの製造方法は、上記遮
光パターンを、製造すべきカラーフィルタアレイの外部
に配置し、該遮光パターン上に形成したカラーフィルタ
の分光透過率特性をモニタしながら貼り合わせカラーフ
ィルタアレイを製造するようにしたものである。
透明基板上に遮光用薄膜を用いて遮光部と開口部を有す
るパターン（以後遮光パターンと呼ぶ）を形成し、該開
口部上または遮光部上にカラーフィルタを形成し、その
開口部上のカラーフィルタまたは上記遮光部上にカラー
フィルタを設けた際の上記開口部の分光透過率を上記開
口部および遮光部を含むスポット光にて測光するように
したものである． この発明にかかるカラーフィルタの製造方法は、上記遮
光パターンを、製造すべきカラーフィルタアレイの外部
に配置し、該遮光パターン上に形成したカラーフィルタ
の分光透過率特性をモニタしながら貼り合わせカラーフ
ィルタアレイを製造するようにしたものである。
この発明におけるカラーフィルタの分光特性測定方法お
よびカラーフィルタの製造方法は、遮光部と開口部を有
するパターンを形成し、その開口部上または遮光部上に
カラーフィルタを形成し、その際の開口部の分光透過率
を上記開口部と遮光部とを含むスポット光にて測光する
ため、開口部上に形成されたフィルタパターン等の分光
特性を、隣接するフィルタパターンからのクロストーク
量等を含んで測定することができ、所望の特性のカラー
フィルタを高精度に形成できる． 〔実施例〕 以下、この発明の一実施例を図について説明する． 第１図は本発明の一実施例によるカラーフィルタの分光
特性測定方法を示し、第１図（ａ）は遮光用薄膜を用い
て形成した遮光部と開口部を有するパターンの平面図で
、第１図（ｂ）は第１図（ａ）の破線Ｃ部の断面図であ
る．図において、１は遮光部、２は開口部、３は測光ス
ポット、４はカラーフィルタパターン、５は透明基板で
ある． また、第２図，第３図は本発明実施例により得られたフ
ィルタパターンの分光透過率特性を示す。
よびカラーフィルタの製造方法は、遮光部と開口部を有
するパターンを形成し、その開口部上または遮光部上に
カラーフィルタを形成し、その際の開口部の分光透過率
を上記開口部と遮光部とを含むスポット光にて測光する
ため、開口部上に形成されたフィルタパターン等の分光
特性を、隣接するフィルタパターンからのクロストーク
量等を含んで測定することができ、所望の特性のカラー
フィルタを高精度に形成できる． 〔実施例〕 以下、この発明の一実施例を図について説明する． 第１図は本発明の一実施例によるカラーフィルタの分光
特性測定方法を示し、第１図（ａ）は遮光用薄膜を用い
て形成した遮光部と開口部を有するパターンの平面図で
、第１図（ｂ）は第１図（ａ）の破線Ｃ部の断面図であ
る．図において、１は遮光部、２は開口部、３は測光ス
ポット、４はカラーフィルタパターン、５は透明基板で
ある． また、第２図，第３図は本発明実施例により得られたフ
ィルタパターンの分光透過率特性を示す。
まず本発明の測定方法で用いる遮光パターンの形成方法
について簡単に述べる．第１図に示すように、透明基板
５上に例えばＣｒ蒸着膜等の遮光用薄膜１を形成し、続
いてフォトレジストを積層し、写真製版を用いて該フォ
トレジストをパターニングした後、上記遮光用薄膜１を
エッチングして第１図に示す開口部２のパターンを作製
する。
について簡単に述べる．第１図に示すように、透明基板
５上に例えばＣｒ蒸着膜等の遮光用薄膜１を形成し、続
いてフォトレジストを積層し、写真製版を用いて該フォ
トレジストをパターニングした後、上記遮光用薄膜１を
エッチングして第１図に示す開口部２のパターンを作製
する。
続いて、この開口部２上、あるいは遮光部上に第１図Φ
）に示すカラーフィルタパターン４を形成する． 次に分光透過率を測定する訳であるが、まずリファレン
スとしてフィルタパターンを形成していない遮光パター
ンを第１図（ａ）に示すような測光スボット３にて測定
し、続いて所望のフィルタパターンを形成した遮光パタ
ーンを同様に測定し、これから上記リファレンスを差し
引いたものが、所望のフィルタパターンの分光特性とな
る．ここで得られる分光特性は、各フィルタパターンの
エッジ部での特性劣化や隣接する遮光部からの回り込み
を含んでおり、その結果微小カラーフィルタパターンの
分光特性を高精度に測定することができる． 即ち、第２図は開口部にＹｅ（黄色）フィルタを設けた
場合の分光透過率を示し、該開口部に設けたＹｅフィル
タ４が遮光部上にｄ−＋０．５μｍだけオーバーラップ
している場合は、その分光透過率特性は実線で示される
ように、４００〜５００ｎｍの波長域（青色）の光が充
分に吸収され、カットされた特性となる．次に、該Ｙｅ
フィルタが遮光部上からｄ−−０．１μｍだけ内側に形
