JP3202213B2 - 色分解フィルタの製造方法 - Google Patents
色分解フィルタの製造方法Info
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- JP3202213B2 JP3202213B2 JP18070989A JP18070989A JP3202213B2 JP 3202213 B2 JP3202213 B2 JP 3202213B2 JP 18070989 A JP18070989 A JP 18070989A JP 18070989 A JP18070989 A JP 18070989A JP 3202213 B2 JP3202213 B2 JP 3202213B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は固体撮像デバイスに使用される色分解フィル
タの製造方法に関し、特に有機高分子材料を使用し、選
択露光染色プロセスにより形成される色分解フィルタの
製造方法に関する。
タの製造方法に関し、特に有機高分子材料を使用し、選
択露光染色プロセスにより形成される色分解フィルタの
製造方法に関する。
［従来の技術］ 単板式カラーカメラでは、１枚の固体撮像装置から３
原色に分解された画像信号を取り出す必要があり、この
ため色分解フィルタが使用されている。
原色に分解された画像信号を取り出す必要があり、この
ため色分解フィルタが使用されている。
第３図は撮像デバイス上に形成される従来の色分解フ
ィルタの製造方法を示す断面図である。固体撮像素子に
は異なる分光特性を必要とする第１及び第２の光検知部
1,2が形成されている。
ィルタの製造方法を示す断面図である。固体撮像素子に
は異なる分光特性を必要とする第１及び第２の光検知部
1,2が形成されている。
先ず、固体撮像素子上に透明な第１の防染層３を形成
する。そして、この第１の防染層３上における第１の光
検知部１の直上域に、選択露光染色プロセスを使用し
て、被染色性を有する有機高分子材料からなる第１の染
色層６を選択的に形成する。
する。そして、この第１の防染層３上における第１の光
検知部１の直上域に、選択露光染色プロセスを使用し
て、被染色性を有する有機高分子材料からなる第１の染
色層６を選択的に形成する。
次に、全面に第２の防染層４を形成する。次いで、染
色層６と同様の選択露光プロセスにより、光検知部１及
び２の直上域の防染層４上に夫々第２及び第３の染色層
7b及び5bを形成する。この第２及び第３の染色層7b及び
5bは染色層６とは異なる分光特性を有している。
色層６と同様の選択露光プロセスにより、光検知部１及
び２の直上域の防染層４上に夫々第２及び第３の染色層
7b及び5bを形成する。この第２及び第３の染色層7b及び
5bは染色層６とは異なる分光特性を有している。
従来の色分解フィルタは上述の如く製造されており、
色分解フィルタに入射した光は染色層5b,6、7bにより色
分解され、所定の波長の光のみが所定の光検知部に到達
する。
色分解フィルタに入射した光は染色層5b,6、7bにより色
分解され、所定の波長の光のみが所定の光検知部に到達
する。
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、従来の色分解フィルタの製造方法にお
いては、第１の染色層６の影響を受けて、第２の防染層
４の表面に凹凸が形成される。第２の染色層7b及び第３
の染色層5bはこの第２の防染層４上に有機高分子材料を
塗布して形成されるが、この凹凸及び有機高分子材料の
特性のために、凹部に形成される第３の染色層5bと凸部
に形成される第２の染色層7bとはその層厚が異なったも
のになりやすい。
いては、第１の染色層６の影響を受けて、第２の防染層
４の表面に凹凸が形成される。第２の染色層7b及び第３
の染色層5bはこの第２の防染層４上に有機高分子材料を
塗布して形成されるが、この凹凸及び有機高分子材料の
特性のために、凹部に形成される第３の染色層5bと凸部
に形成される第２の染色層7bとはその層厚が異なったも
のになりやすい。
染色工程においては、染色層5b及び7bは同時に染色さ
れるため、染色時に各染色層の分光特性を補正すること
はできない。従って、第２の染色層7bと第３の染色層5b
との層厚が異なると、本来同一の分光特性であるべき染
色層5b及び7bの分光特性が異なってしまう。このよう
に、従来の製造方法により製造された色分解フィルタ
は、所定の分光特性を得にくいという難点があり、これ
がフィルタを有する固体撮像素子の品質の低下及び製造
歩留りの低下の大きな要因になっている。
れるため、染色時に各染色層の分光特性を補正すること
はできない。従って、第２の染色層7bと第３の染色層5b
との層厚が異なると、本来同一の分光特性であるべき染
色層5b及び7bの分光特性が異なってしまう。このよう
に、従来の製造方法により製造された色分解フィルタ
