JPH02226623A - 真空バルブ用接点 - Google Patents
真空バルブ用接点Info
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- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 23
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 11
- 229910017813 Cu—Cr Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 22
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 6
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 101150062705 Wipf3 gene Proteins 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 2
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 229910000599 Cr alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000011978 dissolution method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
Landscapes
- High-Tension Arc-Extinguishing Switches Without Spraying Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、真空バルブ用接点に関する。
(従来の技術)
第3図は、−船釣な真空バルブの内部構成を示す断面図
である。同図に示すように真空バルブは、絶縁材料から
なるほぼ円筒状の絶縁容器1と、その両端面に封止金具
2,3を介して装着された金属製の端板4,5とにより
絶縁容器が構成され、その内部に真空雰囲気の遮断室6
が形成されている。この遮断室6内には端板4を気密に
貫通して第1の導電棒7が固定して設けられ、端板5を
貫通して第2の導電棒8が軸方向に可動に設けられてい
る。第1の導電棒7および第2の導電棒8の対向端には
それぞれ接点9を有する固定電極10および接点11を
有する可動電極12が互いに対向するように取り付けら
れている。第2の導電棒8と端板5との間には、両者の
間の気密性を保持するためにベローズ13が取り付けら
れている。
である。同図に示すように真空バルブは、絶縁材料から
なるほぼ円筒状の絶縁容器1と、その両端面に封止金具
2,3を介して装着された金属製の端板4,5とにより
絶縁容器が構成され、その内部に真空雰囲気の遮断室6
が形成されている。この遮断室6内には端板4を気密に
貫通して第1の導電棒7が固定して設けられ、端板5を
貫通して第2の導電棒8が軸方向に可動に設けられてい
る。第1の導電棒7および第2の導電棒8の対向端には
それぞれ接点9を有する固定電極10および接点11を
有する可動電極12が互いに対向するように取り付けら
れている。第2の導電棒8と端板5との間には、両者の
間の気密性を保持するためにベローズ13が取り付けら
れている。
また、このベローズ13には両接点9,11間に発生す
るアーク蒸気から保護するためにアークシールド14が
設けられている。真空バルブとしての開閉操作は図示し
ていない駆動機構により第2の導電棒8を介して行われ
る。
るアーク蒸気から保護するためにアークシールド14が
設けられている。真空バルブとしての開閉操作は図示し
ていない駆動機構により第2の導電棒8を介して行われ
る。
第4図は、一般に用いられているCu−Cr合金接点の
断面図である。同図に示すように、Cu−Cr合金接点
は、粒子状の耐弧材であるCr16と、その周囲の導電
材であるCu17から形成されている。Cu中の他元素
の固溶量は、導電性を考慮して、通常低く抑えられてい
る。
断面図である。同図に示すように、Cu−Cr合金接点
は、粒子状の耐弧材であるCr16と、その周囲の導電
材であるCu17から形成されている。Cu中の他元素
の固溶量は、導電性を考慮して、通常低く抑えられてい
る。
また、Cu−Cr合金接点の表面に、組織が微細な(微
細組織層)18層を形成させた接点も用いられている。
細組織層)18層を形成させた接点も用いられている。
その断面を第5図、そして微細組織層の部分を拡大して
第6図に示した。第6図に見られるように微細組織層は
数μm程度のCr粒子19と粒子間のCr相20から形
成されている。
第6図に示した。第6図に見られるように微細組織層は
数μm程度のCr粒子19と粒子間のCr相20から形
成されている。
(発明が解決しようとする課題)
以上述べたような真空バルブ用接点は、再点弧特性の観
点から、接点表面が平滑でかつ接点の機械的強度が大き
いことが要求される。
点から、接点表面が平滑でかつ接点の機械的強度が大き
いことが要求される。
前述の第4図の接点の場合、接点表面は加工したままの
状態であるため接点表面は微視的には非常に荒れた状態
となっている。また、CuとCrは、固相状態ではほと
んど固溶しあうことがなく、液相状態においても通常の
