JPS59113404A - カラ−固体撮像素子用カラ−フイルタの製造方法 - Google Patents
カラ−固体撮像素子用カラ−フイルタの製造方法Info
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- JPS59113404A JPS59113404A JP57224407A JP22440782A JPS59113404A JP S59113404 A JPS59113404 A JP S59113404A JP 57224407 A JP57224407 A JP 57224407A JP 22440782 A JP22440782 A JP 22440782A JP S59113404 A JPS59113404 A JP S59113404A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 21
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 239000003086 colorant Substances 0.000 claims description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 abstract description 8
- 229920002189 poly(glycerol 1-O-monomethacrylate) polymer Polymers 0.000 abstract description 6
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 abstract description 5
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001044 red dye Substances 0.000 description 2
- VDBJCDWTNCKRTF-UHFFFAOYSA-N 6'-hydroxyspiro[2-benzofuran-3,9'-9ah-xanthene]-1,3'-dione Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1C=CC(=O)C=C1OC1=CC(O)=CC=C21 VDBJCDWTNCKRTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical group CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010068370 Glutens Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001045 blue dye Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 235000021312 gluten Nutrition 0.000 description 1
- 239000001046 green dye Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- -1 methyl ethyl Chemical group 0.000 description 1
- 229920002454 poly(glycidyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、複数の光センサ部が配列された半導体構成の
撮像基板に装着されるカラー固体撮像素子用カラーフィ
ルタの製造方法に関する。
撮像基板に装着されるカラー固体撮像素子用カラーフィ
ルタの製造方法に関する。
半導体構成の撮像基板に複数の光センサ部を配列した一
体撮像素子にて、カラー画像を撮影するＫＨ１上記撮像
基板上に、その各光センサ部に対応して赤、緑、青色の
３原色のカラーフィルタを装着し、これ等光センサ都か
ら得られる色信号を検出する事になる。
体撮像素子にて、カラー画像を撮影するＫＨ１上記撮像
基板上に、その各光センサ部に対応して赤、緑、青色の
３原色のカラーフィルタを装着し、これ等光センサ都か
ら得られる色信号を検出する事になる。
祈るカラーフィルタの従来の製造方法を第１図値）〜（
ｇ）に示し、同図に基ついて、従来方法を述べる。
