JP2911899B2 - 色分解フィルタ - Google Patents
色分解フィルタInfo
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- Light Receiving Elements (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Color Television Image Signal Generators (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、固体撮像デバイスに使用される色分解フィ
ルタに関し、特に、有機高分子材料を用い、選択露光染
色プロセスによって形成される色分解フィルタに関す
る。
ルタに関し、特に、有機高分子材料を用い、選択露光染
色プロセスによって形成される色分解フィルタに関す
る。
［従来の技術］ 単板式カラーカメラでは、１枚の固体撮像装置から３
原色の画像信号を取出すための色分解フィルタを必要と
する。第３図は撮像デバイスに直接形成される従来のこ
の種の色分解フィルタの構造を示す。
原色の画像信号を取出すための色分解フィルタを必要と
する。第３図は撮像デバイスに直接形成される従来のこ
の種の色分解フィルタの構造を示す。
即ち、基板１の上面をアルミニウムの遮光膜２で区切
って光検知部３を形成してなる固体撮像装置４の上面
に、透明な防染層５を形成する。この防染層５の上に被
染色性を有する有機高分子材料を塗布し、紫外線照射に
よる選択露光染色プロセスにより所望のパターンの染色
層6aを形成した後、その上に透明の防染層７を形成す
る。このプロセスを繰り返して補色系のMg（マゼン
タ）、Cy（シアン）、Ye（イエロー）の各染色層6a,6b,
6cを得て、更に、その上層に分光特性を向上させるため
に、光検知部の全てを覆うYeの染色層6dを形成してい
た。
って光検知部３を形成してなる固体撮像装置４の上面
に、透明な防染層５を形成する。この防染層５の上に被
染色性を有する有機高分子材料を塗布し、紫外線照射に
よる選択露光染色プロセスにより所望のパターンの染色
層6aを形成した後、その上に透明の防染層７を形成す
る。このプロセスを繰り返して補色系のMg（マゼン
タ）、Cy（シアン）、Ye（イエロー）の各染色層6a,6b,
6cを得て、更に、その上層に分光特性を向上させるため
に、光検知部の全てを覆うYeの染色層6dを形成してい
た。
［発明が解決しようとする課題］ 上述した従来の色分解フィルタは光検知部３を分離す
る遮光膜２がアルミニウムで形成されているため、次の
ような問題点があった。即ち、各染色層6a,6b,6cは有機
高分子材料の塗布面への紫外線照射によって形成される
が、上記塗布面へ照射された紫外線の一部は、透明の防
染層7,5を介して遮光膜２に至り、ここで反射されて再
び上記塗布面に照射される。このため、パターン形成時
にパターン解像度が低下し、極端な場合、所望しない光
検知部にまでそのパターンが及んでしまうという欠点が
あった。このような、染色パターンの解像度不良は撮像
デバイスの分光特性の悪化をもたらし、製品の歩留り及
びその品質を低下させるという重大な問題点を招来する
ものであった。
る遮光膜２がアルミニウムで形成されているため、次の
ような問題点があった。即ち、各染色層6a,6b,6cは有機
高分子材料の塗布面への紫外線照射によって形成される
が、上記塗布面へ照射された紫外線の一部は、透明の防
染層7,5を介して遮光膜２に至り、ここで反射されて再
び上記塗布面に照射される。このため、パターン形成時
にパターン解像度が低下し、極端な場合、所望しない光
検知部にまでそのパターンが及んでしまうという欠点が
あった。このような、染色パターンの解像度不良は撮像
デバイスの分光特性の悪化をもたらし、製品の歩留り及
びその品質を低下させるという重大な問題点を招来する
ものであった。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであっ
て、染色層形成時の紫外線の無用な反射を防止して、染
色パターンの解像度を向上させることができ、これによ
り撮像デバイスの分光特性の向上、延いては製品の歩留
り及び品質の向上を図ることができる色分解フィルタを
提供することを目的とする。
て、染色層形成時の紫外線の無用な反射を防止して、染
色パターンの解像度を向上させることができ、これによ
り撮像デバイスの分光特性の向上、延いては製品の歩留
り及び品質の向上を図ることができる色分解フィルタを
提供することを目的とする。
［課題を解決するための手段］ 本発明に係る色分解フィルタは、金属製の遮光膜によ
って分離された複数の光検知部を備えた固体撮像装置の
前記各光検知部の上部に前記光検知部と一体化された形
で選択露光染色プロセスによって形成された有機高分子
材料からなる染色層と、この染色層と前記遮光膜との間
に配置され、前記選択露光染色プロセスに使用される光
の波長を吸収する反射光吸収層と、この反射光吸収層と
前記光検知部及び遮光膜との間に配置された透明な防染
層とを具備したことを特徴とする。
って分離された複数の光検知部を備えた固体撮像装置の
前記各光検知部の上部に前記光検知部と一体化された形
