JPH02227256A - 液体噴射記録ヘッドの製造方法およびその方法により製造された液体噴射記録ヘッド - Google Patents
液体噴射記録ヘッドの製造方法およびその方法により製造された液体噴射記録ヘッドInfo
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、熱エネルギーによって液体中に気泡の生成を
含む状態変化を生起させ、該状態変化によって吐出口か
ら液体を吐出させて飛翔的液滴を形成し、この液滴を被
記録面に付着させて文字・画像等の情報の記録を行う液
体噴射記録ヘッドの製造方法およびその方法により製造
された液体噴射記録ヘッドに関する。
含む状態変化を生起させ、該状態変化によって吐出口か
ら液体を吐出させて飛翔的液滴を形成し、この液滴を被
記録面に付着させて文字・画像等の情報の記録を行う液
体噴射記録ヘッドの製造方法およびその方法により製造
された液体噴射記録ヘッドに関する。
[従来の技術]
ノンインパクト記録法は、記録時における騒音の発生が
無視し得る程度に極めて小さいという点において、最近
関心を集めている。その中で、高速記録が可能であり、
しかも定着という特別な処理を必要とせずに普通紙に記
録の行える、いわゆるインクジェット記録法(液体噴射
記録法)は、極めて有力な記録法であって、これまでに
も様々な方式の提案とそれを具現化する装置が考案され
、改良が加えられて商品化されたものもあれば、現在も
尚実用化への努力が続けられているものものもある。
無視し得る程度に極めて小さいという点において、最近
関心を集めている。その中で、高速記録が可能であり、
しかも定着という特別な処理を必要とせずに普通紙に記
録の行える、いわゆるインクジェット記録法(液体噴射
記録法)は、極めて有力な記録法であって、これまでに
も様々な方式の提案とそれを具現化する装置が考案され
、改良が加えられて商品化されたものもあれば、現在も
尚実用化への努力が続けられているものものもある。
その中で、例えは特開昭54−51837号公報、ドイ
ツ公開(DOLS)第2843064号公報に記載され
である液体噴射記録法は、液滴形成エネルギーである熱
エネルギーを液体に作用させて、液滴吐出のための原動
力を得るという点において、他の液体噴射記録法とは、
異なる特徴を有している。
ツ公開(DOLS)第2843064号公報に記載され
である液体噴射記録法は、液滴形成エネルギーである熱
エネルギーを液体に作用させて、液滴吐出のための原動
力を得るという点において、他の液体噴射記録法とは、
異なる特徴を有している。
即ち、上述の公報に開示されである記録法では、熱エネ
ルギーの作用を受けた液体が急峻な体積の増大を伴う状
態変化を起し、その状態変化に基づく作用力によって、
記録ヘッド部先端に設けである吐出口から液滴が吐出、
飛翔して被記録部材に付着し、情報の記録が行われる。
ルギーの作用を受けた液体が急峻な体積の増大を伴う状
態変化を起し、その状態変化に基づく作用力によって、
記録ヘッド部先端に設けである吐出口から液滴が吐出、
飛翔して被記録部材に付着し、情報の記録が行われる。
殊ニ、DoLs第2843064号公報に開示されてい
る液体噴射記録法は、いわゆるドロップ オン デマン
ド(drop−an demand)記録法に極めて有
効に適用されるばかりでなく、記録ヘッド部をフルライ
ン(full 1ine)幅に高密度マルチ吐出口化し
て容易に実現できるので、高解像度、高品質の画像を高
速で得られるという利点を有している。
る液体噴射記録法は、いわゆるドロップ オン デマン
ド(drop−an demand)記録法に極めて有
効に適用されるばかりでなく、記録ヘッド部をフルライ
ン(full 1ine)幅に高密度マルチ吐出口化し
て容易に実現できるので、高解像度、高品質の画像を高
速で得られるという利点を有している。
このような原理の記録方式は一般にバブルジェット記録
方式と呼ばれているが、この記録方式による液体噴射記
録ヘッドの従来の典型的な基体の構造例を第5図(^)