溶解方法では、液相が2相分離してしまう。このため、
第4図に示したような合金接点は、一般に固相焼結法あ
るいは溶浸法において作成されており接点の機械的強度
はあまり大きくなく、従って再点弧の抑制には必ずしも
満足な状態ではない。
状態であるため接点表面は微視的には非常に荒れた状態
となっている。また、CuとCrは、固相状態ではほと
んど固溶しあうことがなく、液相状態においても通常の
溶解方法では、液相が2相分離してしまう。このため、
第4図に示したような合金接点は、一般に固相焼結法あ
るいは溶浸法において作成されており接点の機械的強度
はあまり大きくなく、従って再点弧の抑制には必ずしも
満足な状態ではない。
このような接点表面の平滑性および機械的強度の改善の
ために、接点表面を熱処理することによって接点表面に
微細組織層を形成させることが従来に行われている。
ために、接点表面を熱処理することによって接点表面に
微細組織層を形成させることが従来に行われている。
このような微細層が形成されることにより、接点表面は
かなり平滑になる。この微細層は接点表面の一部もしく
は全体がいったん溶融した後凝固して形成されたもので
ある。しかし、Cu−Cr系合金は前述したように液相
領域に、2層分離領域が存在し、しかもCuとCrの融
点には800℃以上の差が存在するため最高到達温度お
よび冷却速度などの熱処理条件によって大きく変化する
。
かなり平滑になる。この微細層は接点表面の一部もしく
は全体がいったん溶融した後凝固して形成されたもので
ある。しかし、Cu−Cr系合金は前述したように液相
領域に、2層分離領域が存在し、しかもCuとCrの融
点には800℃以上の差が存在するため最高到達温度お
よび冷却速度などの熱処理条件によって大きく変化する
。
従来の接点表面に見られる微細層は、第6図に示すよう
にCu層20中にCr微粒子19がまばらに分散したも
のであり、微細層の主体はCu層である。このため従来
の接点は機械的強度の点で未だ満足のいくものではない
という問題がある。
にCu層20中にCr微粒子19がまばらに分散したも
のであり、微細層の主体はCu層である。このため従来
の接点は機械的強度の点で未だ満足のいくものではない
という問題がある。
本発明は、表面に非常に平滑でかつ機械的強度の極めて
大きい微細組織層を有するCu−Cr合金接点を提供す
ることを目的とするものである。
大きい微細組織層を有するCu−Cr合金接点を提供す
ることを目的とするものである。
(3題を解決するための手段)
本発明は直径10〜150μmのCr粒子と、それをと
り囲むCu相とで構成された第1の相と、直径0.1〜
5μmの微細Cr粒子とそれをとり囲むCu相とで構成
された第2の相とからなるCuCr合金接点であって、
上記第2相中の微細Cr粒子中に、微細Cr粒子径のほ
ぼ1/2〜1/100の直径を有する複数のCu粒子が
高度に分散していることを特徴とする真空バルブ用接点
である。
り囲むCu相とで構成された第1の相と、直径0.1〜
5μmの微細Cr粒子とそれをとり囲むCu相とで構成
された第2の相とからなるCuCr合金接点であって、
上記第2相中の微細Cr粒子中に、微細Cr粒子径のほ
ぼ1/2〜1/100の直径を有する複数のCu粒子が
高度に分散していることを特徴とする真空バルブ用接点
である。
また、本発明においては、上記第2相中の微細Cr相中
には、少なくとも1wt%以上のCrが固溶されており
、かつ、第2相が接点表面層の少なくとも一部を形成し
ていることが好ましい。
には、少なくとも1wt%以上のCrが固溶されており
、かつ、第2相が接点表面層の少なくとも一部を形成し
ていることが好ましい。
さらに本発明においては、上記第2相中の微細Cr粒子
が相互に接触し連結しあっていることが好ましい。
が相互に接触し連結しあっていることが好ましい。
本発明の接点は、接点表面に、急激でかつピーク温度の
非常に高い熱履歴を与えることにより容易に作成し得る
。
非常に高い熱履歴を与えることにより容易に作成し得る
。
上記の非常に高いピーク温度とは、接点組織によって決
まる液相2相分離領域上限温度をはるかに越え、液相が
極めて短い時間内で均一化され得る程度の温度を意味し
、また急激な熱履歴とは、冷却時に液相2相分離温度領
域を通過するのに要する時間が非常に短く、上述したよ
うな極めて微細な組織が形成される程度、冷却速度が大
きいことを意味する。
まる液相2相分離領域上限温度をはるかに越え、液相が
極めて短い時間内で均一化され得る程度の温度を意味し
、また急激な熱履歴とは、冷却時に液相2相分離温度領
域を通過するのに要する時間が非常に短く、上述したよ
うな極めて微細な組織が形成される程度、冷却速度が大
きいことを意味する。
(実施例)
第4図に示したようなCu−Cr合金接点表面に急激で
かつピーク温度の非常に高い熱履歴を与え接点表面に第
1図および第2図に示したような、組織が極めて微細な
層を形成させる。
かつピーク温度の非常に高い熱履歴を与え接点表面に第
1図および第2図に示したような、組織が極めて微細な
層を形成させる。
ここでは、接点表面にアーク放電を印加することによっ
て熱履歴を与える場合について説明する。
て熱履歴を与える場合について説明する。
放電の条件は、交流50Hz、l0KA、ギャップ長5
mm、アーク時間10m5で4回繰り返し行った。
mm、アーク時間10m5で4回繰り返し行った。