で選択露光染色プロセスによって形成された有機高分子
材料からなる染色層と、この染色層と前記遮光膜との間
に配置され、前記選択露光染色プロセスに使用される光
の波長を吸収する反射光吸収層と、この反射光吸収層と
前記光検知部及び遮光膜との間に配置された透明な防染
層とを具備したことを特徴とする。
［作用］ 本発明によれば、各光検知部の上に選択露光染色プロ
セスによって染色層を形成する際、照射光の一部は上記
染色層の下方に位置する金属製の遮光膜まで到達する
が、染色層と遮光膜との間には上記照射光の波長を吸収
ピークとする反射光吸収層が設けられているので、遮光
膜からの反射光はこの反射光吸収層で吸収され、その上
の有機高分子材料に影響を及ぼすことがない。このため
染色パターンの解像度を向上させることができ、撮像デ
バイスの分光特性の向上、延いては、製品の歩留り及び
品質の向上を図ることができる。
セスによって染色層を形成する際、照射光の一部は上記
染色層の下方に位置する金属製の遮光膜まで到達する
が、染色層と遮光膜との間には上記照射光の波長を吸収
ピークとする反射光吸収層が設けられているので、遮光
膜からの反射光はこの反射光吸収層で吸収され、その上
の有機高分子材料に影響を及ぼすことがない。このため
染色パターンの解像度を向上させることができ、撮像デ
バイスの分光特性の向上、延いては、製品の歩留り及び
品質の向上を図ることができる。
［実施例］ 次に、添付の図面を参照して本発明の実施例について
具体的に説明する。
具体的に説明する。
第１図は本発明の実施例に係る色分解フィルタの構成
を示す図である。なお、この図において固体撮像装置４
の構成は従来のものと同様であるので、その説明は省略
する。
を示す図である。なお、この図において固体撮像装置４
の構成は従来のものと同様であるので、その説明は省略
する。
固体撮像装置４の各光検知部３の上方であって、防染
層５の上面には、被染色製を有する有機高分子材料への
紫外線照射による染色プロセスにより反射光吸収層とし
ての染色層11が形成される。この染色層11は、使用され
る紫外線の層内波長、例えば、436nm付近に吸収ピーク
を持つ染色パターンであり、少なくとも後述するMg,Cy,
Yeの各染色層13a,13b,13cの全体を下側から覆うことが
できる程度のパターン及び広さに形成されている。
層５の上面には、被染色製を有する有機高分子材料への
紫外線照射による染色プロセスにより反射光吸収層とし
ての染色層11が形成される。この染色層11は、使用され
る紫外線の層内波長、例えば、436nm付近に吸収ピーク
を持つ染色パターンであり、少なくとも後述するMg,Cy,
Yeの各染色層13a,13b,13cの全体を下側から覆うことが
できる程度のパターン及び広さに形成されている。
この染色層11の上面には透明の防染層12が形成され
る。更に、この防染層12の上面に従来と同様、被染色性
を有する有機高分子材料を塗布し、紫外線照射による選
択露光染色プロセスにより所定のパターンの染色層13a
を形成し、更に、その上に透明の防染層14を形成する。
そして、このプロセスを繰り返して、補色系のMg,Cy,Ye
の各染色層13a,13b,13cを形成する。
る。更に、この防染層12の上面に従来と同様、被染色性
を有する有機高分子材料を塗布し、紫外線照射による選
択露光染色プロセスにより所定のパターンの染色層13a
を形成し、更に、その上に透明の防染層14を形成する。
そして、このプロセスを繰り返して、補色系のMg,Cy,Ye
の各染色層13a,13b,13cを形成する。
このような構成であれば、各染色層13a,13b,13cを紫
外線照射によって形成する際、紫外線の一部は防染層1
4,12,5を介してアルミニウム製の遮光膜２まで到達する
が、この遮光膜２からの反射光は、染色層11に吸収され
て上層の有機高分子材料へは到達せず、解像度不良が発
生することがない。
外線照射によって形成する際、紫外線の一部は防染層1
4,12,5を介してアルミニウム製の遮光膜２まで到達する
が、この遮光膜２からの反射光は、染色層11に吸収され
て上層の有機高分子材料へは到達せず、解像度不良が発
生することがない。
第２図は本発明の他の実施例に係る色分解フィルタの
構成を示す図である。先の実施例では、436nm付近に吸
収ピークを持つ所定パターンの染色層11を形成したが、
本実施例ではこの染色層11とそのすぐ上の防染層12の代
わりに、予め防染層の材料中に436nm付近の吸収ピーク
をもつ吸光剤を添加した防染層15を形成してある。この
防染層15も先の実施例と同様、436nm付近に吸収ピーク
を持つ反射光吸収層となるものである。
構成を示す図である。先の実施例では、436nm付近に吸
収ピークを持つ所定パターンの染色層11を形成したが、
本実施例ではこの染色層11とそのすぐ上の防染層12の代
わりに、予め防染層の材料中に436nm付近の吸収ピーク
をもつ吸光剤を添加した防染層15を形成してある。この
防染層15も先の実施例と同様、436nm付近に吸収ピーク
を持つ反射光吸収層となるものである。
この実施例によれば、先の実施例のような436nm付近
に吸収ピークを持つ染色パターンの形成工程を省略する