ｇ）に示し、同図に基ついて、従来方法を述べる。
先ず、同図（ａ）の撮像基板（１）上に同図（ｂ）に示
す如く、カラーフィルタの素材となるポリマー材料層（
２）を−面にコーティングする。次に同図（ｃ）に示す
如く、該ポリマー材料層（２）上にポジ型の第１のレジ
スト材料層（３］）を被着した後、同図（ｄ）に示す如
く、この第１のレジスト材料層則を所望のパターンに露
光現像し、赤色染料の高圧蒸気にて露出したポリマー材
料層（２）を赤色に染色して撮像基板（１）の赤色用光
センサ部に対応したパターンの赤色フィルタを得る（同
図（ｅ））。その後同図（ｆ）に示す如く、第１のレジ
スト材料層ｃ３υのパターンを除去する。
す如く、カラーフィルタの素材となるポリマー材料層（
２）を−面にコーティングする。次に同図（ｃ）に示す
如く、該ポリマー材料層（２）上にポジ型の第１のレジ
スト材料層（３］）を被着した後、同図（ｄ）に示す如
く、この第１のレジスト材料層則を所望のパターンに露
光現像し、赤色染料の高圧蒸気にて露出したポリマー材
料層（２）を赤色に染色して撮像基板（１）の赤色用光
センサ部に対応したパターンの赤色フィルタを得る（同
図（ｅ））。その後同図（ｆ）に示す如く、第１のレジ
スト材料層ｃ３υのパターンを除去する。
続いて、上記の赤色フィルタを形成した際の工程と同様
の工程をくシ返し、ポリマー材料層（２）に、撮像基板
（１）の緑色用光センサ部に対応したパターン２）緑色
フィルタ、及び青色用光センサ部に対応したパターンの
青色フィルタを順次形成して、同図（「）に示す即く、
ポリマー材料層（２）を素材としたカラーフィルタＲ，
Ｇ、Ｂを得る。
の工程をくシ返し、ポリマー材料層（２）に、撮像基板
（１）の緑色用光センサ部に対応したパターン２）緑色
フィルタ、及び青色用光センサ部に対応したパターンの
青色フィルタを順次形成して、同図（「）に示す即く、
ポリマー材料層（２）を素材としたカラーフィルタＲ，
Ｇ、Ｂを得る。
上述の如き従来方法に依れば、レジスト材料層０１Ｊ・
・・の被着、露光現像、染色、さらにはレジスト材料層
けυ・・・の全面除去、等の工程が赤、緑、青の夫々に
ついてくり返し必要となるので、祈る製造工程数が多く
なり、カラーフィルタ製造の歩留りを向上せしめるには
限界があった。
・・の被着、露光現像、染色、さらにはレジスト材料層
けυ・・・の全面除去、等の工程が赤、緑、青の夫々に
ついてくり返し必要となるので、祈る製造工程数が多く
なり、カラーフィルタ製造の歩留りを向上せしめるには
限界があった。
本発明は上述の点に鑑みてなされたものであり、カラー
フィルタの製造工程を簡略化できるカラー固体撮像素子
用カラーフィルタの製造方法を提供するものである。
フィルタの製造工程を簡略化できるカラー固体撮像素子
用カラーフィルタの製造方法を提供するものである。
スト材料層を被着した後、この材料層を撮像基板の各光
層ンサ部に対応したパターンに露光現像する工程を少な
くとも６色の色毎に行なう事に依って、レジスト材料層
を素材としたカラーフィルタを得るものである。
層ンサ部に対応したパターンに露光現像する工程を少な
くとも６色の色毎に行なう事に依って、レジスト材料層
を素材としたカラーフィルタを得るものである。
実施例
第２図（ａ）〜（ｈ）に本発明のカラーフィルタの製造
方法の一実施例を示し、第３図に所る実施例法に依って
得られた固体撮像素子の具体例を示す。
方法の一実施例を示し、第３図に所る実施例法に依って
得られた固体撮像素子の具体例を示す。
ここでまず、第３図に基づいて、撮像基板（１）につい
て述べる。該基板（１）はＰ型シリコンの半導体基板（
［Ｑに、ｆ型領域からなる行列配置した複数の光センサ
部ｕ１）・・・、これ等光センサ部！ｌυ・・・の垂直
例に近接して配列されたＮ−型領域からなる複数本のＣ
ＣＤチャンネル部賭・・・、並びに、とのＣＣＤチャン
ネル部睦・・・の側辺に沿って配列された複数本のチャ
ンネルストッパ部ｑ３Ｉ・・・、を夫々形成し、さらに
は、この半導体基板四表面に第１、第２及び第３の絶縁
層１１４）（１６）（ｌ（至）の三層構造体を備え、こ
れ等各層１１４）（１６１間、及びけ６１（１（至）間
に上記半導体基板ｔｔＯ）のＣＣＤチャンネル部鰻・・
・に対応してＣＣＤ下層ゲート、（１ω・・・及びＣＣ
Ｄ下層ゲート ＬＬ６１・・・を設けたものである。
て述べる。該基板（１）はＰ型シリコンの半導体基板（
［Ｑに、ｆ型領域からなる行列配置した複数の光センサ
部ｕ１）・・・、これ等光センサ部！ｌυ・・・の垂直
例に近接して配列されたＮ−型領域からなる複数本のＣ
ＣＤチャンネル部賭・・・、並びに、とのＣＣＤチャン
ネル部睦・・・の側辺に沿って配列された複数本のチャ
ンネルストッパ部ｑ３Ｉ・・・、を夫々形成し、さらに
は、この半導体基板四表面に第１、第２及び第３の絶縁
層１１４）（１６）（ｌ（至）の三層構造体を備え、こ
れ等各層１１４）（１６１間、及びけ６１（１（至）間
に上記半導体基板ｔｔＯ）のＣＣＤチャンネル部鰻・・
・に対応してＣＣＤ下層ゲート、（１ω・・・及びＣＣ
Ｄ下層ゲート ＬＬ６１・・・を設けたものである。
所る撮像基板（１）に取り付けられるカラーフィルりの
製造方法を第２図に基づいて、詳述する。
製造方法を第２図に基づいて、詳述する。
先ず、第２図（ａ）の撮像基板（１）に赤色染料である
イーストマンコダック社製の商品名［ポリエステルレッ
ド２ＧＪを重量比で５％混入したネガ型置子線ンジスト
ＰＧＭＡ（ポリグリシジルメタクリレ−）：ｇ剤はエチ
ルセロツル７゛アセｆ−））を２００ Ｏｒｐｍで１μ
ｍ厚となる様に塗布し、第２図（ｂ）に示す如き赤色レ
ジスト材料層（４１１を得る。そして、この状態の撮像
基板（１）を窒素雰囲気中で８０℃で３０分間プリベー
クし、赤色レジスト材料層ｆ４１）と基板（１）との密
着性を高めておく。その後６ＸＩＤ’Ｃ／−の露光量で
この赤色レジスト材料層Ｉを電子線露光し、これをメチ
ルエチルグトンにエタノールを７＝１で混合した現像液
にて現像して撮像基板（１）の赤色光用光センサ部Ｕ・
・・（第３図）上の箇所を残存せしめた第２図（ｃ）の
如きパターンの赤色フィルタＲ・・・を得、これを１３
０℃で３０分而面燥して該赤色フィルタＲ・・・の耐性
を高める。
イーストマンコダック社製の商品名［ポリエステルレッ
ド２ＧＪを重量比で５％混入したネガ型置子線ンジスト
ＰＧＭＡ（ポリグリシジルメタクリレ−）：ｇ剤はエチ
ルセロツル７゛アセｆ−））を２００ Ｏｒｐｍで１μ
ｍ厚となる様に塗布し、第２図（ｂ）に示す如き赤色レ
ジスト材料層（４１１を得る。そして、この状態の撮像
基板（１）を窒素雰囲気中で８０℃で３０分間プリベー
クし、赤色レジスト材料層ｆ４１）と基板（１）との密
着性を高めておく。その後６ＸＩＤ’Ｃ／−の露光量で
この赤色レジスト材料層Ｉを電子線露光し、これをメチ
ルエチルグトンにエタノールを７＝１で混合した現像液
にて現像して撮像基板（１）の赤色光用光センサ部Ｕ・
・・（第３図）上の箇所を残存せしめた第２図（ｃ）の
如きパターンの赤色フィルタＲ・・・を得、これを１３
０℃で３０分而面燥して該赤色フィルタＲ・・・の耐性
を高める。
次に、上述の如く赤色フィルタＲ・・・が形成された撮
像基板（１）上に、緑色染料としてのイーストマンコダ
ック社製の商品名「ポリエステルイエロー７ＧＴＪと同
じく［ポリエステルブルーＧＲＪとの６：４の混合染料
が重量比で５％混入されたネガ型電子線ＰＧＭＡを、上
述の赤色の場合と同じく塗布し、第２図ｆｄ）に示す如
き緑色レジスト材料層（４３を得、これをプリベークす
る。その後、赤色の場合と同条件で露光現像して撮像基
板（１１の緑色光用光センサ部（１υ・・・上の箇所を
残存せしめた第２図（ｅ）の如きパターンの緑色フィル
タＧ・・・ヲ得、コれを乾燥処理する。
像基板（１）上に、緑色染料としてのイーストマンコダ
ック社製の商品名「ポリエステルイエロー７ＧＴＪと同
じく［ポリエステルブルーＧＲＪとの６：４の混合染料
が重量比で５％混入されたネガ型電子線ＰＧＭＡを、上
述の赤色の場合と同じく塗布し、第２図ｆｄ）に示す如
き緑色レジスト材料層（４３を得、これをプリベークす
る。その後、赤色の場合と同条件で露光現像して撮像基
板（１１の緑色光用光センサ部（１υ・・・上の箇所を
残存せしめた第２図（ｅ）の如きパターンの緑色フィル
タＧ・・・ヲ得、コれを乾燥処理する。
さらに、上述の赤色、及び緑色の場合と同じく撮像基板
（１ｊ、上に、青色染料としてのイーストマンコダック
社製の商品名「ポリエステルブルーＧＲ」が重量比で５
％混入されたネガ型電子線ＰＧＭＡを塗布し、第２図（
ｆ）に示す如き青色レジスト材料層（４■を得、これ？
プリベークする。その後、露光現像して撮像基板（１）
の骨色光用光センサ都（ｌ叶・上の箇所を残存せしめた
第２図（ｑ）の如きパターンの青色フィルタＢ・・・を
得、乾燥処理する。
（１ｊ、上に、青色染料としてのイーストマンコダック
社製の商品名「ポリエステルブルーＧＲ」が重量比で５
％混入されたネガ型電子線ＰＧＭＡを塗布し、第２図（
ｆ）に示す如き青色レジスト材料層（４■を得、これ？
プリベークする。その後、露光現像して撮像基板（１）
の骨色光用光センサ都（ｌ叶・上の箇所を残存せしめた
第２図（ｑ）の如きパターンの青色フィルタＢ・・・を
得、乾燥処理する。
処理シ、第２図（ｈｌに示す如き平坦なカラーフィルタ
Ｒ，ＧＳＢを形成する。
Ｒ，ＧＳＢを形成する。
尚、第３図に示した本発明に係る固体撮像素子の具体例
に於いては、上述の如くして撮像基板（１）ノ各光セン
サ部（」υ・・・上に被着されたカラーフィルタＲ１Ｇ
、Ｂの他に、これらカラーフィルタＲ１ＧＳＢの間隙か
ら半導体基板（ＩＱＩに不用な光が入射するのを防止す
る為のアルミニウムからなる光シールド膜（５）・・・
を形成し、さらには、これ等、カラーフィルタＲ，Ｇ、
Ｂ並びに光シールド膜（５）・・・を保護する為の透明
な保護膜１６）が被着されている。
に於いては、上述の如くして撮像基板（１）ノ各光セン
サ部（」υ・・・上に被着されたカラーフィルタＲ１Ｇ
、Ｂの他に、これらカラーフィルタＲ１ＧＳＢの間隙か
ら半導体基板（ＩＱＩに不用な光が入射するのを防止す
る為のアルミニウムからなる光シールド膜（５）・・・
を形成し、さらには、これ等、カラーフィルタＲ，Ｇ、
Ｂ並びに光シールド膜（５）・・・を保護する為の透明
な保護膜１６）が被着されている。
而して、第３図に示すカラー固体撮像素子に結像された
撮像光は、カラーフィルタＲ，Ｇ１Ｂにて赤、緑、青光
成分に分離される事となり、これ等各色成分光は、カラ
ーフィルタＲＳＧ、Ｂ下に投けられた各光センサ部Ｕυ
・・・にて夫々光電変換され、各色成分光の強度に応じ
た量の電子を発生する。そして、これ等電子を夫々のＣ
ＣＤチャンネルｕカ・・・に導入した後、ＣＣＤ上層ゲ
ート（１７）・・・及び下層ゲー）（ｌω・・・に駆動
パルスを印加する事に依って、上記各電子を三原色の色
信号として外部に転ても本発明の実施は可能である。ま
た第３図の具体例に於いては、アルミニウムからなる光
シールド膜（５）・・・を備えているが、この光シール
ド膜（５）・・・をも黒色に染色されたレジスト材料を
用いて、他のカラーフィルタＲ５Ｇ１ Ｂ１ と同工程
で形成する事も可能である。さらに、本発明製造方法は
、赤、緑、青色の三原色のカラーフィルタＲ％Ｇ、Ｂに
限定されるものではなく、これ等の補色の関係にあるフ
ィルタを形成する事も可能である。
撮像光は、カラーフィルタＲ，Ｇ１Ｂにて赤、緑、青光
成分に分離される事となり、これ等各色成分光は、カラ
ーフィルタＲＳＧ、Ｂ下に投けられた各光センサ部Ｕυ
・・・にて夫々光電変換され、各色成分光の強度に応じ
た量の電子を発生する。そして、これ等電子を夫々のＣ
ＣＤチャンネルｕカ・・・に導入した後、ＣＣＤ上層ゲ
ート（１７）・・・及び下層ゲー）（ｌω・・・に駆動
パルスを印加する事に依って、上記各電子を三原色の色
信号として外部に転ても本発明の実施は可能である。ま
た第３図の具体例に於いては、アルミニウムからなる光
シールド膜（５）・・・を備えているが、この光シール
ド膜（５）・・・をも黒色に染色されたレジスト材料を
用いて、他のカラーフィルタＲ５Ｇ１ Ｂ１ と同工程
で形成する事も可能である。さらに、本発明製造方法は
、赤、緑、青色の三原色のカラーフィルタＲ％Ｇ、Ｂに
限定されるものではなく、これ等の補色の関係にあるフ
ィルタを形成する事も可能である。
本発明のカラー固体撮像素子用カラーフィルタの製造方
法は、撮像基板に染色されたレジスト材料層を被着した
後、この材料層を撮像基板の各光センサ部に対応したパ
ターンに露光現像する工程を少なくとも３色の色毎に行
なう事に依って、レジスト材料層を素材としたカラーフ
ィルタを得るものであるので、即ち予じめ染色されたカ
ラーフィルタを選択的に被着形成するものであるので、
カラーフィルタ素材であるポリマー材料層を予じめ被着
形成してから選択的に染色していた従来方法に必要であ
った染色工程及びこの染色の為のマスクとして使用した
後のレジスト材料層の全面除去工程等が省略でき、製造
工程数の大巾な削減が図れ、製造歩留りの向上が望める
。
法は、撮像基板に染色されたレジスト材料層を被着した
後、この材料層を撮像基板の各光センサ部に対応したパ
ターンに露光現像する工程を少なくとも３色の色毎に行
なう事に依って、レジスト材料層を素材としたカラーフ
ィルタを得るものであるので、即ち予じめ染色されたカ
ラーフィルタを選択的に被着形成するものであるので、
カラーフィルタ素材であるポリマー材料層を予じめ被着
形成してから選択的に染色していた従来方法に必要であ
った染色工程及びこの染色の為のマスクとして使用した
後のレジスト材料層の全面除去工程等が省略でき、製造
工程数の大巾な削減が図れ、製造歩留りの向上が望める
。
第１図（ａ）〜（ｇ）はカラー固体撮像素子用カラーフ
ィルタの従来の製造方法を工程順に示した断面図、第２
図（ａ）〜（ｈ）は本発明のカラー固体撮像素子用カラ
ーフィルタの製造方法の一実施例を工程順に示した断面
図、第３図は本発明方法に係るカラー固体撮像素子の一
具体例の断面図、である。 （１）・・・撮像基板、Ｕ唄・・半導体基板、１１υ・
・・光センサ部、（４１）・・・赤色レジスト材料層、
（４２１・・・緑色レジスト材料層、（４３・・・青色
レジスト材料層、Ｒ・・・赤色フィルタ、Ｇ、・・・緑
色フィルタ、Ｂ・・・青色フィルタ。 第１図 １ 第２図 第３図
ィルタの従来の製造方法を工程順に示した断面図、第２
図（ａ）〜（ｈ）は本発明のカラー固体撮像素子用カラ
ーフィルタの製造方法の一実施例を工程順に示した断面
図、第３図は本発明方法に係るカラー固体撮像素子の一
具体例の断面図、である。 （１）・・・撮像基板、Ｕ唄・・半導体基板、１１υ・
・・光センサ部、（４１）・・・赤色レジスト材料層、
（４２１・・・緑色レジスト材料層、（４３・・・青色
レジスト材料層、Ｒ・・・赤色フィルタ、Ｇ、・・・緑
色フィルタ、Ｂ・・・青色フィルタ。 第１図 １ 第２図 第３図
Claims (1)
- １）複数の光センサ部を配列してなる半導体構成の撮像
基板上に少なくとも３色のカラーフィルタを装着したカ
ラー固体撮像素子用カラーフィルタの製造方法に於いて
、上記基板上に第１の色に染色された第１のレジスト材
料層を被着せしめた後、該第１のレジスト材料層を第１
の色を感知する為の光センサ部に対応したパターンに露
光現像し、次いでこの基板上に第２の色に染色された第
２のレジスト材料層を被着せしめた後、該第２のレジス
ト材料層を第２の色を感知する為の光センサ都に対応し
たパターンに露光現像し、さらに同じくこの基板上に第
６の色に染色された第６のレジスト材料層を被着せしめ
た後、この第６のレジスト材料層を第３の色を感知する
為の光センサ部に対応したパターンに露光現像する事に
依り、各レジスト材料層からなるカラーフィルタを得る
事を特徴としたカラー固体撮像素子用カラーフィルタの
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57224407A JPS59113404A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | カラ−固体撮像素子用カラ−フイルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57224407A JPS59113404A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | カラ−固体撮像素子用カラ−フイルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59113404A true JPS59113404A (ja) | 1984-06-30 |
Family
ID=16813275
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57224407A Pending JPS59113404A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | カラ−固体撮像素子用カラ−フイルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59113404A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6078075A (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-02 | 清水建設株式会社 | 空気膜構造におけるケーブルクランプの取付け方法 |