は、所定の分光特性を得にくいという難点があり、これ
がフィルタを有する固体撮像素子の品質の低下及び製造
歩留りの低下の大きな要因になっている。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであっ
て、染色層の層厚のバラツキを回避して、常に所定の分
光特性を有する色分解フィルタを得ることができる色分
解フィルタの製造方法を提供することを目的とする。
て、染色層の層厚のバラツキを回避して、常に所定の分
光特性を有する色分解フィルタを得ることができる色分
解フィルタの製造方法を提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 本発明に係る色分解フィルタの製造方法は、複数の光
検知部を有する固体撮像素子上に色分解フィルタを形成
する色分解フィルタの製造方法において、特定の光検知
部と他の光検知部との各々に対応させて有機高分子材料
からなる染色層を前記固体撮像素子上に形成するもので
あり、 前記特定の光検知部の直上域に第１の染色層を選択的
に形成する工程と、 全面に第１の防染層を形成した後、該第１の防染層上
であって、かつ前記他の光検知部の直上域に第２の染色
層を選択的に形成する工程と、 全面に第２の防染層を形成して、前記特定および他の
光検知部の直上域における前記第２の防染層表面を互い
に略平坦とする工程と、 前記第２の防染層上であって、かつ前記特定の光検知
部の直上域に第３の染色層を選択的に形成する工程とを
有することを特徴とする。
検知部を有する固体撮像素子上に色分解フィルタを形成
する色分解フィルタの製造方法において、特定の光検知
部と他の光検知部との各々に対応させて有機高分子材料
からなる染色層を前記固体撮像素子上に形成するもので
あり、 前記特定の光検知部の直上域に第１の染色層を選択的
に形成する工程と、 全面に第１の防染層を形成した後、該第１の防染層上
であって、かつ前記他の光検知部の直上域に第２の染色
層を選択的に形成する工程と、 全面に第２の防染層を形成して、前記特定および他の
光検知部の直上域における前記第２の防染層表面を互い
に略平坦とする工程と、 前記第２の防染層上であって、かつ前記特定の光検知
部の直上域に第３の染色層を選択的に形成する工程とを
有することを特徴とする。
また、前記第２の染色層と前記第３の染色層とが同じ
分光特性となるように形成されることを特徴とする。
分光特性となるように形成されることを特徴とする。
［作用］ 本発明においては、特定の光検知部の直上域に第１の
染色層を選択的に形成した後、全面に防染層を形成す
る。この場合、この防染層には第１の染色層の層厚の影
響により凹凸が形成される。次に、全面に防染層を形成
した後、例えば、第１の染色層の直上域の前記防染層上
に第２の染色層を形成する。この場合、有機高分子材料
の塗布条件を適正に選択する等の方法により、第２の染
色層を所定の層厚にすることができる。次に、全面に他
の防染層を形成する。これにより、前工程で形成された
第２の染色層はこの他の防染層に被覆される。次いで、
この他の防染層上における前記第２の染色層が形成され
ていない他の光検知部の直上域に第３の染色層を形成す
る。この場合も、有機高分子材料の塗布条件を適正に制
御する等により、第３の染色層を所定の層厚にすること
ができる。
染色層を選択的に形成した後、全面に防染層を形成す
る。この場合、この防染層には第１の染色層の層厚の影
響により凹凸が形成される。次に、全面に防染層を形成
した後、例えば、第１の染色層の直上域の前記防染層上
に第２の染色層を形成する。この場合、有機高分子材料
の塗布条件を適正に選択する等の方法により、第２の染
色層を所定の層厚にすることができる。次に、全面に他
の防染層を形成する。これにより、前工程で形成された
第２の染色層はこの他の防染層に被覆される。次いで、
この他の防染層上における前記第２の染色層が形成され
ていない他の光検知部の直上域に第３の染色層を形成す
る。この場合も、有機高分子材料の塗布条件を適正に制
御する等により、第３の染色層を所定の層厚にすること
ができる。
本発明によれば、上述の如く、第２及び第３の染色層
を別の工程で形成するから、いずれも所定の層厚に形成
することができる。なお、第２の染色層を前記他の光検
知部上方に形成し、全面に第３の防染層を形成した後第
３の染色層を前記特定の光検知部の上方に形成しても、
各染色層を個別的に形成することに変わりはなく、各染
色層の層厚を所定の層厚に均一化することができる。
を別の工程で形成するから、いずれも所定の層厚に形成
することができる。なお、第２の染色層を前記他の光検
知部上方に形成し、全面に第３の防染層を形成した後第
３の染色層を前記特定の光検知部の上方に形成しても、
各染色層を個別的に形成することに変わりはなく、各染
色層の層厚を所定の層厚に均一化することができる。
このように、本発明においては同一の分光特性である
