JPH02232386A - 溶融塩電解法によるガスの製造方法 - Google Patents

溶融塩電解法によるガスの製造方法

Info

Publication number
JPH02232386A
JPH02232386A JP1049998A JP4999889A JPH02232386A JP H02232386 A JPH02232386 A JP H02232386A JP 1049998 A JP1049998 A JP 1049998A JP 4999889 A JP4999889 A JP 4999889A JP H02232386 A JPH02232386 A JP H02232386A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
chamber
anode
carrier gas
cathode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1049998A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0678593B2 (ja
Inventor
Isao Harada
功 原田
Tokuyuki Iwanaga
岩永 徳幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Toatsu Chemicals Inc filed Critical Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority to JP1049998A priority Critical patent/JPH0678593B2/ja
Publication of JPH02232386A publication Critical patent/JPH02232386A/ja
Publication of JPH0678593B2 publication Critical patent/JPH0678593B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electrolytic Production Of Non-Metals, Compounds, Apparatuses Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業」一の利用分野〕 本発明は三弗化窒素(NPff)ガスや弗素(h)ガス
の製造方法に関する.更に詳しくは、溶融塩電解法によ
るNFiガスやhガスの製造方法に関する.C従来の技
術及び発明が解決しようとする課題〕溶融塩電解法によ
ってNF,ガスやF2ガスを型造する場合、通常、Nl
laP−xllFを加熱・溶融した状態で電解しNP,
を製造する方法や、κF−xllFを加熱・溶融した状
態で電解しF!を製造する方法が一般的である.このよ
うな方法は、例えば第8図に示す如き電解槽を使用し、
陽橿から発生した粗1thガスまたは$IIptガスを
第7図に示す如きlffi装置に導き、IIF,または
F2を液化・捕集する方法で製造されている. 即ち、電解槽中の陽極2と陰極4は隅仮6で隔離されて
いて、空間部(気相部)はそれぞれ陽橿室3及び陰極室
5を構成している.しかして、隔板6は陽極2から発生
ずる$11 N F sガスまたは粗F,ガスと陰極4
から発生する水素(lb)ガスが混合すると爆発を引き
起こすので、この混合を防止するために設けられている
ものである. しかし、隔板6の電解液7中へ浸液している部分は、陽
極2から陰極4へ通電しないので、この部分の電橿は電
極としての機能を果たさない.従って、電極の電流効率
を低下させないためには、隔Fi6の浸液部は極力小さ
いことが望ましく、通常、この浸液部は30〜100 
srs程度で実施される.また、電解中は陽極室3及び
llaJ!i室5へはそれぞれ窒素(N2)ガスやヘリ