ことができるという利点がある。
に吸収ピークを持つ染色パターンの形成工程を省略する
ことができるという利点がある。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものでは
ない。例えば、本発明はＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）
の３原色フィルタにおいても同様に適用可能である。ま
た、反射光吸収層は遮光膜の上に設けるようにしてもよ
い。更には、反射吸収層の吸収ピーク波長も、使用する
光の波長に応じて適宜変更可能である。
ない。例えば、本発明はＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）
の３原色フィルタにおいても同様に適用可能である。ま
た、反射光吸収層は遮光膜の上に設けるようにしてもよ
い。更には、反射吸収層の吸収ピーク波長も、使用する
光の波長に応じて適宜変更可能である。
［発明の効果］ 以上説明したように本発明によれば、各染色層と遮光
膜との間に反射光吸収層を設けているので、遮光膜から
の反射光を上記反射光吸収層で吸収することができ、そ
の上層に形成する染色層の解像度不良を防止することが
できる。従って、製品の歩留り及び品質が向上し、本発
明は極めて有益である。
膜との間に反射光吸収層を設けているので、遮光膜から
の反射光を上記反射光吸収層で吸収することができ、そ
の上層に形成する染色層の解像度不良を防止することが
できる。従って、製品の歩留り及び品質が向上し、本発
明は極めて有益である。
第１図は本発明の実施例に係る色分解フィルタの断面
図、第２図は本発明の他の実施例に係る色分解フィルタ
の断面図、第３図は従来の色分解フィルタの断面図であ
る。 1;基板、2;遮光膜、3;光検知部、４；固体撮像装置、5,
7,12,14,15;防染層、6a乃至6d,11,13a乃至13c;染色層
図、第２図は本発明の他の実施例に係る色分解フィルタ
の断面図、第３図は従来の色分解フィルタの断面図であ
る。 1;基板、2;遮光膜、3;光検知部、４；固体撮像装置、5,
7,12,14,15;防染層、6a乃至6d,11,13a乃至13c;染色層
Claims (2)
- 【請求項１】金属製の遮光膜によって分離された複数の
光検知部を備えた固体撮像装置の前記各光検知部の上部
に前記光検知部と一体化された形で選択露光染色プロセ
スによって形成された有機高分子材料からなる染色層
と、この染色層と前記遮光膜との間に配置され、前記選
択露光染色プロセスに使用される光の波長を吸収する反
射光吸収層と、この反射光吸収層と前記光検知部及び遮
光膜との間に配置された透明な防染層とを具備したこと
を特徴とする色分解フィルタ。 - 【請求項２】前記反射光吸収層は、前記各光検知部につ
いて個別に設けられていることを特徴とする請求項１に
記載の色分解フィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7389588A JP2911899B2 (ja) | 1988-03-28 | 1988-03-28 | 色分解フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7389588A JP2911899B2 (ja) | 1988-03-28 | 1988-03-28 | 色分解フィルタ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01245778A JPH01245778A (ja) | 1989-09-29 |
| JP2911899B2 true JP2911899B2 (ja) | 1999-06-23 |
Family
ID=13531396
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7389588A Expired - Lifetime JP2911899B2 (ja) | 1988-03-28 | 1988-03-28 | 色分解フィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2911899B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04130401A (ja) * | 1990-09-21 | 1992-05-01 | Toppan Printing Co Ltd | 電極付カラーフィルター |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6147724A (ja) * | 1984-08-15 | 1986-03-08 | Toshiba Corp | エポキシ樹脂組成物 |
-
1988
- 1988-03-28 JP JP7389588A patent/JP2911899B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01245778A (ja) | 1989-09-29 |
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