JPH062415B2 - インクジェットヘッド及び該インクジェットヘッドの製造方法 - Google Patents
インクジェットヘッド及び該インクジェットヘッドの製造方法Info
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- JPH062415B2 JPH062415B2 JP58069587A JP6958783A JPH062415B2 JP H062415 B2 JPH062415 B2 JP H062415B2 JP 58069587 A JP58069587 A JP 58069587A JP 6958783 A JP6958783 A JP 6958783A JP H062415 B2 JPH062415 B2 JP H062415B2
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 143
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 claims description 6
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 28
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007688 edging Methods 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 229920006332 epoxy adhesive Polymers 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41J2/14016—Structure of bubble jet print heads
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- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
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- B41J2/1603—Production of bubble jet print heads of the front shooter type
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1601—Production of bubble jet print heads
- B41J2/1604—Production of bubble jet print heads of the edge shooter type
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1626—Manufacturing processes etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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- B41J2/01—Ink jet
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- B41J2/1631—Manufacturing processes photolithography
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は、液体を噴射し、飛翔液滴を形成して記録を行
なうインクジェットヘッド及び該インクジェットヘッド
の製造方法に関する。
なうインクジェットヘッド及び該インクジェットヘッド
の製造方法に関する。
インクジェット記録法（液体噴射記録法）は、記録時に
おける騒音の発生が無視し得る程度に極めて小さいとい
う点高速記録が可能であり、而も所謂普通紙に定着とい
う特別な処理を必要とせずに記録の行なえる点において
最近関心を集めている。
おける騒音の発生が無視し得る程度に極めて小さいとい
う点高速記録が可能であり、而も所謂普通紙に定着とい
う特別な処理を必要とせずに記録の行なえる点において
最近関心を集めている。
その中で、例えば特開昭５４−５１８３７号公報、ドイ
ツ公開（DOLS）第2843064号公報に記載されている液体
噴射記録法は、熱エネルギーを液体に作用させて、液滴
吐出の為の原動力を得るという点において、他の液体噴
射記録法とは、異なる特徴を有している。
ツ公開（DOLS）第2843064号公報に記載されている液体
噴射記録法は、熱エネルギーを液体に作用させて、液滴
吐出の為の原動力を得るという点において、他の液体噴
射記録法とは、異なる特徴を有している。
特に、上記のドイツ公開公報に開示されている記録法の
代表例は、熱エネルギーの作用を受けた液体が急激な体
積の増大を伴う状態変化を起し、この状態変化に基く作
用力によって、記録ヘッド部先端のオリフィスより液体