成されている場合は、その透過率特性は破線で示される
ようになり、約５ ０ ０ ｎｍ以上の波長域（緑，赤
色）では、フィルタエッジによる散乱等にょうて図のＣ
に示すようにその透過率が大きく減少しており、一方、
４００〜５ ０ ０ ｎｍの波長域（青色）ではフィル
タサイズが小さくなったことによって光がもれこみ、即
ち該フィルタと遮光部との間の部分のフィルタ厚みが薄
いことによってここを通遇する光が充分に吸収されるこ
とができなくなり、該４００〜５ ０ ０ ｎｍの波長
域で透過率が図のＤに示すように若干大きくなっている
ことがわかる． また、第３図は第２図と逆に遮光部上にＹｅフィルタを
設けた場合の開口部での分光透過率を示し、まず遮光部
上に設けたカラーフィルタの境界位置がｄ−−０．１μ
ｍの場合は、実線で示すように透過率は１００％が得ら
れる．これに対し、ｄ−＋０．１μｍの場合は破線で示
すように透過率はほぼ６０％前後で滑らかなカーブを描
き、またｄ−＋０．９ａｍの場合は一点鎖線で示すよう
に約５００ｎｍ以上の波長域でほぼ６０〜７０％の透過
率を示し、約５ ０ ０ ｎｍ以下の波長域でほぼ５〜
１０％の透過率を示す．これらｄ−＋０．：ｌμｍ，＋
０．９μｍの場合の透過率の低下は、約５ ０ ０ ｎ
ｍ以上の波長域でのそれ（Ｅ）はフィ、ルタエッジでの
散乱等による吸収によるものであり、約５００ｎｍ以下
の波長域でのそれ（Ｆ）はＹｅフィルタによる青色の光
の吸収によるものである． なお、本発明の方法では開口部が小さく、測定光量が低
下する場合には、スポット径を十分に大きくして全体の
透過光量を増やして測定することが可能である． 第４図は本発明の第２の実施例を示す．上記第１の実施
例では、遮光パターンに第１図のようなチェック状のも
のを用いたが、この第４図に示すように、開口部を実デ
バイスのフォトダイオード等の画素に見たて、各所望の
カラーフィルタをこの開口部に形成するようにすれば、
実デバイスの出力と同等の分光特性を得ることができる
．ここで第４図（ａ）は実デバイスの概略図で、６はフ
ォトダイオード部である．第４図（ロ）は、デバイス上
に形成、あるいは貼り合わせるカラーフィルタの配列を
示す．例えば、Ｃｙ（シアン）の分光特性を知りたい場
合は、第４図（Ｃ）のように遮光パターンをｃｙフィル
ダを形成する部分に開口部がくるようにすれば、各画素
の開口面積，画素間の分離の幅等を反映した、隣接画素
（Ｗ，Ｙｅ，Ｇ）からのクロストーク量等を含んだＣｙ
フィルタの分光特性を測定できる． 次に、この発明にかかるカラーフィルタの分光特性測定
方法を利用した貼り合わせカラーフィルタの製造方法に
ついて説明する．第５図において、ｌは遮光部、７はカ
ラーフィルタアレイ、８は遮光パターンであり、本製造
方法では遮光パターン８をカラーフィルタアレイ７外に
配置し、これをカラーフィルタアレイのモニタとして利
用し、貼り合わせカラーフィルタの製造に利用するもの
である． 即ち、より詳述すれば、第６図（ａ）． （ｂ）に示す
チップ１０の各画素エリア７上において、ガラス基板５
上にＣｒ遮光膜１を形成し（第６図（Ｃ），（ｄ））、
その上にボリマー等の透明樹脂膜からなる平坦化膜（こ
れはなくてもよい）１１を形成し（第６図（ｅ））、そ
の上にフィルタパターン４を彫成する（第６図（ｆ））
．このフィルタパターン４の形成において、カラーフィ
ルタアレイ７外に配置した遮光パターン８部のカラーフ
ィルタの透過光のモニタを行い、その分光透過率特性を
検出しながらその形成を行うことにより、所望の特性の
カラーフィルタを得るようにする．その後該フィルタパ
ターン４の染色を行い、その上に防染膜ｌ２を形成し（
第６図（８））、さらにその上に他の色のフィルタパタ
ーン４ｂ，４ｃを同じくモニタを行いながら形成してカ
ラーフィルタアレイを形成する（第６図（ロ））． 〔発明の効果〕 以上のように゛、この発明にかかるカラーフィルタの分
光特性測定方法およびカラーフィルタの製造方法によれ
ば、遮光部と開口部とを有する遮光パターンを設け、該
パターンの開口部上又は遮光部上のみにカラーフィルタ
を形成し、上記遮光部と開口部とを含むスポット光にて
測光を行うようにしたため、カラーフィルタエッジ部の
分光特性や隣接カラーフィルタからのクロストーク量等
についても測定でき、微小カラーフィルタにおける分光
特性を下地デバイスなしで評価できる効果がある．
）に示すカラーフィルタパターン４を形成する． 次に分光透過率を測定する訳であるが、まずリファレン
スとしてフィルタパターンを形成していない遮光パター
ンを第１図（ａ）に示すような測光スボット３にて測定
し、続いて所望のフィルタパターンを形成した遮光パタ
ーンを同様に測定し、これから上記リファレンスを差し
引いたものが、所望のフィルタパターンの分光特性とな