、 (B)に示す。同図(^)は吐出口と連通するイ
ンク(記録液)の液路内に発熱部が配置される基体の平
面図であり、同図(B)は同図(A)のX’ −Y’
の切断線に沿った基体の断面図である。
方式と呼ばれているが、この記録方式による液体噴射記
録ヘッドの従来の典型的な基体の構造例を第5図(^)
、 (B)に示す。同図(^)は吐出口と連通するイ
ンク(記録液)の液路内に発熱部が配置される基体の平
面図であり、同図(B)は同図(A)のX’ −Y’
の切断線に沿った基体の断面図である。
ここで、101は基体の全体、102はインクを吐出す
る吐出口に連通ずる液路の壁面内に位置してインクに熱
エネルギーを与えて気泡を発生するための発熱部(ヒー
タと称する) 、103,104は発熱抵抗層107に
接続されて発熱部102を所定電圧で印加するための一
対のへ1製の引き出し電極、105はSt(シリコン)
製の支持体、107は支持体105上に積層形成された
発熱抵抗層である。発熱部102は一対の電8i103
,104間に位置する部分である。
る吐出口に連通ずる液路の壁面内に位置してインクに熱
エネルギーを与えて気泡を発生するための発熱部(ヒー
タと称する) 、103,104は発熱抵抗層107に
接続されて発熱部102を所定電圧で印加するための一
対のへ1製の引き出し電極、105はSt(シリコン)
製の支持体、107は支持体105上に積層形成された
発熱抵抗層である。発熱部102は一対の電8i103
,104間に位置する部分である。
108は引き出し電極103,104等を全体に覆って
保護する第1上部保護層(SiO□製)、109は第1
上部保護層108の大部分をさらに保護するインク接触
表面の第3上部保護層、110は発熱部102の存在す
る部分を保護する第2上部保護層であり、112は発熱
部102に対応する第2上部保護層110の表面である
発泡面である。illは電極103,104と発熱抵抗
層+07とからなる電気熱変換体である。インクは発泡
面+12に接し、発泡面112が発熱部102の発熱に
より加熱されると、発泡面112上に気泡が発生し、こ
の気泡の発生によって押し出されたインクが吐出口から
液滴となって吐出する。
保護する第1上部保護層(SiO□製)、109は第1
上部保護層108の大部分をさらに保護するインク接触
表面の第3上部保護層、110は発熱部102の存在す
る部分を保護する第2上部保護層であり、112は発熱
部102に対応する第2上部保護層110の表面である
発泡面である。illは電極103,104と発熱抵抗
層+07とからなる電気熱変換体である。インクは発泡
面+12に接し、発泡面112が発熱部102の発熱に
より加熱されると、発泡面112上に気泡が発生し、こ
の気泡の発生によって押し出されたインクが吐出口から
液滴となって吐出する。
[発明が解決しようとする課題]
上述のようなバブルジェット記録方式の液体噴射記録ヘ
ッドでは、発熱部の両端に電極を介して電圧を印加して
発熱部を発熱させ、その熱エネルギーによってインク液
中に気泡を発泡させ、その発泡によりインク液を吐出し
ており、特に膜沸騰の発泡現象を)1用しているので、
発泡面の状態が非常に重要なものとなっている。すなわ
ち、発泡面(発熱部表面)の小さな凹凸あるいは発泡面
への非常に薄い膜付着などによって、発泡の発生が不安
定になり、それがインク吐出の不安定さを生ずる原因と
なっていた。
ッドでは、発熱部の両端に電極を介して電圧を印加して
発熱部を発熱させ、その熱エネルギーによってインク液
中に気泡を発泡させ、その発泡によりインク液を吐出し
ており、特に膜沸騰の発泡現象を)1用しているので、
発泡面の状態が非常に重要なものとなっている。すなわ
ち、発泡面(発熱部表面)の小さな凹凸あるいは発泡面
への非常に薄い膜付着などによって、発泡の発生が不安
定になり、それがインク吐出の不安定さを生ずる原因と
なっていた。
一方、記録ヘッドの製作に当って記録ヘッド完成後に、
印字検査を行っているが、記録ヘッドによって印字の品
質にばらつきがあって印字検査の歩留りが良くなかった
。そこで、実際に印字検査結果の悪い記録ヘッドを分析
すると、発泡面の表面が変質していたり、発泡面の表面
に残渣(残りかす)などが残っていて、発泡が不安定に
なるのが発見された。その発泡の不安定さによりインク
液の吐出スピードが不安定になり、吐出方向がずれたり
して印字品位が悪くなっていた。
印字検査を行っているが、記録ヘッドによって印字の品
質にばらつきがあって印字検査の歩留りが良くなかった
。そこで、実際に印字検査結果の悪い記録ヘッドを分析
すると、発泡面の表面が変質していたり、発泡面の表面
に残渣(残りかす)などが残っていて、発泡が不安定に
なるのが発見された。その発泡の不安定さによりインク
液の吐出スピードが不安定になり、吐出方向がずれたり
して印字品位が悪くなっていた。
さらに、上記の発泡面の表面の品質および残漬の原因を
調べてみると、次のような色々な原因があることが判明
した。
調べてみると、次のような色々な原因があることが判明
した。
■パターンニング工程のフォトレジストと発泡面との反
応による発泡面の表面の変質。
応による発泡面の表面の変質。
■パターンニング工程のフォトレジストの¥11離不良
による残渣 ■吐出ロ作成工程において感光性樹脂を用いて吐出口(
ノズル・オリフィス)を形成しているが、その感光性樹
脂と発泡面との反応による発泡面の表面の変質。
による残渣 ■吐出ロ作成工程において感光性樹脂を用いて吐出口(
ノズル・オリフィス)を形成しているが、その感光性樹
脂と発泡面との反応による発泡面の表面の変質。
■■で用いた感光性樹脂の残漬。
■実装工程での各種樹脂(例えば、フラックス。
封止樹脂)の発泡面への汚染による残漬。
従って、上述のそれぞれの要因を全てつぶせば、この問
題が解決できるわけであるが、製造プロセスの変更はと
もかく、使用材料の変更等をしなければならないので、
非常に解決が困難であった。また、材料として特殊な材
料を選ばなければならないので、製造コストが高くなる
という欠点があった。
題が解決できるわけであるが、製造プロセスの変更はと
もかく、使用材料の変更等をしなければならないので、
非常に解決が困難であった。また、材料として特殊な材
料を選ばなければならないので、製造コストが高くなる
という欠点があった。
本発明の目的は、上述のような欠点を除去し、比較的癩
価な手段で発泡面の汚染による変質、および残漬を生じ
ないようにして、記録液の吐出安定性を改善し、吐出特
性のばらつきの減少により印字検査での歩留りの向上が
得られる液体噴射記録ヘッドの製造方法およびその方法
により製造された液体噴射記録ヘッドを提供することに
ある。
価な手段で発泡面の汚染による変質、および残漬を生じ
ないようにして、記録液の吐出安定性を改善し、吐出特
性のばらつきの減少により印字検査での歩留りの向上が
得られる液体噴射記録ヘッドの製造方法およびその方法
により製造された液体噴射記録ヘッドを提供することに
ある。
[課題を解決するための手段]
かかる目的を達成するために、本発明は、発熱抵抗層と
発熱抵抗層に接続される一対の電極とを有する電気熱変
換体を有し、発熱抵抗層の、一対の電極間に位置する部
分である発熱部に対応して、液体を吐出する吐出口に連
通ずる液路が設けられており、液路の壁面の自発熱部に
対応する発泡面を有する液体噴射記録ヘッドの製造方法
において、発泡面上に発泡面を覆うように膜を形成する
工程と、液路を形成する工程と、液路を通して膜を除去
する工程と、を有することを特徴とする。
発熱抵抗層に接続される一対の電極とを有する電気熱変
換体を有し、発熱抵抗層の、一対の電極間に位置する部
分である発熱部に対応して、液体を吐出する吐出口に連
通ずる液路が設けられており、液路の壁面の自発熱部に
対応する発泡面を有する液体噴射記録ヘッドの製造方法
において、発泡面上に発泡面を覆うように膜を形成する
工程と、液路を形成する工程と、液路を通して膜を除去
する工程と、を有することを特徴とする。
また、本発明は、上記の製造方法によって製造されてお
り、電気熱変換体が発生する熱エネルギーを利用して吐
出口から液体を吐出することを特徴とする。
り、電気熱変換体が発生する熱エネルギーを利用して吐
出口から液体を吐出することを特徴とする。
[作 用]
本発明は、その発泡面を形成後、その発泡面上に発泡面
を覆うj摸を形成し、流路を形成して記録ヘッドを完成
した時点てその覆っていた1摸を流路を通して発泡面か
ら除去するので、本発明では記録ヘッド製作工程中の発
泡面の変質および残渣の付着が防止され、これにより記
録ヘッド完成後の記録液吐出特性の不安定(ばらつき)
が大幅に減少して印字検査の歩留りが向上する。
を覆うj摸を形成し、流路を形成して記録ヘッドを完成
した時点てその覆っていた1摸を流路を通して発泡面か
ら除去するので、本発明では記録ヘッド製作工程中の発
泡面の変質および残渣の付着が防止され、これにより記
録ヘッド完成後の記録液吐出特性の不安定(ばらつき)
が大幅に減少して印字検査の歩留りが向上する。
すなわち本発明では発泡面の表面が記録ヘッド完成時ま
で保護膜で覆われているので、記録ヘッド製作工程中の
各種汚染はその覆っている膜にのみされるので、発泡に
重要な発泡面の表面への汚染が無くなる。その後、記録
ヘッドの完成した時点で発泡面上を覆う膜を除去するの
で、記録ヘッド完成時には常に一定の良好な発泡面が得
られることになる。このように発泡面の状態か最良の状
態トなるので、発泡の不安定性、また吐出口ごとの発泡
特性の相違(ばらつき)などがなくなり、印字品位(記
録品質)が高品位レベルで一定になり、製品間のばらつ
きがなくなるので印字検査での歩留りが向上する。
で保護膜で覆われているので、記録ヘッド製作工程中の
各種汚染はその覆っている膜にのみされるので、発泡に
重要な発泡面の表面への汚染が無くなる。その後、記録
ヘッドの完成した時点で発泡面上を覆う膜を除去するの
で、記録ヘッド完成時には常に一定の良好な発泡面が得
られることになる。このように発泡面の状態か最良の状
態トなるので、発泡の不安定性、また吐出口ごとの発泡
特性の相違(ばらつき)などがなくなり、印字品位(記
録品質)が高品位レベルで一定になり、製品間のばらつ
きがなくなるので印字検査での歩留りが向上する。
なお、発泡面を覆う保護膜は、その後の製造プロセス(
工程)に何ら問題を生ぜず、かつ最後のヘッド完成時に
簡単に取り除くことができるものてなければならないの
は勿論である。またその膜の厚さも製造工程中に他の部
分へ悪影テを与えないほどの厚さに定める必要がある。
工程)に何ら問題を生ぜず、かつ最後のヘッド完成時に
簡単に取り除くことができるものてなければならないの
は勿論である。またその膜の厚さも製造工程中に他の部
分へ悪影テを与えないほどの厚さに定める必要がある。
また膜は発泡面だけを覆うだけでなく、他の部分も全体
的に覆っても良い。記録ヘッド完成時に少なくとも発泡
面上の膜を除去すれば良いからである。
的に覆っても良い。記録ヘッド完成時に少なくとも発泡
面上の膜を除去すれば良いからである。
[実施例]
以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。
。
第1図および第2図(^) 、 (B)は本発明の一実
施例のバブルジェット記録方式の液体噴射記録ヘッドの
基板作成工程中の一態様を示す。なお、ここで、第5図
(A) 、 CB)の従来例と同一内容の部分には同一
符号を付しである。
施例のバブルジェット記録方式の液体噴射記録ヘッドの
基板作成工程中の一態様を示す。なお、ここで、第5図
(A) 、 CB)の従来例と同一内容の部分には同一
符号を付しである。
まずSi(シリコン)からなる支持体(ガラス基板とも
いう)105上にII f B 2の発熱抵抗層107
をRF(高調波)スパッタ法により1000人の厚さに
積層形成する。次に、その発熱抵抗層107上に電極1
03 、104 としてAJ2(アルミニューム)を5
000人の厚さに蒸着する。次に、フォトマスクを用い
たフォトリソグラフィ技術によって長方形の発熱部(以
下ヒータと称する)102を形成する(第1図参照)。
いう)105上にII f B 2の発熱抵抗層107