が吐出されて、飛翔液滴が形成され、該液滴が被記録部
材に付着し記録が行われるという特徴を有している。
代表例は、熱エネルギーの作用を受けた液体が急激な体
積の増大を伴う状態変化を起し、この状態変化に基く作
用力によって、記録ヘッド部先端のオリフィスより液体
が吐出されて、飛翔液滴が形成され、該液滴が被記録部
材に付着し記録が行われるという特徴を有している。
殊に、DOLS 2843064号公報に開示されている液体噴射記
録法は、所謂drop-on demand記録法に極めて有効に適用
されるばかりではなく、記録ヘッド部をfull lineタイ
プで高密度マルチオリフィス化された記録ヘッドが容易
に具現化出来るので、高解像度、高品質の画像を高速で
得られるという特徴を有している。
録法は、所謂drop-on demand記録法に極めて有効に適用
されるばかりではなく、記録ヘッド部をfull lineタイ
プで高密度マルチオリフィス化された記録ヘッドが容易
に具現化出来るので、高解像度、高品質の画像を高速で
得られるという特徴を有している。
上記の記録法に適用される装置の記録ヘッド部は、液体
を吐出する為に設けられたオリフィスと、該オリフィス
に連通し、液滴を吐出する為の熱エネルギーを液体に作
用する部分である熱作用部を構成の一部とする液流路と
を有する液吐出部と、熱エネルギーを発生する手段とし
ての電気熱変換体とを具備している。
を吐出する為に設けられたオリフィスと、該オリフィス
に連通し、液滴を吐出する為の熱エネルギーを液体に作
用する部分である熱作用部を構成の一部とする液流路と
を有する液吐出部と、熱エネルギーを発生する手段とし
ての電気熱変換体とを具備している。
そして、この電気熱変換体は、一対の電極と、これ等の
電極に接続し、これ等の電極の間に発熱する領域（熱発
生部）を有する抵抗層とを具備しており、一般にこれら
電極及び熱発生部表面を覆う保護層をその上部に有し、
かつ絶縁性基板上に形成される。その典型的な構造を説
明するための部分断面図を第１図に示す。
電極に接続し、これ等の電極の間に発熱する領域（熱発
生部）を有する抵抗層とを具備しており、一般にこれら
電極及び熱発生部表面を覆う保護層をその上部に有し、
かつ絶縁性基板上に形成される。その典型的な構造を説
明するための部分断面図を第１図に示す。
第１図に示すように電気熱変換体101は、シリコン，ガ
ラスまたはセラミック等で構成される支持体102，所望
により支持体102上にSiO2等で構成される下部層103，下
部層103上の熱エネルギーを発生するための抵抗層104，
Ａｌなどからなり、抵抗層104上に積層され信号に応じ
た電流を供給する電極層105，SiO2などからなり、抵抗
層104および電極層105を保護するための第１の上部層10
6，第１の上部層106の欠陥を補うためのポリイミド樹脂
などからなる第２の上部層107，Taなどからなり、機械
的強度を補強するための第３の上部層が順々に積層され
た構造になっている。上部層はここでは３層構造のもの
を例示したが、３層が必要なわけではなく、１〜２層で
あっても又逆に４層以上の多層で保護される場合もあ
る。抵抗層104や電極層105に耐インク性があり、又、機
械的強度も充分であれば上部層は必ずしも設ける必要は
ない。
ラスまたはセラミック等で構成される支持体102，所望
により支持体102上にSiO2等で構成される下部層103，下
部層103上の熱エネルギーを発生するための抵抗層104，
Ａｌなどからなり、抵抗層104上に積層され信号に応じ
た電流を供給する電極層105，SiO2などからなり、抵抗
層104および電極層105を保護するための第１の上部層10
6，第１の上部層106の欠陥を補うためのポリイミド樹脂
などからなる第２の上部層107，Taなどからなり、機械
的強度を補強するための第３の上部層が順々に積層され
た構造になっている。上部層はここでは３層構造のもの
を例示したが、３層が必要なわけではなく、１〜２層で
あっても又逆に４層以上の多層で保護される場合もあ
る。抵抗層104や電極層105に耐インク性があり、又、機
械的強度も充分であれば上部層は必ずしも設ける必要は
ない。
今その上部層を取除いて電気熱変換体101を上方から見
ると、その平面図は第２図に示すように、下部層103上
に、熱発生部109の抵抗層と、熱発生部109で熱を発生さ
せるべく通電するための電極105−１，105−２が、多数
並列して配置された構造になっている。
ると、その平面図は第２図に示すように、下部層103上
に、熱発生部109の抵抗層と、熱発生部109で熱を発生さ
せるべく通電するための電極105−１，105−２が、多数
並列して配置された構造になっている。
ところで、熱発生部109および電極105−１，105−２の
形成は一般に次のような工程で行なわれる。前記支持体
102上に下部層103が形成されているものの表面に蒸着や
スパッタリング等の方法で、たとえばHfB2等からなる抵
抗層104を形成し、更にその上面に同様な方法で、たと
えばＡｌ等からなる電極層105を形成する。ついで第３
図に示すようなパターンを有するフォトマスクを使用し