る．ここで得られる分光特性は、各フィルタパターンの
エッジ部での特性劣化や隣接する遮光部からの回り込み
を含んでおり、その結果微小カラーフィルタパターンの
分光特性を高精度に測定することができる． 即ち、第２図は開口部にＹｅ（黄色）フィルタを設けた
場合の分光透過率を示し、該開口部に設けたＹｅフィル
タ４が遮光部上にｄ−＋０．５μｍだけオーバーラップ
している場合は、その分光透過率特性は実線で示される
ように、４００〜５００ｎｍの波長域（青色）の光が充
分に吸収され、カットされた特性となる．次に、該Ｙｅ
フィルタが遮光部上からｄ−−０．１μｍだけ内側に形
成されている場合は、その透過率特性は破線で示される
ようになり、約５ ０ ０ ｎｍ以上の波長域（緑，赤
色）では、フィルタエッジによる散乱等にょうて図のＣ
に示すようにその透過率が大きく減少しており、一方、
４００〜５ ０ ０ ｎｍの波長域（青色）ではフィル
タサイズが小さくなったことによって光がもれこみ、即
ち該フィルタと遮光部との間の部分のフィルタ厚みが薄
いことによってここを通遇する光が充分に吸収されるこ
とができなくなり、該４００〜５ ０ ０ ｎｍの波長
域で透過率が図のＤに示すように若干大きくなっている
ことがわかる． また、第３図は第２図と逆に遮光部上にＹｅフィルタを
設けた場合の開口部での分光透過率を示し、まず遮光部
上に設けたカラーフィルタの境界位置がｄ−−０．１μ
ｍの場合は、実線で示すように透過率は１００％が得ら
れる．これに対し、ｄ−＋０．１μｍの場合は破線で示
すように透過率はほぼ６０％前後で滑らかなカーブを描
き、またｄ−＋０．９ａｍの場合は一点鎖線で示すよう
に約５００ｎｍ以上の波長域でほぼ６０〜７０％の透過
率を示し、約５ ０ ０ ｎｍ以下の波長域でほぼ５〜
１０％の透過率を示す．これらｄ−＋０．：ｌμｍ，＋
０．９μｍの場合の透過率の低下は、約５ ０ ０ ｎ
ｍ以上の波長域でのそれ（Ｅ）はフィ、ルタエッジでの
散乱等による吸収によるものであり、約５００ｎｍ以下
の波長域でのそれ（Ｆ）はＹｅフィルタによる青色の光
の吸収によるものである． なお、本発明の方法では開口部が小さく、測定光量が低
下する場合には、スポット径を十分に大きくして全体の
透過光量を増やして測定することが可能である． 第４図は本発明の第２の実施例を示す．上記第１の実施
例では、遮光パターンに第１図のようなチェック状のも
のを用いたが、この第４図に示すように、開口部を実デ
バイスのフォトダイオード等の画素に見たて、各所望の
カラーフィルタをこの開口部に形成するようにすれば、
実デバイスの出力と同等の分光特性を得ることができる
．ここで第４図（ａ）は実デバイスの概略図で、６はフ
ォトダイオード部である．第４図（ロ）は、デバイス上
に形成、あるいは貼り合わせるカラーフィルタの配列を
示す．例えば、Ｃｙ（シアン）の分光特性を知りたい場
合は、第４図（Ｃ）のように遮光パターンをｃｙフィル
ダを形成する部分に開口部がくるようにすれば、各画素
の開口面積，画素間の分離の幅等を反映した、隣接画素
（Ｗ，Ｙｅ，Ｇ）からのクロストーク量等を含んだＣｙ
フィルタの分光特性を測定できる． 次に、この発明にかかるカラーフィルタの分光特性測定
方法を利用した貼り合わせカラーフィルタの製造方法に
ついて説明する．第５図において、ｌは遮光部、７はカ
ラーフィルタアレイ、８は遮光パターンであり、本製造
方法では遮光パターン８をカラーフィルタアレイ７外に
配置し、これをカラーフィルタアレイのモニタとして利
用し、貼り合わせカラーフィルタの製造に利用するもの
である． 即ち、より詳述すれば、第６図（ａ）． （ｂ）に示す
チップ１０の各画素エリア７上において、ガラス基板５
上にＣｒ遮光膜１を形成し（第６図（Ｃ），（ｄ））、
その上にボリマー等の透明樹脂膜からなる平坦化膜（こ
れはなくてもよい）１１を形成し（第６図（ｅ））、そ
の上にフィルタパターン４を彫成する（第６図（ｆ））
．このフィルタパターン４の形成において、カラーフィ
ルタアレイ７外に配置した遮光パターン８部のカラーフ
ィルタの透過光のモニタを行い、その分光透過率特性を
検出しながらその形成を行うことにより、所望の特性の
カラーフィルタを得るようにする．その後該フィルタパ
ターン４の染色を行い、その上に防染膜ｌ２を形成し（
第６図（８））、さらにその上に他の色のフィルタパタ
ーン４ｂ，４ｃを同じくモニタを行いながら形成してカ
ラーフィルタアレイを形成する（第６図（ロ））． 〔発明の効果〕 以上のように゛、この発明にかかるカラーフィルタの分
光特性測定方法およびカラーフィルタの製造方法によれ
ば、遮光部と開口部とを有する遮光パターンを設け、該
パターンの開口部上又は遮光部上のみにカラーフィルタ
を形成し、上記遮光部と開口部とを含むスポット光にて