ウム(He)ガス等の不活性ガスをキ+リャーガスとし
て導入している.ところが、電解中に陽極室3と陰極室
5との間に差圧が生ずる場合が多く、この差圧によって
、電解液7は陽極室3と陰極室5において、液面の差が
発生する.しかして、上記の差圧が大きくなると、陽極
室3または陰極室5の一方の液面が、隔板6の最下部よ
り下に位置するようになる.このような状態になると陽
橿室3と陰極室5の隔離が不十分となり、陽極2から発
生するNF3ガスまたはP!ガスと陰極4から発生する
11!ガスが混合し、爆発を引き起こすことになる.と
ころが、隔仮6の浸液部は前記の通り30〜100mm
程度と僅かであるので、陽極室3と陰極室5の差圧が水
柱60〜200m一程度の小さな差圧でも、NF,ガス
またはF,ガスとH.ガスとが混合し、爆発の可能性が
生ずるので、上記差圧は極力小さな範囲に抑えなければ
ならないのである. 尚、NF3ガスまたはFエガスとI+.ガスとの混合ガ
スは、爆発限界が非常に広いので、この両者の混合ガス
は非常に爆発の可能性が高く危険である.陽極室3と陰
極室5との間に差圧が生ずる原因については、種々の要
因が考えられるが、以下の理由によるものと考えられる
.即ち、 1)陽極2から発生するガス量と陰極4から発生するガ
ス量が異なること. 2)陽極2から発生するガスは前述の通り捕集装宜に導
かれ、ここでNhまたはF1は冷却・液化して捕集され
るので、この系においてガス量が大幅に少なくなる.従
って捕集容器21内の圧力が低下し、その結果、陽極室
3に圧力変動を及ぼすこと.3)また、補集容器21は
液体窒素等を冷媒25として冷却されているので、冷媒
容824中の冷媒量の変動によりNF,またはF,の液
化速度が変化し、その結果陽橿室3に圧力変動を及ぼす
こと. 4)陰極4から発生するガスはII!ガスが主成分であ
るが、弗化水素(IIF)等を含有しているので、陰極
発生ガス出口管20にこれが除去のための洗浄工程(図
示していない)が設けてある.従って、この洗浄工程で
の圧力変動が陰極室5の圧力に影響を及ぼすこと.など
である. これらによる圧力変動を防止する目的で、前記の通り電
解中は陽極室3及び陰極室5ヘキャリヤーガスを連続的
に導入しているわけである.(陽極室3及び陰極室5へ
はそれぞれ圧力計14a、14cを設けて圧力を監視し
ながら、導入するキャリヤーガス量を流量計12a 、
12c及び弁9a、9bで調節している.) しかしながら、陽橿室3と陰極室5の間の差圧は前述の
通り極めて小さい範囲に抑えなければならないので、キ
ャリヤーガスの導入のみでは爆発を防止できないのであ
る. そこで第9図に示す如き、例えば、キャリヤーガス陽掻
室導入管10に圧力自動制1n弁l7を設けて、キャリ
ヤーガスの導入量を自動制御し、陽掻室3と陰極室5の
差圧を極力抑制する方法も採用されている.しかしこの
方法は、陽掻室3内の圧力と陰極室5内の圧力を検出し
、これを電気信号等に変換して圧力自動制1nユニッ}
1Bに伝達し、圧力自動制』弁17の開閉度を自勤m節
する方法である.従って、陽橿室3内及び陰極室5内の
圧力変動の電気信号への変換の遅れ(タイムラグ)や、
陽極室3内及び陰極室5内の圧力検出精度に欠けるとい
う点で満足な結果を得られず、電解槽における爆発を完
全に防止するに至っていないのが実情である. 〔課題を解決するための手段] 本発明者等は上記状況に鑑み、溶融塩電解法によるガス
の製造において、電解槽での爆発を完全に解消すること
を目的として鋭意検討を重ねた結果、陽極室及び陰極室
に導入するキャリヤーガス導入管を単一の弁より分岐さ
せれば、上記目的が達成できることを見い出し本発明を
完成するに至ったものである. 即ち本発明は、溶融塩電解法によるガスの製造において
、陽極室及び陰橿室が単数または複数であり、各陽極室
及び陰極室に導入するキャリアーガス導入管が単一の弁
から複数に分岐され、各分岐されたキャリアーガス導入
管は逆止弁を経て各陽橿室及び各陰極室の気相部にそれ
ぞれ接続されていて、該キャリヤーガスを単一の弁に供