をRF(高調波)スパッタ法により1000人の厚さに
積層形成する。次に、その発熱抵抗層107上に電極1
03 、104 としてAJ2(アルミニューム)を5
000人の厚さに蒸着する。次に、フォトマスクを用い
たフォトリソグラフィ技術によって長方形の発熱部(以
下ヒータと称する)102を形成する(第1図参照)。
次に、第1上部保護層108としてSiO□をRFスパ
ッタ法で約9000人の厚さに基板全面に積層形成する
。次に、Ta(タンタル)を5000人の厚さで成膜す
ることにより、第2上部保護層110を形成する。Ta
の第2上部保護層110はその表面で発泡面を構成する
ので、そのTaの保護層110上に覆い(カバー)とな
るTi(チタン)の膜113を500人の厚さで形成す
る。
ッタ法で約9000人の厚さに基板全面に積層形成する
。次に、Ta(タンタル)を5000人の厚さで成膜す
ることにより、第2上部保護層110を形成する。Ta
の第2上部保護層110はその表面で発泡面を構成する
ので、そのTaの保護層110上に覆い(カバー)とな
るTi(チタン)の膜113を500人の厚さで形成す
る。
次に、フォトリソグラフィ技術により、Taの保護層1
10とそれを覆っているTiの膜113とをヒータ10
2の周辺のみに残すバターニングをし、かつSiO□の
保護層108に対して引き出し電極103,104にの
みスルーホールをあけるパターニングを行う。このフォ
トリソグラフィ技術を用いた加工工程で、従来例のよう
にTiの膜113がないと仮定すると、Taの発泡面1
12上にレジストが塗布されで、バターニングされた後
、そのレジストが剥離されることとなる。この工程中、
発泡面112のTaと、レジストが反応してそのTaの
表面が変質する可能性がある。また、レジストの剥離が
完全にできないと、発泡面112のTa上にレジストの
残漬が残ることがある。しかし、本実施例ではTiの膜
113がTa上に形成されているので、そのTiとレジ
ストが反応してくれる。また残渣が残っていてもTiの
膜113上に付着されるだけである。従って、レジスト
はTaの発泡面112上に何ら影響は与えない。
10とそれを覆っているTiの膜113とをヒータ10
2の周辺のみに残すバターニングをし、かつSiO□の
保護層108に対して引き出し電極103,104にの
みスルーホールをあけるパターニングを行う。このフォ
トリソグラフィ技術を用いた加工工程で、従来例のよう
にTiの膜113がないと仮定すると、Taの発泡面1
12上にレジストが塗布されで、バターニングされた後
、そのレジストが剥離されることとなる。この工程中、
発泡面112のTaと、レジストが反応してそのTaの
表面が変質する可能性がある。また、レジストの剥離が
完全にできないと、発泡面112のTa上にレジストの
残漬が残ることがある。しかし、本実施例ではTiの膜
113がTa上に形成されているので、そのTiとレジ
ストが反応してくれる。また残渣が残っていてもTiの
膜113上に付着されるだけである。従って、レジスト
はTaの発泡面112上に何ら影響は与えない。
次に、フォトニース(東し■の商標)を塗布して、ヒー
タ102上に窓をあけ、かつSin、の層108の前述
のスルーホールした場所と同様の場所に新たにスルーホ
ールを開口する。
タ102上に窓をあけ、かつSin、の層108の前述
のスルーホールした場所と同様の場所に新たにスルーホ
ールを開口する。
この時も、Tiの膜かないと、発泡面112となるTa
上にフォトニースが一度塗布されるので、そのフォトニ
ースとTaが反応する可能性がある。本実施例のように
l’a(112)上にTi (113)があれば、フォ
トニースとTiとの反応が起きても発泡面+12のTa
とは反応しない。
上にフォトニースが一度塗布されるので、そのフォトニ
ースとTaが反応する可能性がある。本実施例のように
l’a(112)上にTi (113)があれば、フォ
トニースとTiとの反応が起きても発泡面+12のTa
とは反応しない。
次に、2層目の電極(図示しない)としてInを蒸着し
、共通電極部分のみを残す、ようにパターニングする。
、共通電極部分のみを残す、ようにパターニングする。
次に、吐出口をこの基体101の上に形成する。
吐出口の形成の一つの方法として感光性樹脂を用いた吐
出口作成方法がある。この方法は、吐出口壁を感光性樹
脂で形成するのであるが、まず感光性樹脂を基体101
の全面にラミネートなどの加工方法で形成させ、次に、
流路となる部分のみをフォトリソグラフィ技術により除
去する。この工程でTiの[113がないとすると、発
泡面112のTaにこの感光性樹脂が直接接触すること
になるので、感光性樹脂と発泡面+12のTaの間で反
応して、発泡面112のTa表面が変質する可能性があ
るし、また感光性樹脂層の残漬も残る可能性がある。し
かし、本実施例のように、Taの発泡面112上にTi
の膜113があれば、上記の反応はそのTiとの反応と
なり、残漬もそのTi上となる。
出口作成方法がある。この方法は、吐出口壁を感光性樹
脂で形成するのであるが、まず感光性樹脂を基体101
の全面にラミネートなどの加工方法で形成させ、次に、
流路となる部分のみをフォトリソグラフィ技術により除
去する。この工程でTiの[113がないとすると、発
泡面112のTaにこの感光性樹脂が直接接触すること
になるので、感光性樹脂と発泡面+12のTaの間で反
応して、発泡面112のTa表面が変質する可能性があ
るし、また感光性樹脂層の残漬も残る可能性がある。し
かし、本実施例のように、Taの発泡面112上にTi
の膜113があれば、上記の反応はそのTiとの反応と
なり、残漬もそのTi上となる。
このようにして吐出口(オリフィス)を形成後に、実装
工程に入る。
工程に入る。
この実装方法としては色々と種類があるが、最近では集
積回路(IC)をハンダを介して実装するいわゆるフリ
ップチップボンディング方式が一般に採用されている。
積回路(IC)をハンダを介して実装するいわゆるフリ
ップチップボンディング方式が一般に採用されている。
この方式ではフラックス(flux)を用いるので、I
Cの実装後にフラックスの洗浄をする。その時、Tiの
保護膜113がないと吐出口内にフラックスが入り込ん
で発泡面112を汚染することがある。しかし、本実施
例のように、Tiの膜113があれば、そのTiがフラ
ックスにより汚染されるのみであり、フラックスによっ
て発泡面112は何ら影響を受けない。
Cの実装後にフラックスの洗浄をする。その時、Tiの
保護膜113がないと吐出口内にフラックスが入り込ん
で発泡面112を汚染することがある。しかし、本実施
例のように、Tiの膜113があれば、そのTiがフラ
ックスにより汚染されるのみであり、フラックスによっ
て発泡面112は何ら影響を受けない。
以上のようにして、第3図に示すような記録ヘッドか完
成する。ここで、401は液路、402は吐出口、40
3は液路4[11の壁(インク流路壁)、404は共通
液室、405は天板、406はインク供給口である。次
に、この記録ヘッドの液路401 にTiのエツチング
液であるフッ酸11%の液を流す。このフッ酸液によっ
て発泡面112上のTiの膜113のみがエツチングさ
れて除去され、Taの発泡面112が現出する。このと
き、Ti113の表面が多少変質していてもエツチング
できる。またTi113上に残漬が残っていても、残漬
がTiの119113の全面にこびり付いていなければ
エツチング液の廻り込みによってTiのl]1l13が
きれいにエツチングされる。
成する。ここで、401は液路、402は吐出口、40
3は液路4[11の壁(インク流路壁)、404は共通
液室、405は天板、406はインク供給口である。次
に、この記録ヘッドの液路401 にTiのエツチング
液であるフッ酸11%の液を流す。このフッ酸液によっ
て発泡面112上のTiの膜113のみがエツチングさ
れて除去され、Taの発泡面112が現出する。このと
き、Ti113の表面が多少変質していてもエツチング
できる。またTi113上に残漬が残っていても、残漬
がTiの119113の全面にこびり付いていなければ
エツチング液の廻り込みによってTiのl]1l13が