測光を行うようにしたため、カラーフィルタエッジ部の
分光特性や隣接カラーフィルタからのクロストーク量等
についても測定でき、微小カラーフィルタにおける分光
特性を下地デバイスなしで評価できる効果がある．
第１図（ａ）及び（ロ）はこの発明の一実施例によるカ
ラーフィルタの分光特性測定方法を示す平面図及び断面
図、第２図，第３図は本発明実施例により得られるフィ
ルタパターンの分光透過率特性を示す図、第４図は本発
明の他の実施例を示す図で、第４図（旬は実デバイスの
概略図、第４図（ロ）はデバイス上に形成、あるいは貼
り合わせるカラーフィルタの配列を示す図、第４図（Ｃ
）は開口部を有する遮光パターンを形成する配置を説明
するための図、第５図および第６図はこの発明によるカ
ラーフィルタの分光特性測定方法を利用したカラーフィ
ルタの製造方法を示す図、第７図は従来の測定システム
例を示す図、第８図（ａ）及び（ロ）は従来の測定例を
示す断面図及び平面図である． ｌは遮光部、２は開口部、３は測光スポット、４はカラ
ーフィルタパターン、５は透明基板、６はフォトダイオ
ード部、７はカラーフィルタアレイ、８は遮光パターン
である．
ラーフィルタの分光特性測定方法を示す平面図及び断面
図、第２図，第３図は本発明実施例により得られるフィ
ルタパターンの分光透過率特性を示す図、第４図は本発
明の他の実施例を示す図で、第４図（旬は実デバイスの
概略図、第４図（ロ）はデバイス上に形成、あるいは貼
り合わせるカラーフィルタの配列を示す図、第４図（Ｃ
）は開口部を有する遮光パターンを形成する配置を説明
するための図、第５図および第６図はこの発明によるカ
ラーフィルタの分光特性測定方法を利用したカラーフィ
ルタの製造方法を示す図、第７図は従来の測定システム
例を示す図、第８図（ａ）及び（ロ）は従来の測定例を
示す断面図及び平面図である． ｌは遮光部、２は開口部、３は測光スポット、４はカラ
ーフィルタパターン、５は透明基板、６はフォトダイオ
ード部、７はカラーフィルタアレイ、８は遮光パターン
である．
Claims (2)
- （１）透明基板上に遮光用薄膜を用いて遮光部と開口部
とを有するパターンを形成する工程と、上記パターンの
開口部上又は遮光部上のみにカラーフィルタを形成する
工程と、 上記開口部上のカラーフィルタまたは上記遮光部上にカ
ラーフィルタを設けた際の上記開口部の分光透過率を上
記開口部および遮光部を含むスポット光にて測光する工
程とを含むことを特徴とするカラーフィルタの分光特性
測定方法。 - （２）貼り合わせカラーフィルタの製造方法において、 請求項１記載の遮光部と開口部とを有するパターンおよ
びカラーフィルタを、製造すべきカラーフィルタアレイ
の外部に配置し、 該カラーフィルタの分光透過率特性をモニタしながらカ
ラーフィルタアレイを製造することを特徴とするカラー
フィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1055493A JPH02234040A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | カラーフィルタの分光特性測定方法およびカラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1055493A JPH02234040A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | カラーフィルタの分光特性測定方法およびカラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02234040A true JPH02234040A (ja) | 1990-09-17 |
Family
ID=13000160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1055493A Pending JPH02234040A (ja) | 1989-03-08 | 1989-03-08 | カラーフィルタの分光特性測定方法およびカラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02234040A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000346744A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-12-15 | Canon Inc | カラーフィルタの色特性の測定方法及び測定装置 |