給して導入することを特徴とする熔融塩電解法によるガ
スの製造方法を提供するものである. 〔発明の詳細な開示〕 以下、本発明を詳細に説明する. 溶融塩電解法によってNFsガスを製造する場合、電解
槽の陽極からはNhとN2との混合ガスが発生し、陰極
からはII!ガスが発生する.また、F2ガスを製造す
る場合、電解槽の陽極からはP!ガスが発生し、陰極か
らはllrガスが発生する.そして、陽極から発生した
NF3とN!との混合ガスまたはF,ガスを冷却して、
NFsまたはP,を液化または固化して捕集する. 上記冷却には、通常、液化ガスが使用されるが、NF,
ガス製造の場合には液体窒素が好ましく、F2ガス製造
の場合には液体窒素または液体ヘリウム、あるいは液体
窒素と液体ヘリウムの混合液化ガスが適当である. 従って、本発明で使用するキ+リャーガスは、NF3ま
たはF,が液化する温度において液化または固化しない
ものであって、かつ、不活性なガスから選択される.か
かるキャリヤーガスとしては、NFsガス製造の場合に
はN.ガスまたはヘリウムガスが使用され、F,ガス製
造の場合にはヘリウムガスが使用される. 本発明において使用する電解槽を例示すると、第1図ま
たは第3図に示す形状のものが挙げられる.第1図及び
第3図は電解槽の正面断面図であり、第2図は第1図に
おけるA−A“矢視した、電極(陽極及び陰極)並びに
隔板の配置を示す平面図、第4図は第3図における電極
並びに隔板の配置を示す、第2図と同様な平面図である
.第工図に示す電解槽は、陽極2と陰極4が各I枚で1
対をなすもので、電解槽の基本形である.第3図に示す
電解槽は、陽極が2a及び2b、陰極が48及び4bと
各2枚(2対)からなっており、第1図に示す形状の電
解槽を横に直列に接続した形状をなすものであり、この
ように電極を次々に何対も接続した形状も可能である. また、電極並びに隔板の配置を、第5図または第6図の
ようにした形状でも差支えない.要は本発明においては
、キャリヤーガス導入管10、1lが各陽極室3及び各
陰極室5の気相部にそれぞれ設けられていて、該各キャ
リヤーガス導入管10、1lは単一の弁9より分岐され
たものであり、各分岐されたキャリヤーガス導入管10
、1lは、逆止弁13を経て上記ス相部にそれぞれ接続
されていなければならない. 従ってキャリヤーガス導入管は、第l図及び第2図では
2本、第3図及び第4図では4木、第5図では2本、6
図では3本それぞれ必要である.尚、分岐された各キャ
リヤーガス導入管10、11は、その長さ及び口径がな
るべく等しいことが望ましい. また、各キャリヤーガス導入管10、11にはそれぞれ
流量計12を設けて置くのが好ましい.尚、この流量計
12はキャリヤーガス導入の際の圧力損失のなるべく小
さい形式のもの、例えばローターメーター等が望ましい
. 本発明では上記の通り各キャリヤーガス導入管10、1
1にはそれぞれ逆止弁13が設けてあるが、これは電解
槽において何れかの電極からのガスの発生量が急増した
場合に、該急増したガスがキャリヤーガス導入管を経て
、他の電極からの発生ガスと混合する(陽極2からの発
生ガスであるNP,ガスまたばFtガスと陰極4からの
発生ガスであるIItガスが混合)のを防止するためで
ある.本発明においては、キャリヤーガスは単一の弁9
に供給して各陽橿室3及び陰極室5に導入されるが、該
キャリヤーガスは例えばボンベ等に貯蔵されている場合
が多い.従って、かかる高圧のキャリヤーガスを直接単
一の弁9に供給するのは危険でもあり、また、キャリヤ
ーガスの導入量も調節しにくいので、単一の弁9のガス
入口側に圧力調整器8を設け、キャリヤーガスの圧力を
適当な圧力まで低下して、単一の弁9に供給する.この
際のキャリヤーガスの圧力は、圧力調整2:8の二次側
の圧力で1〜5 kg/cm”−G程度が好ましい.本
発明においては、キャリヤーガスの導入量は電解槽の大
きさやt極からのガスの発生i等によって異なるが、各
陽掻室3及び陰極室5当たり1〜10Nj!/履1nで
実施される. 本発明では、電解槽は第7図に示す如き捕集装置と陽極
発生ガス出口管l9で接続して使用されるが、かかる状
態で溶融塩電解を行なえば、キャリヤーガスが単一の弁
9より分岐された、キャリヤーガス陽極室導入管10及
びキヤリャーガス陰極室導入管1】により、各陽極室3
及び各陰極室5に導入されるので、従来の各陽極室3及
び各陰極室5で差圧を発生する要因が発生しても、それ
に対応して自動的にキャリヤーガスの導入量が変化する
ので、これによって各陽極室3及び各陰極室5内の圧力
は同一圧力に維持されて差圧の発生を防止できるのであ
る. 〔実施例〕 以下、実施例及び比較例により本発明をより具体的に説
明する. 実施例l 第1図に示す電解槽に第7図に示す捕集装置を連結して
、溶融塩電解法によりNhガスの製造を行なった.尚、
電解槽零体1は大きさが幅300m−、奥行き300m
m,高さ3001II1で、内面がテフロンライニング
されており、隔仮6もテフロンライニングで上部よりの
長さは120mmとした.上記の電解槽に酸性弗化アン
モニウム(NII.F・11F)と弗化水素(IIP)
をII+’#JI+,モル比が1.7となるように液面
が上部より70IIIIlまで仕込んだのち、これを1
20〜125 ’Cの温度に昇温しN 11 .p・I
I1’系の電解液を形成した.また、捕集容器24は液
体窒素を冷媒として冷却した. しかる後、単一の弁9にキャリヤーガスとして圧力が2
 kg/cm”−GのhガスをIN l /aiinの
流量で供給して、pA極室3及び陰極室5へ導入した.
この状態でN,ガスの陽極室3への導入量は450Nd
/win、陰極室5への導入量は550Nall/si
nであり、陽極室3内と陰極室5内の圧力は共に3 X
IO−’kg/c+*”−Gあり差圧はなかった. この状態で陽極2より陰橿4へ直流の電流を50アンペ
ア流して電解を50時間行なった.?解により陽極2か
らは約70Nd/+ginのNP,ガスと約30111
1/+wlnのN,ガスが発生し、陰橿4からは約30
0Nd/winの11■ガスが発生した.電解中におけ
るキャリヤーガスの導入量は、陽極室3へは650 〜
700Nm/’sinであり、lIapi室5へは30
0〜350Nd/minであった.また、陽極室3内の
圧力は4 XIO−” 5 XIO−’kg/am”−
G、陰極室5内の圧力は5 X 10−”〜6 X 1
0−’kg/cm”−Gの範囲で変動しており、差圧は
殆ど生じなかった. 実施例2 実施例1で使用した装置を用いて、溶融塩電解法により
F.ガスの製造を行なった.ただし、電解槽零体1及び
隔板6の材質はニッケル製とした.上記の電解槽に酸性
弗化カリウム(κF・11F)と11FをIIP/KF
モル比が2.0となるように液面が上部より70mmま
で仕込んだのち、これを90〜100’Cの温度に昇温
しκF・IIF系の電解液を形成した.しかる後、単一
の弁9にキャリヤーガスとして圧力が2 kg/cm”
−GのI(eガスを2Nffi/sinの流量で供給し
て、pA橿室3及び陰極室5へ導入した.この?態でH
eガスの陽極室3への導入量は900Nd/win、陰
極室5への導入量は1100Nd/s+inであり、陽
橿室3内と陰極室5内の圧力は共に4.X10−’kg
/cm”−Gあり差圧はなかった. この状態で陽極2より陰pi4へ直流の電流を30アン
ペア流して電解を50時間行なった.電解により陽極2
からは約200NIIQ/sinのptガスが発生し、
陰極4からは約220N*ffi/m!nの11■ガス
が発生した.電解中におけるキャリヤーガスの導入量は
、陽極室3へは850 〜1050Nml/winであ
り、陰極室5へは950 〜+1508d/sinであ
った.また、陽極室3内の圧力は3X10−3〜5 X
 10−3kg/cm!−G、11!ffi室5内の圧
力は3 XIO−”〜5 xio−’ kg/ cmf
.Gの範囲で変動しており、差圧は殆ど生じなかった. 比較例1 キャリヤーガスの導入方法を第8図に示すように変更し
た以外は、実施例lと同様な方法によりNPsガスの製
造を行なった. 即ち、キャリヤーガスとしてN,ガスを陽極室3へは4
50Nd/sinの流量で弁9aを調節して導入し、陰
極室5へは550Nmffi/winの流量で弁9bt
−調節して導入した.尚、この時の陽捲室3内と陰極室
5内の圧力は共に3 X 10−’kg/cm”−Gあ
り、差圧はなかった. この状態で実施例1と同様に、陽極2より陰極4へ直流
の電流を50アンペア流して電解を開始した.電解開始
後は陽橿室3内の圧力と陰橿室5内の圧力に差圧が生じ
ないように、陽橿室3へのキャリヤーガス導入量を11
Mしながら電解を行なったが、電解開始約1時間10分
後に差圧が7X10−’となり、爆発の危険が生じたの
で電解を中止せざるを得なかった. 比較例2 キャリヤーガスの導入方法を第9図に示すように変更し
た以外は、実施例lと同様な方法によりNP,ガスの製
造を行なった. 即ち、キャリヤーガスとしてN,ガスを陰極室5へ55
0Nsf/winの流量で弁9bを!j1節して一定看
導入し、陽極室3へは陰極室5内の圧力と同圧となるよ
うに、圧力自動制御ユニッ目8を作肋させ圧力自動制御
弁17を調節してhガスを導入した。尚、この状態で陽
極室3内と陰極室5内の圧力は井に3 X 10−’k
g/cmz−Gア−y タ.この状態で実施例Iと同様
に、陽8ii2より陰極4へ直流の電流を50アンペア
流して電解を開始した.1lt解開始後は陽橿室3内の
圧力と陰極室5内の圧力に差圧が生じないように、陽極
室3へのキャリヤーガス導入量を圧力自動制御ユニノト
18で自動調節しながら電解を行なったが、圧力自動制
IJユニット18の電気信号のタイムラグ等により差圧
が生じ、電解開始約2時間後にその差圧が7×10−’
kg/c+s”−Gとなり、爆発の危険が生じたので電
解を中止せざるを得なかった. 〔発明の効果〕 以上詳細に説明したように、本発明は熔融塩電解法によ
るガスの製造に際し、各陽極室及び各陰極室へのキャリ
ヤーガスの導入を、単一の弁から複数に分岐されたヰヤ
リャーガス導入管から、それぞれの陽極室及び陰掘室へ
導入するという掻めて簡単な方法である.従来の方法で
は、陽極室と陰極室の間に差圧が発生し、その結果、陽
極から発生したガスと陰極から発生したガスが混合して
、電解中に爆発を惹起するという重大な問題があった.
これに対し本発明の方法を採用すれば、この電解中の爆
発という問題を完全に解消することができるのである. しかも、本発明の方法は上記の通り極めて箇単な方法で
あって、従来差圧防止のために使用していた、圧力自動
制御ユニットや圧力自動制御弁等を使用する必要もない
【図面の簡単な説明】
第1図及び第3図は、本発明に使用する電解槽の正面断
面図であり、第2図は第1図におけるA−A″矢視した
、?!橿(陽極及び陰極)並びに隔板の配置を示す平面
図、第4図は第3図における電掻並びに隔板の配置を示
す、第2図と同様な平面図である.第5図及び第6図は
、電極並びに隔板の配置の他の実施U様を示す、第2図
及び第4図と同様な平面図である. 第7図は、電解槽の陽極から発生した姐!iFsガスま
たは粗P,ガス中の、NFsまたはF,を捕集ずる装置
の1例を示す図である. 第8図及び第9図は、従来の電解槽の正面断面図である
. 図において、 I一一一一電解槽本体 2一一一一陽極3−一−一陽橿
室   4−−−一陰橿5−−−一陰極室   6−一
一一隔板7−一−一電解液   8−−一一圧力調整器
9−一一一単一の弁  9a、9b−−−一弁10−−
−−キャリヤーガス陽極室導入管1.1−−−−キャリ
ヤーガス陰橿室導入管12−−−一流量計   13−
−−一逆止弁14−−−一圧力計 17−−−一圧力自動制御弁 18−−−一圧力自動制11ユニット 1.9 − −−一陽極発生ガス出口管20−−−一陰
極発生ガス出口管 21.−−−一捕集容器  22、23−−−一弁24
−−−一冷媒容器 ー冷媒 26−−−一排気管 を示す.

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1)溶融塩電解法によるガスの製造において、陽極室及
    び陰極室が単数または複数であり、各陽極室及び陰極室
    に導入するキャリアーガス導入管が単一の弁から複数に
    分岐され、各分岐されたキャリアーガス導入管は逆止弁
    を経て各陽極室及び各陰極室の気相部にそれぞれ接続さ
    れていて、該キャリヤーガスを単一の弁に供給して導入
    することを特徴とする溶融塩電解法によるガスの製造方
    法。
JP1049998A 1989-03-03 1989-03-03 溶融塩電解法によるガスの製造方法 Expired - Fee Related JPH0678593B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1049998A JPH0678593B2 (ja) 1989-03-03 1989-03-03 溶融塩電解法によるガスの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1049998A JPH0678593B2 (ja) 1989-03-03 1989-03-03 溶融塩電解法によるガスの製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3206831A Division JP2766845B2 (ja) 1991-08-19 1991-08-19 電解槽

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02232386A true JPH02232386A (ja) 1990-09-14
JPH0678593B2 JPH0678593B2 (ja) 1994-10-05

Family

ID=12846676

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1049998A Expired - Fee Related JPH0678593B2 (ja) 1989-03-03 1989-03-03 溶融塩電解法によるガスの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0678593B2 (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04350187A (ja) * 1991-08-19 1992-12-04 Mitsui Toatsu Chem Inc 電解槽
JPH0688267A (ja) * 1992-09-08 1994-03-29 Mitsui Toatsu Chem Inc 電解槽
WO2001077412A1 (fr) 2000-04-07 2001-10-18 Toyo Tanso Co., Ltd. Appareil pour la production de fluor gazeux
JP2004043885A (ja) * 2002-07-11 2004-02-12 L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procedes Georges Claude フッ素ガス生成装置
WO2005031039A3 (en) * 2003-09-24 2005-06-16 Air Liquide Fluorine gas production unit
JP2005533925A (ja) * 2002-07-19 2005-11-10 ザ・ビーオーシー・グループ・パブリック・リミテッド・カンパニー フッ素生成装置および方法
JP2006089820A (ja) * 2004-09-27 2006-04-06 Kishun Kin フッ素電解装置
WO2007023615A1 (ja) * 2005-08-25 2007-03-01 Toyo Tanso Co., Ltd. フッ素系ガス発生装置
US7351322B2 (en) 2002-11-08 2008-04-01 Toyo Tanso Co., Ltd. Fluorine gas generator and method of electrolytic bath liquid level control
US8038852B2 (en) 2002-05-29 2011-10-18 Toyo Tanso Co., Ltd. Fluorine gas generator
WO2011129217A1 (ja) * 2010-04-16 2011-10-20 セントラル硝子株式会社 フッ素ガス生成装置

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2766845B2 (ja) * 1991-08-19 1998-06-18 三井化学株式会社 電解槽
JPH04350187A (ja) * 1991-08-19 1992-12-04 Mitsui Toatsu Chem Inc 電解槽
JPH0688267A (ja) * 1992-09-08 1994-03-29 Mitsui Toatsu Chem Inc 電解槽
CN1307325C (zh) * 2000-04-07 2007-03-28 东洋炭素株式会社 氟气发生装置
WO2001077412A1 (fr) 2000-04-07 2001-10-18 Toyo Tanso Co., Ltd. Appareil pour la production de fluor gazeux