きれいにエツチングされる。
また、Tiの上記エツチング液はTaと選択性かあるの
で、Taへのダメージ(損傷)は生じない。
で、Taへのダメージ(損傷)は生じない。
このように全ての加工工程が終了した後にTaの発泡面
112がはじめて表に出て、すぐ使用可能な初期(イニ
シャル)状態になるので、その後の吐出性能検査(印字
検査)では発泡の不安定性が解消され、印字品位も非常
に良好となる。尚、吐出口402の壁面の直下のTiが
残るが、吐出口の密着性にほとんど影響を与えなかった
。しかし、もし、そのT1の残存が問題であれは、11
の成膜をあらかじめバターニングをして、発泡面112
のみに残しておけばよい。
112がはじめて表に出て、すぐ使用可能な初期(イニ
シャル)状態になるので、その後の吐出性能検査(印字
検査)では発泡の不安定性が解消され、印字品位も非常
に良好となる。尚、吐出口402の壁面の直下のTiが
残るが、吐出口の密着性にほとんど影響を与えなかった
。しかし、もし、そのT1の残存が問題であれは、11
の成膜をあらかじめバターニングをして、発泡面112
のみに残しておけばよい。
なお、上述の本実施例では発泡面を覆う膜の材質として
Tiを使用したが、他の金属でもよく、また、安定性が
よければ有機物でもよい。
Tiを使用したが、他の金属でもよく、また、安定性が
よければ有機物でもよい。
また上述の本実施例では記録液の吐出方向がヒータ面方
向である記録ヘットを例示したが(第3図参照)、第4
図に示すようなヒータに対して垂直に吐出する記録ヘッ
ドにも本発明は適用できる。
向である記録ヘットを例示したが(第3図参照)、第4
図に示すようなヒータに対して垂直に吐出する記録ヘッ
ドにも本発明は適用できる。
また上述の本実施例では発泡面が上部保護層の表面とし
て考えたが、このような上部保護層がなく、ヒータ材(
発熱部)がむき出しの場合で本発明は適用できる。
て考えたが、このような上部保護層がなく、ヒータ材(
発熱部)がむき出しの場合で本発明は適用できる。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明によれば、発泡面を形成後
に、その発泡面を覆う膜を形成し、液路を形成後の記録
ヘット完成時に液路を通してその膜を除去するようにし
たので、記録ヘッド製造工程中に発泡面のイη染、変質
、残漬が生ずる余地が無くなり、その結果として吐出安
定性が向上し、吐出特性のばらつきも大幅に減少するの
で、印字検査(製造検査)の歩留りを向上することがで
きる。
に、その発泡面を覆う膜を形成し、液路を形成後の記録
ヘット完成時に液路を通してその膜を除去するようにし
たので、記録ヘッド製造工程中に発泡面のイη染、変質
、残漬が生ずる余地が無くなり、その結果として吐出安
定性が向上し、吐出特性のばらつきも大幅に減少するの
で、印字検査(製造検査)の歩留りを向上することがで
きる。
第1図は本発明実施例の基体を示す平面図、第2図(A
)は本発明実施例の基体の構成を示す平面図、 第2図(B)は本発明実施例の基体のX’ −V ’線
に沿う断面構造を示す断面図、 第3図は本発明実施例の記録ヘッドの部分斜視図、 第4図は本発明の別の実施例の記録ヘッドの構成を示す
斜視図、 第5図(A)、 (B)は従来の基体の構成を示す平面
図および断面図である。 01・・・基体、 02・・・発熱部、 83.104・・・引き出し電極、 05・・・支持体、 07・・・発熱抵抗層、 08・・・第1上部保護層(Si02)、09・・・第
3上部保護層(フォトニース)lO・・・第2上部保護
層(Ta)、 11・・・電気熱変換体、 12・・・発泡面、 13・・・発泡面を覆う膜(Ti)。 第 図(A) 111 : ml先帖便犠木 * fa (列/)I n、/)*ffi V第2図(
B) 東方ヒ仔りの革イ本のギ11m 第1図 404πi依寛 冥鉋例θ戚イ奎咳゛射訛伴゛へ、ドr飾f料視閃第3図 11ド電気蜘←永 伏米θF本1断面圏 第5図(B)
)は本発明実施例の基体の構成を示す平面図、 第2図(B)は本発明実施例の基体のX’ −V ’線