べき第２の染色層及び第３の染色層を個別的に形成する
ため、各染色層を所定の層厚に形成することができ、そ
の分光特性を高精度で一致させることができる。これに
より、所定の分光特性を有する色分解フィルタが得られ
る。
べき第２の染色層及び第３の染色層を個別的に形成する
ため、各染色層を所定の層厚に形成することができ、そ
の分光特性を高精度で一致させることができる。これに
より、所定の分光特性を有する色分解フィルタが得られ
る。
［実施例］ 次に、本発明の実施例について添付の図面を参照して
説明する。
説明する。
第１図は本発明の第１の実施例を示す断面図である。
固体撮像素子には、例えば、第１及び第２の光検知部1,
2が設けられている。
固体撮像素子には、例えば、第１及び第２の光検知部1,
2が設けられている。
先ず、固体撮像素子上に第１の防染層３を形成する。
そして、第１の光検知部１の直上域の防染層３上に第１
の染色層６を選択的に形成する。その後、この第１の染
色層６を含む防染層３上に第２の防染層４を形成する。
そして、第１の光検知部１の直上域の防染層３上に第１
の染色層６を選択的に形成する。その後、この第１の染
色層６を含む防染層３上に第２の防染層４を形成する。
次に、第１の染色層６の直上域の第２の防染層４上に
第２の染色層９を形成する。そして、全面に第３の防染
層８を形成する。
第２の染色層９を形成する。そして、全面に第３の防染
層８を形成する。
次いで、第２の光検知部２の直上域の防染層８上に、
第２の染色層９と同一の分光特性を有すべき第３の染色
層５を第２の染色層９と同一の層厚で形成する。
第２の染色層９と同一の分光特性を有すべき第３の染色
層５を第２の染色層９と同一の層厚で形成する。
本実施例においては、第２の染色層９を形成した後第
３の防染層８を形成し、その後第３の染色層５を形成す
る。このように、第２の防染層４の凸部に形成される第
２の染色層９と凹部に形成される第３の染色層５とを別
の工程で形成する。従って、各染色層の層厚を個別的に
調整することができるので、いずれも所定の厚さに一致
させることが容易にできる。従って、第３の染色層５と
第２の染色層９との分光特性の差を解消することができ
る。
３の防染層８を形成し、その後第３の染色層５を形成す
る。このように、第２の防染層４の凸部に形成される第
２の染色層９と凹部に形成される第３の染色層５とを別
の工程で形成する。従って、各染色層の層厚を個別的に
調整することができるので、いずれも所定の厚さに一致
させることが容易にできる。従って、第３の染色層５と
第２の染色層９との分光特性の差を解消することができ
る。
第２図は本発明の第２の実施例を示す断面図である。
先ず、固体撮像素子上に第１の防染層３を形成する。
そして、第１の光検知部１の直上域の防染層３上に第１
の染色層６を選択的に形成する。その後、この第１の染
色層６上を含む防染層３上に、第２の防染層４を形成す
る。
そして、第１の光検知部１の直上域の防染層３上に第１
の染色層６を選択的に形成する。その後、この第１の染
色層６上を含む防染層３上に、第２の防染層４を形成す
る。
次に、第２の光検知部２の直上域の第２の防染層４上
に第２の染色層9aを選択的に形成する。その後、全面に
第３の防染層8aを形成する。
に第２の染色層9aを選択的に形成する。その後、全面に
第３の防染層8aを形成する。
次いで、第１の染色層６の直上域の第３の防染層8a上
に、第２の染色層9aと同一の分光特性を有すべき第３の
染色層5aを選択的に形成する。
に、第２の染色層9aと同一の分光特性を有すべき第３の
染色層5aを選択的に形成する。
本実施例においては、上述の如く、第１の染色層６を
形成した後に、全面に第２の防染層４を形成し、第１の
染色層６が形成されていない領域の直上域に第２の染色
層9aを形成する。そして、全面に第３の防染層8aを形成
し、第１の染色層６の直上域に第３の染色層5aを形成す
る。従って、第１の実施例と同様の効果が得られるのに
加え、本実施例においては、第３の防染層8aの表面が略
々平坦になるため、第３の染色層5aを高いパターン精度
で形成することができる。
形成した後に、全面に第２の防染層４を形成し、第１の
染色層６が形成されていない領域の直上域に第２の染色
層9aを形成する。そして、全面に第３の防染層8aを形成
し、第１の染色層６の直上域に第３の染色層5aを形成す
る。従って、第１の実施例と同様の効果が得られるのに
加え、本実施例においては、第３の防染層8aの表面が略
々平坦になるため、第３の染色層5aを高いパターン精度
で形成することができる。
［発明の効果］ 以上説明したように本発明によれば、第１の染色層上
の直上域に配置される第２（又は第３）の染色層と、他
の領域に配置される第３（又は第２）の染色層とを別の
工程で形成するので、第２及び第３の染色層間の層厚の
差を解消でき、分光特性を所定のものに高精度で一致さ
せることができる。従って、常に所定の分光特性を有す