て、いわゆるフォトエッチングの方法で電極層105およ
び抵抗層の一部を除去し、更に第４図に示すようなパタ
ーンを有するフォトマスクを使用して電極層105の一部
をエッチングすることにより所望の位置に所望の形状の
電極層および抵抗層が形成される。
形成は一般に次のような工程で行なわれる。前記支持体
102上に下部層103が形成されているものの表面に蒸着や
スパッタリング等の方法で、たとえばHfB2等からなる抵
抗層104を形成し、更にその上面に同様な方法で、たと
えばＡｌ等からなる電極層105を形成する。ついで第３
図に示すようなパターンを有するフォトマスクを使用し
て、いわゆるフォトエッチングの方法で電極層105およ
び抵抗層の一部を除去し、更に第４図に示すようなパタ
ーンを有するフォトマスクを使用して電極層105の一部
をエッチングすることにより所望の位置に所望の形状の
電極層および抵抗層が形成される。
ところで、第３図で示されるパターンと第４図で示され
るパターンとを正確に位置合せすることが困難なため、
フォトエッチングの結果たとえば第５図に示すような位
置ずれが起り易い。このような不具合が生じると、熱発
生部に流れる電流分布や密度等が製品ロッドごとにばら
つき、製品記録ヘッドの耐久性，信頼性を劣化させる原
因となっていた。またそのため熱発生部の抵抗値がばら
つき、製品の歩留りを悪くする原因となっていた。
るパターンとを正確に位置合せすることが困難なため、
フォトエッチングの結果たとえば第５図に示すような位
置ずれが起り易い。このような不具合が生じると、熱発
生部に流れる電流分布や密度等が製品ロッドごとにばら
つき、製品記録ヘッドの耐久性，信頼性を劣化させる原
因となっていた。またそのため熱発生部の抵抗値がばら
つき、製品の歩留りを悪くする原因となっていた。
本発明は上記の諸点に鑑み成されたものであって、製造
上の不具合による液体噴射記録ヘッドの信頼性，耐久性
の劣化を解消し、頻繁なる繰返し使用や長時間の連続使
用に於いて総合的な耐久性に優れ、初期の良好な液滴形
成特性を長期に亘って安定的に維持し得るインクジェッ
トヘッド及び該インクジェットヘッドの製造方法を提供
することを主たる目的とする。
上の不具合による液体噴射記録ヘッドの信頼性，耐久性
の劣化を解消し、頻繁なる繰返し使用や長時間の連続使
用に於いて総合的な耐久性に優れ、初期の良好な液滴形
成特性を長期に亘って安定的に維持し得るインクジェッ
トヘッド及び該インクジェットヘッドの製造方法を提供
することを主たる目的とする。
又、本発明の別の目的は、製造上のばらつきをなくし、
インクジェットヘッドの製品歩留りを飛躍的に向上させ
るインクジェットヘッドの製造方法を提供することであ
る。
インクジェットヘッドの製品歩留りを飛躍的に向上させ
るインクジェットヘッドの製造方法を提供することであ
る。
本発明のインクジェットヘッドは、 基板と、 該基板上に設けられた一対の電極層と、 該一対の電極層間に配され該電極層と電気的に接続され
た抵抗層と、 を有し、 該抵抗層が発生する熱エネルギーを利用して、オリフィ
スからインクを吐出するインクジェットヘッドにおい
て、 前記電極層と前記抵抗層との境界部における電極層の幅
が、前記境界部における前記抵抗層の幅より広いことを
特徴とする。
た抵抗層と、 を有し、 該抵抗層が発生する熱エネルギーを利用して、オリフィ
スからインクを吐出するインクジェットヘッドにおい
て、 前記電極層と前記抵抗層との境界部における電極層の幅
が、前記境界部における前記抵抗層の幅より広いことを
特徴とする。
また、本発明のインクジェットヘッド製造方法は、 基板上に形成された一対の電極層間の抵抗層が発生する
熱エネルギーを利用してオリフィスからインクを吐出す
るインクジェットヘッドの製造方法において、 基板上に抵抗層を形成する工程と、 該抵抗層上に電極層を形成する工程と、 第１のパターンマスクを使用して前記電極層及び前記抵
抗層の一部を除去する工程と、 第２のパターンマスクを使用して前記電極層の一部を除
去して一対の電極層となし、該一対の電極層間の前記抵
抗層を発熱抵抗層となす工程と、 を有し、 前記第１と第２のパターンマスクを使用して電極層と前
記抵抗層との一部を除去することによって、前記電極層
との境界において前記電極層の幅が前記抵抗層の幅より
広い形状を得ることを特徴とする。
熱エネルギーを利用してオリフィスからインクを吐出す
るインクジェットヘッドの製造方法において、 基板上に抵抗層を形成する工程と、 該抵抗層上に電極層を形成する工程と、 第１のパターンマスクを使用して前記電極層及び前記抵
抗層の一部を除去する工程と、 第２のパターンマスクを使用して前記電極層の一部を除
去して一対の電極層となし、該一対の電極層間の前記抵
抗層を発熱抵抗層となす工程と、 を有し、 前記第１と第２のパターンマスクを使用して電極層と前
記抵抗層との一部を除去することによって、前記電極層
との境界において前記電極層の幅が前記抵抗層の幅より
広い形状を得ることを特徴とする。
以下、本発明を第６，７図に従って具体的に説明する。
第６図は、本発明の一実施態様に於ける熱発生部近傍の
部分平面図である。電極105−１，105−２（一方が共通
電極で他方が選択電極となる）は、熱発生部の抵抗層に
接する部分、すなわち、各境界部において電極層の幅が
抵抗層の幅よりも広くなった領域110及び111を有してい
る。すなわち、本願第１発明のインクジェットヘッドに
おいては、このように熱を発生する抵抗層と電極層との
境界部における電極層の幅が、この境界部での抵抗層の
幅より広く形成されているため、電極層と抵抗層の配置
にずれを生じているインクジェットヘッドにおいても、
熱発生部における抵抗層中に流れる電流を殆ど均一且つ
一定に保つことができ、頻繁なる繰り返し使用や長時間
の連続使用においての耐久性に優れ液滴の安定形成を長
期にわたって行うことができる。
第６図は、本発明の一実施態様に於ける熱発生部近傍の
部分平面図である。電極105−１，105−２（一方が共通
電極で他方が選択電極となる）は、熱発生部の抵抗層に
接する部分、すなわち、各境界部において電極層の幅が
抵抗層の幅よりも広くなった領域110及び111を有してい
る。すなわち、本願第１発明のインクジェットヘッドに
おいては、このように熱を発生する抵抗層と電極層との
境界部における電極層の幅が、この境界部での抵抗層の
幅より広く形成されているため、電極層と抵抗層の配置
にずれを生じているインクジェットヘッドにおいても、
熱発生部における抵抗層中に流れる電流を殆ど均一且つ
一定に保つことができ、頻繁なる繰り返し使用や長時間
の連続使用においての耐久性に優れ液滴の安定形成を長
期にわたって行うことができる。
また、本願第２発明のインクジェットヘッドの製造方法
においては、抵抗層及び電極層をフォトリソ工程により
形成する場合に多少のパターンのずれが発生しても、熱
発生部の抵抗層である抵抗層内を流れる電流分布、電流
密度や抵抗値の製品間でのばらつきを抑えることができ
るため、歩留まりを向上させることができる。
においては、抵抗層及び電極層をフォトリソ工程により
形成する場合に多少のパターンのずれが発生しても、熱
発生部の抵抗層である抵抗層内を流れる電流分布、電流
密度や抵抗値の製品間でのばらつきを抑えることができ
るため、歩留まりを向上させることができる。
電極層の幅が抵抗層の幅よりも広くなった領域110及び1
11の長さｌ1，ｌ2及びその部分の幅Ｗ2は、電気熱変換
体の設置密度が低い場合には、できるだけ大きい方がパ
ターンずれに対しては有効であるが、高密度のマルチ記
録ヘッドを製造する場合には、隣り合う電極同志のショ
ートや、フオトリソ過程におけるエッジングが完全でな
いことに基づくブリッジの発生が生じやすいため、逆に
このような場合には、上記領域の長さｌ1，ｌ2及び幅Ｗ
2は、本発明の目的を達成できる限度で可能な限り小さ
くすることが、記録ヘッドの製造歩留り上好ましい。ま
た、上記領域の長さｌ1，ｌ2は等しくなくともかまわな
い。
11の長さｌ1，ｌ2及びその部分の幅Ｗ2は、電気熱変換
体の設置密度が低い場合には、できるだけ大きい方がパ
ターンずれに対しては有効であるが、高密度のマルチ記
録ヘッドを製造する場合には、隣り合う電極同志のショ
ートや、フオトリソ過程におけるエッジングが完全でな
いことに基づくブリッジの発生が生じやすいため、逆に
このような場合には、上記領域の長さｌ1，ｌ2及び幅Ｗ
2は、本発明の目的を達成できる限度で可能な限り小さ
くすることが、記録ヘッドの製造歩留り上好ましい。ま
た、上記領域の長さｌ1，ｌ2は等しくなくともかまわな
い。
なお、この例では、電極層の通常部の幅と、抵抗層の幅
とを同一の幅としたが、電極層の幅は、抵抗層の幅Ｗ1
とは異なるＷ3となる幅であってもよい。しかし、この
場合においてもＷ1とＷ2との関係はＷ1＜Ｗ2でなければ
ならない。
とを同一の幅としたが、電極層の幅は、抵抗層の幅Ｗ1
とは異なるＷ3となる幅であってもよい。しかし、この
場合においてもＷ1とＷ2との関係はＷ1＜Ｗ2でなければ
ならない。
第７図は、本発明の別の実施態様例を示す熱発生部近傍
の部分平面図である。第６図の場合には、電極は折り返
し電極配置となっていたが、第７図のように液流路のオ
リフィス方向に共通電極105−３を有する場合にも本発
明は同様に適用できる。なお、この例では105−４は選
択電極を表わす。
の部分平面図である。第６図の場合には、電極は折り返
し電極配置となっていたが、第７図のように液流路のオ
リフィス方向に共通電極105−３を有する場合にも本発
明は同様に適用できる。なお、この例では105−４は選
択電極を表わす。
本発明のインクジェットヘッドは、上記のような特徴的
構成を有する電気熱変換体がその上に形成された基板上
に、第１図に於いて説明した一乃至数層の上部層を形成
する。次いで、これら各電気熱変換体101により形成さ
れる熱発生部109に対応した液流路112とオリフィス113
を基板上に形成することによって完成される。
構成を有する電気熱変換体がその上に形成された基板上
に、第１図に於いて説明した一乃至数層の上部層を形成
する。次いで、これら各電気熱変換体101により形成さ
れる熱発生部109に対応した液流路112とオリフィス113
を基板上に形成することによって完成される。
第８図は、完成したインクジェットヘッドの一態様の内
部構造を示すための模式的分解図であり、この例ではオ
リフィス113は、熱発生部109の上方に設けられている。
なお、114はインク流路壁、115は共通液室、116は第２
の共通液室、117は共通液室117と第２の共通液室を連結
する貫孔、118は天板である。また、電気熱変換体の配
線部については図示を省略してある。
部構造を示すための模式的分解図であり、この例ではオ
リフィス113は、熱発生部109の上方に設けられている。
なお、114はインク流路壁、115は共通液室、116は第２
の共通液室、117は共通液室117と第２の共通液室を連結
する貫孔、118は天板である。また、電気熱変換体の配
線部については図示を省略してある。
第９図は、完成した他の態様のインクジェットヘッド模
式図を示すもので、この例ではオリフィス113は液流路
の先端に形成されている。なお、119はインク供給口を
示す。
式図を示すもので、この例ではオリフィス113は液流路
の先端に形成されている。なお、119はインク供給口を
示す。
このような構成を有する本願第１の発明のインクジェッ
トヘッドは、電極層と抵抗層との境界部における電極層
の幅が、前記境界部における前記抵抗層の幅より広くな
されているため、抵抗層と電極層に製造時の誤差等によ
るずれがあるヘッドであっても、熱発生部の抵抗層であ
る発熱抵抗層内を流れる電流分布や電流密度の製品間で
の熱発生部の抵抗層である抵抗層内を流れる電流分布や
電流密度の製品間でのばらつきを抑えることができるた
め、頻繁なる繰り返し使用や、長時間の連続使用におけ
る総合的な耐久性、信頼性が向上し、所期の良好な液体
特性を長期にわたって安定し提示し得るインクジェット
ヘッドを提供することができる。
トヘッドは、電極層と抵抗層との境界部における電極層
の幅が、前記境界部における前記抵抗層の幅より広くな
されているため、抵抗層と電極層に製造時の誤差等によ
るずれがあるヘッドであっても、熱発生部の抵抗層であ
る発熱抵抗層内を流れる電流分布や電流密度の製品間で
の熱発生部の抵抗層である抵抗層内を流れる電流分布や
電流密度の製品間でのばらつきを抑えることができるた
め、頻繁なる繰り返し使用や、長時間の連続使用におけ
る総合的な耐久性、信頼性が向上し、所期の良好な液体
特性を長期にわたって安定し提示し得るインクジェット
ヘッドを提供することができる。
また、本願第２の発明のインクジェットヘッドの製造方
法においては、電極層と抵抗層とのマスクパターンがず
れた場合であっても抵抗層の抵抗値のばらつきを抑える
ことができるため製品ごとのばらつきを防止でき、また
製造の歩留まりを向上させることができる。
法においては、電極層と抵抗層とのマスクパターンがず
れた場合であっても抵抗層の抵抗値のばらつきを抑える
ことができるため製品ごとのばらつきを防止でき、また
製造の歩留まりを向上させることができる。
以下、本発明のインクジェットヘッド及び該インクジェ
ットヘッドの製造方法を実施例に従ってより具体的に説
明する。
ットヘッドの製造方法を実施例に従ってより具体的に説
明する。
実施例 Ｓｉウエハーを熱酸化して、その表面に約５μｍ厚のSi
O2膜を形成し、これを基板とした。この基板上に、抵抗
層としてHfB2をスパッタにより3000Å厚堆積し、次いで
電子ビーム蒸着により電極層としてＴｉ層を５０Å層、
Al層を10000Å厚連続堆積した。その後第６図における
電極層幅Ｗ1が８０μｍ，Ｗ２が１００μｍ，ｌが５０
μｍとなるようまず第１０図に示した第１のパターンマ
スクを使用してフオトリソ工程により電極層及び抵抗層
をエッチングした。引き続いて８０μｍ×400μｍの熱
発生部を形成するために、第１１図に示した第２のパタ
ーンマスクを使用して、再度フオトリソ工程により電極
層の選択エッチングを行ない電極間に抵抗層を有する電
気熱変換体を形成した。このようにして電気熱変換体を
形成すると熱発生部の抵抗層に接する部分の電極パター
ンに±１０μｍの余裕があるため、２度目のフオトリソ
工程において多少のパターンずれが生じても、抵抗層間
の抵抗値に殆どバラツキが検出されなかった。また、電
極間のショートやブリッジの発生も、従来のものとほぼ
変わらない程度の発生率に押さえることができた。
O2膜を形成し、これを基板とした。この基板上に、抵抗
層としてHfB2をスパッタにより3000Å厚堆積し、次いで
電子ビーム蒸着により電極層としてＴｉ層を５０Å層、
Al層を10000Å厚連続堆積した。その後第６図における
電極層幅Ｗ1が８０μｍ，Ｗ２が１００μｍ，ｌが５０
μｍとなるようまず第１０図に示した第１のパターンマ
スクを使用してフオトリソ工程により電極層及び抵抗層
をエッチングした。引き続いて８０μｍ×400μｍの熱
発生部を形成するために、第１１図に示した第２のパタ
ーンマスクを使用して、再度フオトリソ工程により電極
層の選択エッチングを行ない電極間に抵抗層を有する電
気熱変換体を形成した。このようにして電気熱変換体を
形成すると熱発生部の抵抗層に接する部分の電極パター
ンに±１０μｍの余裕があるため、２度目のフオトリソ
工程において多少のパターンずれが生じても、抵抗層間
の抵抗値に殆どバラツキが検出されなかった。また、電
極間のショートやブリッジの発生も、従来のものとほぼ
変わらない程度の発生率に押さえることができた。
祖のあと、SiO2スパッタ層をハレイートスパッタにより
2.8μｍ堆積させ、引き続いてスピンナーにより、日立
化成製ＰＩＱを塗布し、熱発生部上部だけをＰＩＱエッ
チヤントにより剥離したのち、ベークして硬化させた。
さらにTaスパッタ層を0.5μｍ堆積して電気熱変換体を
保護層で被覆したインクジェットヘッド用基板を作成し
た。
2.8μｍ堆積させ、引き続いてスピンナーにより、日立
化成製ＰＩＱを塗布し、熱発生部上部だけをＰＩＱエッ
チヤントにより剥離したのち、ベークして硬化させた。
さらにTaスパッタ層を0.5μｍ堆積して電気熱変換体を
保護層で被覆したインクジェットヘッド用基板を作成し
た。
次にこの基板上に厚さ５０μｍの感光性樹脂ドライフイ
ルムを積層し、所定のパターンマスクによる露光、現像
を行ない液流路と供給液室を設け、更にエポキシ系接着
材を介してガラス製の天板を積層し、第９図の模式図に
示されるようなインクジェットヘッドを作製した。
ルムを積層し、所定のパターンマスクによる露光、現像
を行ない液流路と供給液室を設け、更にエポキシ系接着
材を介してガラス製の天板を積層し、第９図の模式図に
示されるようなインクジェットヘッドを作製した。
このようにして製造された２０個のインクジェットヘッ
ドにつき記録試験を実施したが、各記録ヘッド間にイン
ク吐出のバラツキは殆ど認められなかった。
ドにつき記録試験を実施したが、各記録ヘッド間にイン
ク吐出のバラツキは殆ど認められなかった。
第１図はインクジェットヘッドの熱発生部近傍の部分断
面図を示し、第２図は従来の液体噴射記録ヘッドの電気
熱変換体の部分平面図を示し、第３，４図は従来の熱発
生部を形成するためのフォトマスクの部分平面図を示
し、第５図は、従来の熱発生部の不良状況を示す図であ
る。第６，７図は本発明のインクジェットヘッドの熱発
生部の実施態様を示す部分平面であり、第８，９図は、
本発明のインクジェットヘッドの実施態様の構成を示す
ための模式図であり、第１０，１１図は、本発明のイン
クジェットヘッドの熱発生部を形成するためのフォトマ
スの部分平面図である。 １０１：電気熱変換体 １０２：支持体（基板） １０３：下部層 １０４：発熱抵抗層 １０５：電極層 １０６：第１の上部層 １０７：第２の上部層 １０８：第３の上部層 １０９：熱発生部 １１０，１１１：電極の幅が広くなった領域 １１２：液流路 １１３：オリフィス １１４：インク流路壁 １１５：共通液室 １１６：第２の共通液室 １１８：天板 １１９：インク供給口
面図を示し、第２図は従来の液体噴射記録ヘッドの電気
熱変換体の部分平面図を示し、第３，４図は従来の熱発
生部を形成するためのフォトマスクの部分平面図を示
し、第５図は、従来の熱発生部の不良状況を示す図であ
る。第６，７図は本発明のインクジェットヘッドの熱発
生部の実施態様を示す部分平面であり、第８，９図は、
本発明のインクジェットヘッドの実施態様の構成を示す
ための模式図であり、第１０，１１図は、本発明のイン
クジェットヘッドの熱発生部を形成するためのフォトマ
スの部分平面図である。 １０１：電気熱変換体 １０２：支持体（基板） １０３：下部層 １０４：発熱抵抗層 １０５：電極層 １０６：第１の上部層 １０７：第２の上部層 １０８：第３の上部層 １０９：熱発生部 １１０，１１１：電極の幅が広くなった領域 １１２：液流路 １１３：オリフィス １１４：インク流路壁 １１５：共通液室 １１６：第２の共通液室 １１８：天板 １１９：インク供給口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 博人 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−194859（ＪＰ，Ａ)
Claims (5)
- 【請求項１】基板と、 該基板上に設けられた一対の電極層と、 該一対の電極層間に配され該電極層と電気的に接続され
た抵抗層と、 を有し、 該抵抗層が発生する熱エネルギーを利用して、オリフィ
スからインクを吐出するインクジェットヘッドにおい
て、 前記電極層と前記抵抗層との境界部における電極層の幅
が、前記境界部における前記抵抗層の幅より広いことを
特徴とするインクジェットヘッド。 - 【請求項２】前記抵抗層及び前記電極層とを覆う保護層
が設けられている特許請求の範囲第１項に記載のインク
ジェットヘッド。 - 【請求項３】前記オリフィスが前記抵抗層の上方に設け
られている特許請求の範囲第１項に記載のインクジェッ
トヘッド。 - 【請求項４】前記電極層の幅が抵抗層の幅より広い部分
は、前記境界部のみである特許請求の範囲第１項に記載
のインクジェットヘッド。 - 【請求項５】基板上に形成された一対の電極層間の抵抗
層が発生する熱エネルギーを利用してオリフィスからイ
ンクを吐出するインクジェットヘッドの製造方法におい
て、 基板上に抵抗層を形成する工程と、 該抵抗層上に電極層を形成する工程と、 第１のパターンマスクを使用して前記電極層及び前記抵
抗層の一部を除去する工程と、 第２のパターンマスクを使用して前記電極層の一部を除
去して一対の電極層となし、該一対の電極層間の前記抵
抗層を発熱抵抗層となす工程と、 を有し、 前記第１と第２のパターンマスクを使用して電極層と前
記抵抗層との一部を除去することによって、前記電極層
との境界において前記電極層の幅が前記抵抗層の幅より
広い形状を得ることを特徴とするインクジェットヘッド
の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58069587A JPH062415B2 (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | インクジェットヘッド及び該インクジェットヘッドの製造方法 |
| DE19843414936 DE3414936A1 (de) | 1983-04-20 | 1984-04-19 | Fluessigkeitsstrahlaufzeichnungskopf |
| FR8406310A FR2544665B1 (fr) | 1983-04-20 | 1984-04-20 | Tete d'enregistrement par jets de liquide |
| US07/372,167 US4940999A (en) | 1983-04-20 | 1989-06-27 | Liquid jet recording head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58069587A JPH062415B2 (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | インクジェットヘッド及び該インクジェットヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59194868A JPS59194868A (ja) | 1984-11-05 |
| JPH062415B2 true JPH062415B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=13407103
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58069587A Expired - Lifetime JPH062415B2 (ja) | 1983-04-20 | 1983-04-20 | インクジェットヘッド及び該インクジェットヘッドの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4940999A (ja) |
| JP (1) | JPH062415B2 (ja) |
| DE (1) | DE3414936A1 (ja) |
| FR (1) | FR2544665B1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63160853A (ja) * | 1986-12-25 | 1988-07-04 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘツド |
| JP2662446B2 (ja) * | 1989-12-11 | 1997-10-15 | キヤノン株式会社 | 記録ヘッド及び記録ヘッド用素子基板 |
| DE4027722A1 (de) * | 1990-08-30 | 1992-03-05 | Siemens Ag | Tintenschreibkopf |
| EP0490668B1 (en) * | 1990-12-12 | 1996-10-16 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording |
| JP3248964B2 (ja) * | 1992-12-22 | 2002-01-21 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録ヘッド及び同ヘッドを備えた液体噴射記録装置 |
| US5901425A (en) | 1996-08-27 | 1999-05-11 | Topaz Technologies Inc. | Inkjet print head apparatus |
| JP4760148B2 (ja) * | 2005-06-07 | 2011-08-31 | セイコーエプソン株式会社 | 構造体の製造方法および構造体 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3669733A (en) * | 1969-12-12 | 1972-06-13 | Rca Corp | Method of making a thick-film hybrid circuit |