に沿う断面構造を示す断面図、 第3図は本発明実施例の記録ヘッドの部分斜視図、 第4図は本発明の別の実施例の記録ヘッドの構成を示す
斜視図、 第5図(A)、 (B)は従来の基体の構成を示す平面
図および断面図である。 01・・・基体、 02・・・発熱部、 83.104・・・引き出し電極、 05・・・支持体、 07・・・発熱抵抗層、 08・・・第1上部保護層(Si02)、09・・・第
3上部保護層(フォトニース)lO・・・第2上部保護
層(Ta)、 11・・・電気熱変換体、 12・・・発泡面、 13・・・発泡面を覆う膜(Ti)。 第 図(A) 111 : ml先帖便犠木 * fa (列/)I n、/)*ffi V第2図(
B) 東方ヒ仔りの革イ本のギ11m 第1図 404πi依寛 冥鉋例θ戚イ奎咳゛射訛伴゛へ、ドr飾f料視閃第3図 11ド電気蜘←永 伏米θF本1断面圏 第5図(B)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)発熱抵抗層と該発熱抵抗層に接続される一対の電極
とを有する電気熱変換体を有し、前記発熱抵抗層の、前
記一対の電極間に位置する部分である発熱部に対応して
、液体を吐出する吐出口に連通する液路が設けられてお
り、該液路の壁面の内前記発熱部に対応する発泡面を有
する液体噴射記録ヘッドの製造方法において、 前記発泡面上に該発泡面を覆うように膜を形成する工程
と、 前記液路を形成する工程と、 前記液路を通して前記膜を除去する工程と、を有するこ
とを特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法。 2)請求項1に記載の製造方法によって製造されており
、前記電気熱変換体が発生する熱エネルギーを利用して
吐出口から液体を吐出することを特徴とする液体噴射記
録ヘッド。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1048840A JP2849109B2 (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 液体噴射記録ヘッドの製造方法およびその方法により製造された液体噴射記録ヘッド |
US07/485,477 US5163177A (en) | 1989-03-01 | 1990-02-27 | Process of producing ink jet recording head and ink jet apparatus having the ink jet recording head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1048840A JP2849109B2 (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 液体噴射記録ヘッドの製造方法およびその方法により製造された液体噴射記録ヘッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02227256A true JPH02227256A (ja) | 1990-09-10 |
JP2849109B2 JP2849109B2 (ja) | 1999-01-20 |
Family
ID=12814446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1048840A Expired - Fee Related JP2849109B2 (ja) | 1989-03-01 | 1989-03-01 | 液体噴射記録ヘッドの製造方法およびその方法により製造された液体噴射記録ヘッド |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5163177A (ja) |
JP (1) | JP2849109B2 (ja) |
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