る色分解フィルタを安定して製造することができる。
の直上域に配置される第２（又は第３）の染色層と、他
の領域に配置される第３（又は第２）の染色層とを別の
工程で形成するので、第２及び第３の染色層間の層厚の
差を解消でき、分光特性を所定のものに高精度で一致さ
せることができる。従って、常に所定の分光特性を有す
る色分解フィルタを安定して製造することができる。
第１図は本発明の第１の実施例に係る色分解フィルタの
製造方法を示す断面図、第２図は本発明の第２の実施例
に係る色分解フィルタの製造方法を示す断面図、第３図
は従来の色分解フィルタの製造方法を示す断面図であ
る。 1;第１の光検知部、2;第２の光検知部、3;第１の防染
層、4;第２の防染層、5,5a,5b;第３の染色層、6;第１の
染色層、7b,9,9a;第２の染色層、8,8a;第３の防染層
製造方法を示す断面図、第２図は本発明の第２の実施例
に係る色分解フィルタの製造方法を示す断面図、第３図
は従来の色分解フィルタの製造方法を示す断面図であ
る。 1;第１の光検知部、2;第２の光検知部、3;第１の防染
層、4;第２の防染層、5,5a,5b;第３の染色層、6;第１の
染色層、7b,9,9a;第２の染色層、8,8a;第３の防染層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−114809（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−163802（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−258962（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−58668（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−220706（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】複数の光検知部を有する固体撮像素子上に
色分解フィルタを形成する色分解フィルタの製造方法に
おいて、特定の光検知部と他の光検知部との各々に対応
させて有機高分子材料からなる染色層を前記固体撮像素
子上に形成するものであり、 前記特定の光検知部の直上域に第１の染色層を選択的に
形成する工程と、 全面に第１の防染層を形成した後、該第１の防染層上で
あって、かつ前記他の光検知部の直上域に第２の染色層
を選択的に形成する工程と、 全面に第２の防染層を形成して、前記特定および他の光
検知部の直上域における前記第２の防染層表面を互いに
略平坦とする工程と、 前記第２の防染層上であって、かつ前記特定の光検知部
の直上域に第３の染色層を選択的に形成する工程とを有
することを特徴とする色分解フィルタの製造方法。 - 【請求項２】前記第２の染色層と前記第３の染色層とが
同じ分光特性となるように形成されることを特徴とする
請求項１記載の色分解フィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18070989A JP3202213B2 (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 色分解フィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18070989A JP3202213B2 (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 色分解フィルタの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0344602A JPH0344602A (ja) | 1991-02-26 |
| JP3202213B2 true JP3202213B2 (ja) | 2001-08-27 |
Family
ID=16087943
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18070989A Expired - Fee Related JP3202213B2 (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | 色分解フィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3202213B2 (ja) |
-
1989
- 1989-07-13 JP JP18070989A patent/JP3202213B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0344602A (ja) | 1991-02-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |