JPH02228354A - 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
半導体封止用エポキシ樹脂組成物Info
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- JPH02228354A JPH02228354A JP1050695A JP5069589A JPH02228354A JP H02228354 A JPH02228354 A JP H02228354A JP 1050695 A JP1050695 A JP 1050695A JP 5069589 A JP5069589 A JP 5069589A JP H02228354 A JPH02228354 A JP H02228354A
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
五束上例■叫分更
本発明は、成形時の流動性が良好である上、吸湿後の半
田耐湿性、耐クラツク性に優れた低応力性の硬化物を与
える半導体封止用エポキシ樹脂組成物及びその硬化物に
関する。
田耐湿性、耐クラツク性に優れた低応力性の硬化物を与
える半導体封止用エポキシ樹脂組成物及びその硬化物に
関する。
来の 及び が解 しようとする課従来、エポキシ
樹脂、硬化剤及び無機質充填剤を配合したエポキシ樹脂
組成物は、半導体封止用として広く用いられているが、
最近、このエポキシ樹脂組成物に低応力性を付与するこ
とを目的として、シリコーン系改質剤、ポリブタジェン
系改質剤を添加したり、更には膨張係数を下げるために
無機質充填剤添加量を増量することが検討されている。
樹脂、硬化剤及び無機質充填剤を配合したエポキシ樹脂
組成物は、半導体封止用として広く用いられているが、
最近、このエポキシ樹脂組成物に低応力性を付与するこ
とを目的として、シリコーン系改質剤、ポリブタジェン
系改質剤を添加したり、更には膨張係数を下げるために
無機質充填剤添加量を増量することが検討されている。
しかしながら、このような方法では、組成物の応力性は
低くなるものの、無機質充填剤添加量を増量すると成形
時の流動性や硬化物の吸湿後の半田耐湿性が悪くなる傾
向があり、低応力性と吸湿後の半田耐湿性及び流動性と
いった封止材にとって重要な性能を開立させることが難
しいという重大な欠点があった。
低くなるものの、無機質充填剤添加量を増量すると成形
時の流動性や硬化物の吸湿後の半田耐湿性が悪くなる傾
向があり、低応力性と吸湿後の半田耐湿性及び流動性と
いった封止材にとって重要な性能を開立させることが難
しいという重大な欠点があった。
また、最近の動向として、フラットパッケージ。
SOJパッケージに代表されるように半導体装置は薄型
化が進んでいるが、薄型の半導体装置をプリント基板へ
装着する際、パッケージ内に水分が存在すると水蒸気爆
発が起こり、この爆発でパッケージにクラックが入った
り、Siチップの表面に隙間が生じるなどの問題が発生
してきている。
化が進んでいるが、薄型の半導体装置をプリント基板へ
装着する際、パッケージ内に水分が存在すると水蒸気爆
発が起こり、この爆発でパッケージにクラックが入った
り、Siチップの表面に隙間が生じるなどの問題が発生
してきている。
このため、硬化物が低応力で、しかも半田特性。
特に吸湿後の耐湿性、耐クラツク性に優れ、かつ成形時
の流動性が良好な半導体封止用エポキシ樹脂組成物の開
発が望まれていた。
の流動性が良好な半導体封止用エポキシ樹脂組成物の開
発が望まれていた。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、成形時の流動
性が良好である上、吸湿後に半田処理等の複合処理をし
た際の耐湿性、耐クラツク性が良好で、吸湿後の半田特
性に優れた低応力性の硬化物を与える半導体封止用エポ
キシ樹脂組成物及びその硬化物を提供することを目的と
する。
性が良好である上、吸湿後に半田処理等の複合処理をし
た際の耐湿性、耐クラツク性が良好で、吸湿後の半田特
性に優れた低応力性の硬化物を与える半導体封止用エポ
キシ樹脂組成物及びその硬化物を提供することを目的と
する。
る めの び
本発明者は、上記目的を達成するため、半導体封止用エ
ポキシ樹脂組成物用の無機質充填剤について鋭意検討を
重ねた結果、エポキシ樹脂と硬化剤と無機質充填剤とを
含有してなるエポキシ樹脂組成物において、無機質充填
剤として(イ)平均粒85〜35μmの球状シリカと、
(ロ)平均粒径0.1〜2ptsの球状シリカと、(ハ
)平均粒径2〜15μmの破砕シリカとを、好ましくは
無機質充填剤の配合量全体に対して(イ)の球状シリカ
を20〜80%(重量%、以下同様)、(ロ)の球状シ
リカを1〜20%、(ハ)の破砕シリカを20〜80%
の割合で併用した場合、前記(イ)や(ロ)の球状シリ
カ単独使用では硬化物の半田特性が非常に悪く、また。
ポキシ樹脂組成物用の無機質充填剤について鋭意検討を
重ねた結果、エポキシ樹脂と硬化剤と無機質充填剤とを
含有してなるエポキシ樹脂組成物において、無機質充填
剤として(イ)平均粒85〜35μmの球状シリカと、
(ロ)平均粒径0.1〜2ptsの球状シリカと、(ハ
)平均粒径2〜15μmの破砕シリカとを、好ましくは
無機質充填剤の配合量全体に対して(イ)の球状シリカ
を20〜80%(重量%、以下同様)、(ロ)の球状シ
リカを1〜20%、(ハ)の破砕シリカを20〜80%
の割合で併用した場合、前記(イ)や(ロ)の球状シリ
カ単独使用では硬化物の半田特性が非常に悪く、また。
(イ)の球状シリカと(ハ)の破砕シリカとを併用した
場合には硬化物の吸湿後の半田特性は改良されるものの
成形時の流動性が損なわれるという問題を解決して、成
形時の流動性が良好であると共に、吸湿後の半田特性に
優れた低応力性の硬化物を与える半導体封止用エポキシ
樹脂組成物が得られることを知見し1本発明をなすに至
った。
場合には硬化物の吸湿後の半田特性は改良されるものの
成形時の流動性が損なわれるという問題を解決して、成
形時の流動性が良好であると共に、吸湿後の半田特性に
優れた低応力性の硬化物を与える半導体封止用エポキシ
樹脂組成物が得られることを知見し1本発明をなすに至
った。
従って、本発明は、エポキシ樹脂と硬化剤と無機質充填
剤とを含有してなるエポキシ樹脂組成物において、無機
質充填剤として平均粒径5〜35μmの球状シリカと、
平均粒径0.1〜2IImの球状シリカと、平均粒径2
〜15μmの破砕シリカとを併用配合したことを特徴と
する半導体封止用エポキシ樹脂組成物及びこれを硬化す
ることにより得られる硬化物を提供する。
剤とを含有してなるエポキシ樹脂組成物において、無機
質充填剤として平均粒径5〜35μmの球状シリカと、
平均粒径0.1〜2IImの球状シリカと、平均粒径2
〜15μmの破砕シリカとを併用配合したことを特徴と
する半導体封止用エポキシ樹脂組成物及びこれを硬化す
ることにより得られる硬化物を提供する。
以下1本発明につき更に詳述する。
本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物は。
エポキシ樹脂と硬化剤と無機質充填剤とを含有する。
この場合1本発明に使用するエポキシ樹脂は1分子中に
2個以上のエポキシ基を有するものであれば特に制限は
なく、例えばオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エボ
゛キシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、置換又は
非置換のトリフエノールアルカン型エポキシ樹脂、上記
エポキシ樹脂類のハロゲン化物などを挙げることができ
。
2個以上のエポキシ基を有するものであれば特に制限は
なく、例えばオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エボ
゛キシ樹脂、ビスフェノール型エポキシ樹脂、置換又は
非置換のトリフエノールアルカン型エポキシ樹脂、上記
エポキシ樹脂類のハロゲン化物などを挙げることができ
。
これらの1種又は2種以上が適宜選択して使用される。
また、硬化剤はエポキシ樹脂に応じたものが使用され1
例えばアミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、フェノール
ノボラック型硬化剤などが用いられるが、中でもフェノ
ールノボラック型硬化剤が組成物の成形性、耐湿性とい
った面でより望ましい、なお、フェノールノボラック型
硬化剤として。
例えばアミン系硬化剤、酸無水物系硬化剤、フェノール
ノボラック型硬化剤などが用いられるが、中でもフェノ
ールノボラック型硬化剤が組成物の成形性、耐湿性とい
った面でより望ましい、なお、フェノールノボラック型
硬化剤として。
具体的にはフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボ
ラック樹脂等が例示される。
ラック樹脂等が例示される。
ここで、硬化剤の配合量は別に制限されないが。
フェノールノボラック型硬化剤を使用する場合は。
エポキシ樹脂中のエポキシ基と硬化剤中のフェノール性
水酸基とのモル比を0.5〜1.5の範囲にすることが
好適である。
水酸基とのモル比を0.5〜1.5の範囲にすることが
好適である。
更に1本発明組成物には、エポキシ樹脂と硬化剤との反
応を促進させるために硬化促進剤を配合することが好ま
しい、硬化促進剤としてはイミダゾール化合物、1,8
−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7(D
B U)等のウンデセン化合物。
応を促進させるために硬化促進剤を配合することが好ま
しい、硬化促進剤としてはイミダゾール化合物、1,8
−ジアザビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7(D
B U)等のウンデセン化合物。
トリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物、三級ア
ミン類などの1種又は2種以上が用いられる6なお、硬
化促進剤の使用量は特に制限されず。
ミン類などの1種又は2種以上が用いられる6なお、硬
化促進剤の使用量は特に制限されず。
通常の使用量でよい。
更に、本発明では、エポキシ樹脂組成物の応力を低下さ
せる目的でシリコーン系ポリマーを配合することが好ま
しく、シリコーン系ポリマーを添加すると、熱衝撃テス
トにおけるパッケージクラックの発生が著しく少なくな
る。
せる目的でシリコーン系ポリマーを配合することが好ま
しく、シリコーン系ポリマーを添加すると、熱衝撃テス
トにおけるパッケージクラックの発生が著しく少なくな
る。
ここで、シリコーン系ポリマーとしては、例えばエポキ
シ基、アミノ基、カルボキシル基、水酸基、ヒドロシリ
ル基、ビニル基等を有するシリコーンオイル、シリコー
ンレジン又はシリコーンゴム、更にはこれらシリコーン
ポリマーとフェノールノボラック樹脂、エポキシ化フェ
ノールノボラック樹脂等の有機重合体との共重合体を用
いることができる。
シ基、アミノ基、カルボキシル基、水酸基、ヒドロシリ
ル基、ビニル基等を有するシリコーンオイル、シリコー
ンレジン又はシリコーンゴム、更にはこれらシリコーン
ポリマーとフェノールノボラック樹脂、エポキシ化フェ
ノールノボラック樹脂等の有機重合体との共重合体を用
いることができる。
なお、シリコーン系ポリマーの配合量は、エポキシ樹脂
と硬化剤との合計1100部に対して1〜50部とする
ことが好ましい。
と硬化剤との合計1100部に対して1〜50部とする
ことが好ましい。
本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物は、上述のよ
うなエポキシ樹脂、硬化剤を必須成分とし、更には硬化
促進剤を必要により配合して得るものであるが、本発明
においては、これら成分と共に無機質充填剤として特定
のシリカ混合物を使用する。
うなエポキシ樹脂、硬化剤を必須成分とし、更には硬化
促進剤を必要により配合して得るものであるが、本発明
においては、これら成分と共に無機質充填剤として特定
のシリカ混合物を使用する。
この場合、本発明に無機質充填剤として用いるシリカ混
合物は、(イ)平均粒径5〜35−1好ましくは8〜3
0μmの球状シリカと、(ロ)平均粒径0.1〜24.
好ましくは0.5〜1.5Iaの球状シリカと、(ハ)
平均粒径2〜15−1好ましくは3〜12IImの破砕
シリカの混合物であり、これら3種のシリカを併用する
ことにより、流動性と硬化物の吸湿後の半田特性との両
方を満足し。
合物は、(イ)平均粒径5〜35−1好ましくは8〜3
0μmの球状シリカと、(ロ)平均粒径0.1〜24.
好ましくは0.5〜1.5Iaの球状シリカと、(ハ)
平均粒径2〜15−1好ましくは3〜12IImの破砕
シリカの混合物であり、これら3種のシリカを併用する
ことにより、流動性と硬化物の吸湿後の半田特性との両
方を満足し。
かつ低応力性の硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物を得
ることができる。
ることができる。
ここで、(イ)の球状シリカは、その比表面積には特に
制限はないが、比表面積が2.5m/g以下、特に1.
4m/g以下であることが組成物の流動性向上の点から
好ましく、また、その配合量は全無機質充填剤量の20
〜80%とすることが好ましい、配合量が20%に満た
ないと組成物の流動性が損なわれる場合があり、80%
を越えると吸湿後の半田特性が悪くなる場合がある。
制限はないが、比表面積が2.5m/g以下、特に1.
4m/g以下であることが組成物の流動性向上の点から
好ましく、また、その配合量は全無機質充填剤量の20
〜80%とすることが好ましい、配合量が20%に満た
ないと組成物の流動性が損なわれる場合があり、80%
を越えると吸湿後の半田特性が悪くなる場合がある。
また、(ロ)の球状シリカは、(イ)の球状シリカとの
併用で組成物の流動性をより向上させる効果を発揮する
もので、その比表面積は15r4/g以下、特に10
rri’ / g以下であることが組成物の流動性向上
の点から望ましい。なお、(ロ)の球状シリカの配合量
は全無機質充填剤量の1〜20%。
併用で組成物の流動性をより向上させる効果を発揮する
もので、その比表面積は15r4/g以下、特に10
rri’ / g以下であることが組成物の流動性向上
の点から望ましい。なお、(ロ)の球状シリカの配合量
は全無機質充填剤量の1〜20%。
特に5〜15%とすることが好ましく、1%より少ない
と組成物の流動性が十分でない場合があり。
と組成物の流動性が十分でない場合があり。
20%を越えると吸湿後の半田特性が悪くなる場合があ
る。
る。
更に、(ハ)の破砕シリカは、平均粒径2〜15声のも
のであれば特に制限されないが、好ましくは球状シリカ
を粉砕することにより得られるもので、組成物の流動性
を損なわずにその硬化物の吸湿後の半田特性を向上させ
る効果を有する。
のであれば特に制限されないが、好ましくは球状シリカ
を粉砕することにより得られるもので、組成物の流動性
を損なわずにその硬化物の吸湿後の半田特性を向上させ
る効果を有する。
ここで、(ハ)の破砕シリカの原料として好適に使用さ
れる球状シリカは特に限定されないが、平均粒径20〜
50Itmの球状シリカや粒径75−以上の球状シリカ
が好適に使用でき、また、これら球状シリカの粉砕方法
は別に制限されず5通常の方法を採用し得るが、中でも
ボールミル粉砕が好ましく採用できる。なお、このよう
に球状シリカを粉砕して得られるシリカは、球状シリカ
表面が粗化されたものや粉砕されて半球状になったもの
、あるいは半球状のエッチ部が丸くなったものなどを含
むものである。
れる球状シリカは特に限定されないが、平均粒径20〜
50Itmの球状シリカや粒径75−以上の球状シリカ
が好適に使用でき、また、これら球状シリカの粉砕方法
は別に制限されず5通常の方法を採用し得るが、中でも
ボールミル粉砕が好ましく採用できる。なお、このよう
に球状シリカを粉砕して得られるシリカは、球状シリカ
表面が粗化されたものや粉砕されて半球状になったもの
、あるいは半球状のエッチ部が丸くなったものなどを含
むものである。
この場合、(ハ)の破砕シリカの配合量は、全無機質充
填剤量の20〜80%とすることが好ましく、配合量が
20%に満たないと、硬化物の吸湿後の半田特性改質効
果が十分でない場合があり。
填剤量の20〜80%とすることが好ましく、配合量が
20%に満たないと、硬化物の吸湿後の半田特性改質効
果が十分でない場合があり。
80%を越えると組成物の流動性が低下する場合がある
。
。
なお、上記特定のシリカに加えて、本発明の目的を損な
わない範囲でヒユームドシリカ、ガラス繊維等のその他
の無機質充填剤を配合することができる。
わない範囲でヒユームドシリカ、ガラス繊維等のその他
の無機質充填剤を配合することができる。
また更に、上記(イ)〜(ハ)のシリカ及び他の無機質
充填剤は、予めそれらの表面をγ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン等のカツプリング剤を用い、通常
の方法で表面処理した後に使用することができる。
充填剤は、予めそれらの表面をγ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン等のカツプリング剤を用い、通常
の方法で表面処理した後に使用することができる。
本発明組成物において、無機質充填剤の配合量は、組成
物全体100部に対して250〜600部、特に300
〜550部であることが好ましい。
物全体100部に対して250〜600部、特に300
〜550部であることが好ましい。
本発明の組成物には、更に必要により各種の添加剤を添
加することができ、例えばカルナバワックス等のワック
ス類、ステアリン酸等の脂肪酸やその金属塩などの離型
剤、カーボンブラック、コバルトブルー、ベンガラ等の
顔料、酸化アンチモン、ハロゲン化合物等の難燃化剤、
エポキシシラン、ビニルシラン、はう素化合物、アルキ
ルチタネート等のカップリング剤、老化防止剤、その他
の添加剤の1種又は2種以上を配合することができる。
加することができ、例えばカルナバワックス等のワック
ス類、ステアリン酸等の脂肪酸やその金属塩などの離型
剤、カーボンブラック、コバルトブルー、ベンガラ等の
顔料、酸化アンチモン、ハロゲン化合物等の難燃化剤、
エポキシシラン、ビニルシラン、はう素化合物、アルキ
ルチタネート等のカップリング剤、老化防止剤、その他
の添加剤の1種又は2種以上を配合することができる。
なお、本発明のエポキシ樹脂組成物は、その製造に際し
、上述した成分の所定量を均一に撹拌。
、上述した成分の所定量を均一に撹拌。
混合し、ニーダ−、ロール、エクストルーダーなどで混
線、冷却し、粉砕するなどの方法で得ることができるが
、ミキシングロール、押出機を用いた溶融混合法が好適
に採用される。ここで、成分の配合順序に特に制限はな
い。
線、冷却し、粉砕するなどの方法で得ることができるが
、ミキシングロール、押出機を用いた溶融混合法が好適
に採用される。ここで、成分の配合順序に特に制限はな
い。
本発明のエポキシ樹脂組成物はIC,LSI。
トランジスタ、サイリスタ、ダイオード等の半導体装置
の封止用に使用するものであり、プリント回路板の製造
などにも有効に使用できる。ここで。
の封止用に使用するものであり、プリント回路板の製造
などにも有効に使用できる。ここで。
半導体装置の封止を行なう場合は、従来より採用されて
いる成形法、例えばトランスファ成形、インジェクショ
ン成形、注型法などを採用して行なうことができる。こ
の場合、エポキシ樹脂組成物の成形温度は150〜18
0℃、ポストキュアーは150〜180℃で2〜16時
間行なうことが好ましい。
いる成形法、例えばトランスファ成形、インジェクショ
ン成形、注型法などを採用して行なうことができる。こ
の場合、エポキシ樹脂組成物の成形温度は150〜18
0℃、ポストキュアーは150〜180℃で2〜16時
間行なうことが好ましい。
1遭じす1果
本発明の半導体封止用エポキシ樹脂組成物は、無機質充
填剤として特定の球状シリカ及び破砕シリカ混合物を配
合したことにより、成形時の流動性に優れていると共に
、吸湿後においても半田で処理後の耐湿性、耐クラツク
性が良く、半田特性に優れた低応力性の硬化物を与える
ものである。
填剤として特定の球状シリカ及び破砕シリカ混合物を配
合したことにより、成形時の流動性に優れていると共に
、吸湿後においても半田で処理後の耐湿性、耐クラツク
性が良く、半田特性に優れた低応力性の硬化物を与える
ものである。
以下、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない
。
するが、本発明は下記実施例に制限されるものではない
。
なお、以下の例において部はいずれも重量部である。
〔実施例1〜5.比較例1〜4〕
エポキシ当量200.軟化点65℃のエポキシ化タレゾ
ールノボラック樹脂58部、エポキシ当量280の臭素
化エポキシ化フェノールノボラック樹脂6部、フェノー
ル当量11o、軟化点80℃のフェノールノボラック樹
脂36部、トリフェニルホスフィン0.7部、二酸化ア
ンチモン10部、カルナバワックス1.5部、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン1.6部、カーボ
ン1部をベースとして使用し、このベースに第1表に示
すシリカ混合物を配合し、80’Cのミキシングロール
で5分間溶融混合した後、シート状にして取り出して冷
却し、粉砕してエポキシ樹脂組成物を作製した。
ールノボラック樹脂58部、エポキシ当量280の臭素
化エポキシ化フェノールノボラック樹脂6部、フェノー
ル当量11o、軟化点80℃のフェノールノボラック樹
脂36部、トリフェニルホスフィン0.7部、二酸化ア
ンチモン10部、カルナバワックス1.5部、γ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン1.6部、カーボ
ン1部をベースとして使用し、このベースに第1表に示
すシリカ混合物を配合し、80’Cのミキシングロール
で5分間溶融混合した後、シート状にして取り出して冷
却し、粉砕してエポキシ樹脂組成物を作製した。
得られた組成物について、以下の諸試験を行なつた・
結果を第1表に併記する。
(イ)スパイラルフロー値
EMMI規格に準じた金型を使用して175℃。
70kg/allの条件で測定した。
(ロ)膨張係数、ガラス転移温度
175℃、12分で成形し、180℃、4時間でポスト
キュアーした5x5x15■の試験片を用い、アグネ(
真空理工社製)を使用して昇温スピード5℃/分で測定
した。
キュアーした5x5x15■の試験片を用い、アグネ(
真空理工社製)を使用して昇温スピード5℃/分で測定
した。
(ハ)曲げ強度
JIS K6911に準じて175℃、70kg/a
f、成形時間2分の条件で110X4X100の抗折捧
を成形し、180℃で4時間ポストキュアーしたものの
室温での曲げ強度を測定した。更に、121℃7100
%のプレッシャークツカーに24時間放置したもの(P
CT後と略す)についても曲げ強度を測定した。
f、成形時間2分の条件で110X4X100の抗折捧
を成形し、180℃で4時間ポストキュアーしたものの
室温での曲げ強度を測定した。更に、121℃7100
%のプレッシャークツカーに24時間放置したもの(P
CT後と略す)についても曲げ強度を測定した。
(ニ)吸湿後の耐半田クラック性
175℃、2分で成形し、180℃、4時間でポストキ
ュアーしたパッケージサイズ14X20X2,3am、
アイランド面積8xlOnnのフラットパッケージを8
5°C/85%RHの恒温恒湿槽に48時間放置した後
、260℃の半田浴に入れた時、パッケージクランクが
発生するまでの時間を測定した。
ュアーしたパッケージサイズ14X20X2,3am、
アイランド面積8xlOnnのフラットパッケージを8
5°C/85%RHの恒温恒湿槽に48時間放置した後
、260℃の半田浴に入れた時、パッケージクランクが
発生するまでの時間を測定した。
ネジリカ6:
粒径75−以上の球状シリカをボールミルで2時間粉砕
して得られた平均粒径5−148゜以上の粗粒が0.1
%以下の破砕シリカ本シリカ7: 平均粒径30μmの球状シリカをボールミルで1時間粉
砕して得られた平均粒径10IJm、75−以上の粗粒
が0.1%以下のシリカ本シリカ8: 平均粒径15μmの破砕シリカ 第1表の結果より1本発明に係る3種の球状シリカ及び
破砕シリカのどれかを欠く組成物は流動性、PCT後の
曲げ強度、耐半田クラック性のいずれかに劣るものであ
るが1本発明の組成物はこれら特性のすべてが優れてお
り、低応力性でかつ成形時の流動性及び吸湿後の半田特
性が優れていることが確認された。
して得られた平均粒径5−148゜以上の粗粒が0.1
%以下の破砕シリカ本シリカ7: 平均粒径30μmの球状シリカをボールミルで1時間粉
砕して得られた平均粒径10IJm、75−以上の粗粒
が0.1%以下のシリカ本シリカ8: 平均粒径15μmの破砕シリカ 第1表の結果より1本発明に係る3種の球状シリカ及び
破砕シリカのどれかを欠く組成物は流動性、PCT後の
曲げ強度、耐半田クラック性のいずれかに劣るものであ
るが1本発明の組成物はこれら特性のすべてが優れてお
り、低応力性でかつ成形時の流動性及び吸湿後の半田特
性が優れていることが確認された。
〔実施例6〜io、比較例5,6〕
実施例1と同様のベース及び製造方法で第2表に示すシ
リカを用いてエポキシ樹脂組成物を作製し、諸試験を行
なった6 結果を第2表に併記する。
リカを用いてエポキシ樹脂組成物を作製し、諸試験を行
なった6 結果を第2表に併記する。
寧シリカ9ニ
シリカ2をγ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラ
ン(KBM403.信越化学工業社製)0.6重量%で
表面処理した球状シリカ*シリカ10ニ シリカ4をKBM403,1.0重量%で表面処理した
球状シリカ *シリカ11ニ シリカ6をKBM403,0.8重量%で表面処理した
球状シリカ 本シリカ12: 平均粒径4pの球状シリカをγ−グリシドキシプロビル
トリメトキシシラン0.9重量%で表面処理した球状シ
リカ *シリカ13: 平均粒径30.の球状シリカをボールミルで3時間粉砕
して得られた平均粒径1μmの破砕シリカ 第2表の結果からも、本発明の組成物は優れた流動性、
PCT後の曲げ強度、耐半田クラック性を有することが
確認された。
ン(KBM403.信越化学工業社製)0.6重量%で
表面処理した球状シリカ*シリカ10ニ シリカ4をKBM403,1.0重量%で表面処理した
球状シリカ *シリカ11ニ シリカ6をKBM403,0.8重量%で表面処理した
球状シリカ 本シリカ12: 平均粒径4pの球状シリカをγ−グリシドキシプロビル
トリメトキシシラン0.9重量%で表面処理した球状シ
リカ *シリカ13: 平均粒径30.の球状シリカをボールミルで3時間粉砕
して得られた平均粒径1μmの破砕シリカ 第2表の結果からも、本発明の組成物は優れた流動性、
PCT後の曲げ強度、耐半田クラック性を有することが
確認された。
出願人 信越化学工業 株式会社
代理人 弁理士 小 島 隆 司
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、エポキシ樹脂と硬化剤と無機質充填剤とを含有して
なるエポキシ樹脂組成物において、無機質充填剤として
平均粒径5〜35μmの球状シリカと、平均粒径0.1
〜2μmの球状シリカと、平均粒径2〜15μmの破砕
シリカとを併用したことを特徴とする半導体封止用エポ
キシ樹脂組成物。 2、破砕シリカが球状シリカを粉砕することにより得ら
れるものである請求項1記載の半導体封止用エポキシ樹
脂組成物。 3、請求項1又は2記載のエポキシ樹脂組成物を硬化す
ることにより得られる硬化物。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1050695A JPH0645740B2 (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
US07/476,700 US5137940A (en) | 1989-02-09 | 1990-02-08 | Semiconductor encapsulating epoxy resin compositions |