| JP2006071401A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Toppan Printing Co Ltd | 分光透過率測定方法及び分光透過率測定装置 |
| JP2007279167A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学素子用部材の色評価方法及び色管理方法、並びに、それらの方法に用いる標本着色層 |
-
1989
- 1989-03-08 JP JP1055493A patent/JPH02234040A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000346744A (ja) * | 1999-03-30 | 2000-12-15 | Canon Inc | カラーフィルタの色特性の測定方法及び測定装置 |
| JP4566326B2 (ja) * | 1999-03-30 | 2010-10-20 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの分光特性測定方法および分光特性測定装置 |
| JP2006071401A (ja) * | 2004-09-01 | 2006-03-16 | Toppan Printing Co Ltd | 分光透過率測定方法及び分光透過率測定装置 |
| JP4622395B2 (ja) * | 2004-09-01 | 2011-02-02 | 凸版印刷株式会社 | 分光透過率測定方法 |
| JP2007279167A (ja) * | 2006-04-03 | 2007-10-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学素子用部材の色評価方法及び色管理方法、並びに、それらの方法に用いる標本着色層 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2008085385A2 (en) | Plasmonic fabry-perot filter | |
| US20060172453A1 (en) | Image sensor and manufacturing method of image sensor | |
| US11143554B2 (en) | Multispectral imaging device with array of microlenses | |
| JP2007019143A (ja) | 固体撮像装置の製造方法、固体撮像装置及びカメラ | |
| JPH02132405A (ja) | 分光フィルター及び分光測定センサー | |
| JPH02234040A (ja) | カラーフィルタの分光特性測定方法およびカラーフィルタの製造方法 | |
| CN212458658U (zh) | 基于亚波长高对比度光栅的光谱芯片及光谱仪 | |
| KR100296136B1 (ko) | 칼라필터의특성측정용테스트패턴을갖는이미지센서 | |
| JP2993772B2 (ja) | カラーフィルタの共通欠陥検査方式 | |
| TWI279923B (en) | Shielding layer outside the pixel regions of optical device and method for making the same | |
| JP4542648B2 (ja) | 測光機器の受光装置 | |
| CN118168655A (zh) | 光谱芯片 | |
| JPS6214103A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
| JPS63159807A (ja) | カラ−フイルタの製造方法 | |
| KR100442294B1 (ko) | 이미지 센서 | |
| KR20000010194A (ko) | 이미지센서 제조방법 | |
| JP2018116150A (ja) | 分光素子、固体撮像素子および分光素子の製造方法 | |
| JPH0541962B2 (ja) | ||
| JPH0296372A (ja) | カラー固体撮像素子の製造方法 | |
| JPH05164914A (ja) | カラー固体撮像装置 | |
| JP2004311557A (ja) | リニアセンサー用固体撮像素子 | |
| JP2022069852A (ja) | マルチカラーセンサ及びマルチカラーセンサ装置 | |
| JP3202213B2 (ja) | 色分解フィルタの製造方法 | |
| KR20000003924A (ko) | 분광장치를 갖는 이미지센서 | |
| KR100564078B1 (ko) | 칼라 센서 구조 및 그것의 제조 방법 |