放電後、接点の再点弧特性の評価を行なった。
評価結果を表1に示した。
以上説明した実施例と比較するため、従来の第5図およ
び第6図に示したような微細組織層を接点表面に形成さ
せ再点弧特性の評価を行なった。
び第6図に示したような微細組織層を接点表面に形成さ
せ再点弧特性の評価を行なった。
この場合は、アーク放電により、実施例に比ベピーク温
度の低い熱履歴を接点表面に与えた。
度の低い熱履歴を接点表面に与えた。
放電条件は、直流50A1ギヤツプ長5mm。
アーク時間10m5で50回繰り返し行なった。
放電後、同様に接点の再点弧特性の評価を行なった。こ
れを表1に比較例−1として示した。
れを表1に比較例−1として示した。
加工したままの接点についても再点弧特性の評価を行な
い、比較例−2として表1に示した。
い、比較例−2として表1に示した。
また、第1図および第2図と構造が同様であるが、寸法
の異なる組織を接点表面に形成させた場合についても評
価を行ない、比較例−3として示した。この場合は、実
施例に比べ、ピーク温度の高さが同等あるいはそれ以上
で冷却速度が比較的ゆるやかな熱履歴を接点表面に与え
°ることにより、容易に形成させることができる。ここ
では、−例として、交流50Hz、5KA、ギャップ長
0.5mm、アーク時間10m5で4回行なった場合に
ついて示した。
の異なる組織を接点表面に形成させた場合についても評
価を行ない、比較例−3として示した。この場合は、実
施例に比べ、ピーク温度の高さが同等あるいはそれ以上
で冷却速度が比較的ゆるやかな熱履歴を接点表面に与え
°ることにより、容易に形成させることができる。ここ
では、−例として、交流50Hz、5KA、ギャップ長
0.5mm、アーク時間10m5で4回行なった場合に
ついて示した。
さらに、第2図と構造、寸法とも同様であるが、接点表
面のわずかな部分にしか形成されない場合についても評
価し、比較例4として示した。このような状態は、実施
例と同様な熱処理を、その繰り返し回数を半減して行な
うことにより容易に実現できる。
面のわずかな部分にしか形成されない場合についても評
価し、比較例4として示した。このような状態は、実施
例と同様な熱処理を、その繰り返し回数を半減して行な
うことにより容易に実現できる。
表1に見られるように、従来の接点(比較例1および2
)では再点弧発生確立が2%前後見られているのに対し
、本発明の接点(実施例1)においては、再点弧発生が
極めて少なく、再点弧特性が顕著に改善されている。
)では再点弧発生確立が2%前後見られているのに対し
、本発明の接点(実施例1)においては、再点弧発生が
極めて少なく、再点弧特性が顕著に改善されている。
また、微細層の構造が同一でも、粗大な組織となってい
る。比較例3、および微細層の生成が不十分な比較例4
では、十分な改善が見られていない。
る。比較例3、および微細層の生成が不十分な比較例4
では、十分な改善が見られていない。
なお、本実施例および比較例では、Cu−50wt%C
r合金接点を用いて検討したが、その他の組織について
も本発明は有効である。
r合金接点を用いて検討したが、その他の組織について
も本発明は有効である。
なお、表面層を強化した本発明接点を使用した真空バル
ブに於ける耐溶着性は、この表面層で溶着を引きはずし
開極するという期待は低くなるため、特に耐溶着性を配
慮することを要求される場合には、例えばB1のような
耐溶着性向上成分を、再点弧発生を高めない程度の量添
加して、対応することが有効である。この場合には、第
4図の17のマトリックスから破壊が起こる。
ブに於ける耐溶着性は、この表面層で溶着を引きはずし
開極するという期待は低くなるため、特に耐溶着性を配
慮することを要求される場合には、例えばB1のような
耐溶着性向上成分を、再点弧発生を高めない程度の量添
加して、対応することが有効である。この場合には、第
4図の17のマトリックスから破壊が起こる。
前記した実施例および比較例における、再点弧特性の評
価条件は次の通りである。
価条件は次の通りである。
直径30mm、厚さ5mmの円板状接点片を、デイマウ
ンタプル形真空バルブに装着し、l0KVX500Aの
回路を2000回遮断した時の再点弧発生頻度を測定し
、2台の遮断機(真空バルブとしては6本)の全体の発
生確率で示した。接点の装着に際しては、ベーキング加
熱(450℃、30分)のみ行ない、ろう材の使用なら
びにこれに伴う加熱は行なわなかった。
ンタプル形真空バルブに装着し、l0KVX500Aの
回路を2000回遮断した時の再点弧発生頻度を測定し
、2台の遮断機(真空バルブとしては6本)の全体の発
生確率で示した。接点の装着に際しては、ベーキング加
熱(450℃、30分)のみ行ない、ろう材の使用なら
びにこれに伴う加熱は行なわなかった。
本発明の接点は、機械的強度の非常に大きい極微細組織
を接点表面に有しているため再点弧発生確率を小さく維
持することが可能となる。したがって、本発明によれば
、信頼性の一層向上した真空バルブ用接点を提供するこ
とができる。
を接点表面に有しているため再点弧発生確率を小さく維
持することが可能となる。したがって、本発明によれば
、信頼性の一層向上した真空バルブ用接点を提供するこ
とができる。
第1図は本発明の接点の構成を示す断面図、第2図は本
発明の接点の表面の極微細組織層の構成を示す拡大断面
図、第3図は真空バルブの構成を示す断面図、第4図は