KR1019900001507A KR950005309B1 (ko) | 1989-02-09 | 1990-02-08 | 반도체 봉지용 에폭시 수지 조성물 및 그 경화물 |
DE4003842A DE4003842C2 (de) | 1989-02-09 | 1990-02-08 | Epoxidharzmassen zum Einkapseln von Halbleitern, enthaltend kugelförmiges Siliciumdioxid |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1050695A JPH0645740B2 (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02228354A true JPH02228354A (ja) | 1990-09-11 |
JPH0645740B2 JPH0645740B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=12866055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1050695A Expired - Lifetime JPH0645740B2 (ja) | 1989-02-09 | 1989-03-01 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0645740B2 (ja) |
Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
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US8053896B2 (en) | 2005-02-14 | 2011-11-08 | Fatuba Corporation | IC chip coating material and vacuum fluorescent display device using same |
JP5143964B1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-02-13 | 積水化学工業株式会社 | 光半導体装置用白色硬化性組成物、並びに光半導体装置用成形体 |
JP2013144763A (ja) * | 2012-01-16 | 2013-07-25 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 半導体封止用熱硬化性樹脂組成物及び該組成物で封止された半導体装置 |
WO2016136075A1 (ja) * | 2015-02-27 | 2016-09-01 | 株式会社日立製作所 | 電気絶縁樹脂組成物及びこれを用いた電気絶縁樹脂硬化物、受変電設備 |
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-
1989
- 1989-03-01 JP JP1050695A patent/JPH0645740B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JPH02227451A (ja) * | 1989-02-28 | 1990-09-10 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 樹脂用充填材及び液状エポキシ樹脂組成物 |
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US8053896B2 (en) | 2005-02-14 | 2011-11-08 | Fatuba Corporation | IC chip coating material and vacuum fluorescent display device using same |
JP2013144763A (ja) * | 2012-01-16 | 2013-07-25 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 半導体封止用熱硬化性樹脂組成物及び該組成物で封止された半導体装置 |
JP5143964B1 (ja) * | 2012-03-30 | 2013-02-13 | 積水化学工業株式会社 | 光半導体装置用白色硬化性組成物、並びに光半導体装置用成形体 |
WO2016136075A1 (ja) * | 2015-02-27 | 2016-09-01 | 株式会社日立製作所 | 電気絶縁樹脂組成物及びこれを用いた電気絶縁樹脂硬化物、受変電設備 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0645740B2 (ja) | 1994-06-15 |
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