| JPS6194004A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-12 | Nec Corp | カラ−フイルタ−製造方法 |
| JPS61295503A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Seikosha Co Ltd | カラ−フィルタの製造方法 |
| JPS63217305A (ja) * | 1987-03-06 | 1988-09-09 | Fujitsu Ltd | 固体カラ−撮像素子及びその製造方法 |
| EP0434273A2 (en) * | 1989-12-22 | 1991-06-26 | Texas Instruments Incorporated | Electromagnetic radiation filter elements and methods of fabrication |
| JPH04112346U (ja) * | 1991-03-19 | 1992-09-30 | 延義 熊木 | カ−ペツト用掃除機の回転ブラシ |
| US8168353B2 (en) * | 2008-10-28 | 2012-05-01 | Hoseo University Academic Cooperation Foundation | Method of curing color filter for electronic display using electron-beam and method of fabricating color filter for electronic display using the same |
-
1982
- 1982-12-20 JP JP57224407A patent/JPS59113404A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6078075A (ja) * | 1983-10-04 | 1985-05-02 | 清水建設株式会社 | 空気膜構造におけるケーブルクランプの取付け方法 |
| JPH0157225B2 (ja) * | 1983-10-04 | 1989-12-05 | Shimizu Construction Co Ltd | |
| JPS6194004A (ja) * | 1984-10-16 | 1986-05-12 | Nec Corp | カラ−フイルタ−製造方法 |
| JPS61295503A (ja) * | 1985-06-25 | 1986-12-26 | Seikosha Co Ltd | カラ−フィルタの製造方法 |
| JPH0443562B2 (ja) * | 1985-06-25 | 1992-07-17 | Seikosha Kk | |
| JPS63217305A (ja) * | 1987-03-06 | 1988-09-09 | Fujitsu Ltd | 固体カラ−撮像素子及びその製造方法 |
| EP0434273A2 (en) * | 1989-12-22 | 1991-06-26 | Texas Instruments Incorporated | Electromagnetic radiation filter elements and methods of fabrication |
| EP0434273A3 (ja) * | 1989-12-22 | 1994-03-23 | Texas Instruments Inc | |
| JPH04112346U (ja) * | 1991-03-19 | 1992-09-30 | 延義 熊木 | カ−ペツト用掃除機の回転ブラシ |
| US8168353B2 (en) * | 2008-10-28 | 2012-05-01 | Hoseo University Academic Cooperation Foundation | Method of curing color filter for electronic display using electron-beam and method of fabricating color filter for electronic display using the same |
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