従来のCu−Cr接点の一例の構成を示す断面図、第5
図は従来の微細層を有する接点の一例の構成を示す断面
図、第6図は、第5図に示す接点表面の微細層を示す拡
大断面図。 1・・・絶縁容器、4.5・・・金属性の端板、7.8
・・・導電棒、9.11・・・接点、13・・・ベロー
ズ、15・・・アークシールド、16・・・接点素材中
のCr粒子、17・・・接点素材のCuマトリックス、
21・・・極微細組織層、22・・・極微細組織層中の
極微細Cr粒子、23・・・極微細組織中のCuマトリ
ックス。
発明の接点の表面の極微細組織層の構成を示す拡大断面
図、第3図は真空バルブの構成を示す断面図、第4図は
従来のCu−Cr接点の一例の構成を示す断面図、第5
図は従来の微細層を有する接点の一例の構成を示す断面
図、第6図は、第5図に示す接点表面の微細層を示す拡
大断面図。 1・・・絶縁容器、4.5・・・金属性の端板、7.8
・・・導電棒、9.11・・・接点、13・・・ベロー
ズ、15・・・アークシールド、16・・・接点素材中
のCr粒子、17・・・接点素材のCuマトリックス、
21・・・極微細組織層、22・・・極微細組織層中の
極微細Cr粒子、23・・・極微細組織中のCuマトリ
ックス。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、直径10〜150μmのCr粒子と、それをとり囲
むCu相とで構成された第1の相と、直径0.1〜5μ
mの微細Cr粒子とそれをとり囲むCu相とで構成され
た第2の相とからなるCu−Cr合金接点であって、前
記第2相中の微細Cr粒子中に、該微細Cr粒子径のほ
ぼ1/2〜1/100の直径を有する複数のCr粒子が
高度に分散していることを特徴とする真空バルブ用接点
。 2、第2相中の微細Cu相中には、少なくとも1wt%
以上のCrが固溶されており、かつ、前記第2相が接点
表面層の少なくとも一部を形成していることを特徴とす
る、請求項1の真空バルブ用接点。 3、第2相中の微細Cr粒子が相互に接触し連結し合っ
ていることを特徴とする、請求項1の真空バルブ用接点
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4681489A JP2695902B2 (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 真空バルブ用接点 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4681489A JP2695902B2 (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 真空バルブ用接点 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02226623A true JPH02226623A (ja) | 1990-09-10 |
JP2695902B2 JP2695902B2 (ja) | 1998-01-14 |
Family
ID=12757802
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4681489A Expired - Lifetime JP2695902B2 (ja) | 1989-02-28 | 1989-02-28 | 真空バルブ用接点 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2695902B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004273342A (ja) * | 2003-03-11 | 2004-09-30 | Toshiba Corp | 真空バルブ用接点材料及び真空バルブ |
WO2011024228A1 (ja) * | 2009-08-28 | 2011-03-03 | 株式会社日立製作所 | 真空バルブ用電気接点及びその電気接点を用いた真空遮断器及び真空開閉機器 |
CN105132726A (zh) * | 2015-07-31 | 2015-12-09 | 陕西斯瑞工业有限责任公司 | 一种适用于接触器的铜铬触头材料及其制备方法 |
-
1989
- 1989-02-28 JP JP4681489A patent/JP2695902B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004273342A (ja) * | 2003-03-11 | 2004-09-30 | Toshiba Corp | 真空バルブ用接点材料及び真空バルブ |
WO2011024228A1 (ja) * | 2009-08-28 | 2011-03-03 | 株式会社日立製作所 | 真空バルブ用電気接点及びその電気接点を用いた真空遮断器及び真空開閉機器 |
CN105132726A (zh) * | 2015-07-31 | 2015-12-09 | 陕西斯瑞工业有限责任公司 | 一种适用于接触器的铜铬触头材料及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2695902B2 (ja) | 1998-01-14 |
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