| JPS6016353B2 (ja) * | 1977-07-11 | 1985-04-25 | 日本電気株式会社 | サ−マルヘッドの製造方法 |
| US4074109A (en) * | 1977-07-15 | 1978-02-14 | Northern Telecom Limited | Thermal print bar |
| JPS5447665A (en) * | 1977-09-22 | 1979-04-14 | Mitsubishi Electric Corp | Exothermic recording element |
| JPS54161947A (en) * | 1978-06-13 | 1979-12-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Heat sensitive recording system |
| US4296421A (en) * | 1978-10-26 | 1981-10-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording device using thermal propulsion and mechanical pressure changes |
| US4330787A (en) * | 1978-10-31 | 1982-05-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording device |
| US4345262A (en) * | 1979-02-19 | 1982-08-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Ink jet recording method |
| JPS5931943B2 (ja) * | 1979-04-02 | 1984-08-06 | キヤノン株式会社 | 液体噴射記録法 |
| JPS5943314B2 (ja) * | 1979-04-02 | 1984-10-20 | キヤノン株式会社 | 液滴噴射記録装置 |
| US4336548A (en) * | 1979-07-04 | 1982-06-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Droplets forming device |
| JPS56139970A (en) * | 1980-04-01 | 1981-10-31 | Canon Inc | Formation of droplet |
| DE3013819A1 (de) * | 1980-04-10 | 1981-10-15 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur herstellung gedruckter leiterplatten |
| US4429321A (en) * | 1980-10-23 | 1984-01-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording device |
| GB2106039A (en) * | 1981-08-14 | 1983-04-07 | Hewlett Packard Co | Thermal ink jet printer |
| JPS5833471A (ja) * | 1981-08-21 | 1983-02-26 | Canon Inc | 液体噴射記録ヘツド |
| JPH062414B2 (ja) * | 1983-04-19 | 1994-01-12 | キヤノン株式会社 | インクジェットヘッド |
-
1983
- 1983-04-20 JP JP58069587A patent/JPH062415B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1984
- 1984-04-19 DE DE19843414936 patent/DE3414936A1/de not_active Ceased
- 1984-04-20 FR FR8406310A patent/FR2544665B1/fr not_active Expired
-
1989
- 1989-06-27 US US07/372,167 patent/US4940999A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3414936A1 (de) | 1984-10-25 |
| JPS59194868A (ja) | 1984-11-05 |
| FR2544665B1 (fr) | 1988-05-27 |
| FR2544665A1 (fr) | 1984-10-26 |
| US4940999A (en) | 1990-07-10 |
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