US6818105B2 (en) 2000-04-07 2004-11-16 Toyo Tanso Co., Ltd. Apparatus for generating fluorine gas
US8038852B2 (en) 2002-05-29 2011-10-18 Toyo Tanso Co., Ltd. Fluorine gas generator
JP2004043885A (ja) * 2002-07-11 2004-02-12 L'air Liquide Sa Pour L'etude & L'exploitation Des Procedes Georges Claude フッ素ガス生成装置
WO2004007802A3 (en) * 2002-07-11 2004-07-15 Air Liquide Apparatus for the generation of fluorine gas
JP2005533925A (ja) * 2002-07-19 2005-11-10 ザ・ビーオーシー・グループ・パブリック・リミテッド・カンパニー フッ素生成装置および方法
US7351322B2 (en) 2002-11-08 2008-04-01 Toyo Tanso Co., Ltd. Fluorine gas generator and method of electrolytic bath liquid level control
WO2005031039A3 (en) * 2003-09-24 2005-06-16 Air Liquide Fluorine gas production unit
JP2006089820A (ja) * 2004-09-27 2006-04-06 Kishun Kin フッ素電解装置
WO2007023615A1 (ja) * 2005-08-25 2007-03-01 Toyo Tanso Co., Ltd. フッ素系ガス発生装置
JP4777989B2 (ja) * 2005-08-25 2011-09-21 東洋炭素株式会社 フッ素系ガス発生装置
US8366886B2 (en) 2005-08-25 2013-02-05 Toyo Tanso Co., Ltd. Fluorogas generator
WO2011129217A1 (ja) * 2010-04-16 2011-10-20 セントラル硝子株式会社 フッ素ガス生成装置
JP2011225921A (ja) * 2010-04-16 2011-11-10 Central Glass Co Ltd フッ素ガス生成装置

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0678593B2 (ja) 1994-10-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02232386A (ja) 溶融塩電解法によるガスの製造方法
CN101213325B (zh) 制造氟或三氟化氮的电解装置
Petch XXX. The lowering of fracture-stress due to surface adsorption
JP3456934B2 (ja) 六フッ化リン酸リチウムの製造方法
KR930001975B1 (ko) 전해조
US4001036A (en) System for improving charge efficiency of a zinc-chloride battery
JPH01122910A (ja) 三弗化窒素の製造方法
CN106698352A (zh) 一种制备高纯氟气或高纯含氟混合气的方法及装置
US4178224A (en) Apparatus for generation and control of dopant and reactive gases
CN114572944A (zh) 一种三氟化氮及三氟化氮混合气体的制备方法
Newman et al. The P, T, x relationships of H 2+ HD and H 2+ D 2 mixtures between 18° and 28° K
Meunier et al. Thin film permeation membranes for hydrogen purification
JPH0432592A (ja) 三弗化窒素ガスの製造方法
Elikan et al. Development of a solid electrolyte carbon dioxide and water reduction system for oxygen recovery
FUKUDA et al. Separation Factor of Deuterium on Platinum Hydrogen Electrode in Aqueous Sulfuric Acid
CN209906896U (zh) 制备三氟化氮气体的电解槽
JP2854952B2 (ja) 三弗化窒素ガスの製造方法
US2540248A (en) Manufacture of fluorine by electrolysis
JPS5929114B2 (ja) ノズルの防蝕方法
JPH0463291A (ja) 電解槽
JPH03170687A (ja) 電解槽
Yu et al. The relation between copying accuracy and electrolytes of electrochemical machining for titanium alloys
JPH03236486A (ja) 三フッ化窒素の溶融塩電解による製造方法
JP3162594B2 (ja) 電解液及びそれを用いる三フッ化窒素ガスの製造方法
JPH04160176A (ja) 電解槽