JPH02224262A - 処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、被処理体とモニター用被処理体とを搭載して
この処理容器毎バッチ処理する際の、処理方法に関する
。

（従来の技術） この種の処理装置として、半導体ウェハを熱処理する熱
処理装置を挙げることができる。

この熱処理装置の一例を第５図に示す、同図において、
例えば２５枚のウェハを搭載したキャリアカセット（図
示せず）を搬送するキャリア搬送路１が設けられ、この
キャリア搬送路１途上にはストッカ２が設けられている
。このストッカ２は多段にて構成され、前記キャリア搬
送路１によって搬送されたキャリアカセットをここに一
旦格納するものである、前記キャリア搬送路１の一端側
にはウェハ移し換え装置３が設けられている。そして、
前記キャリア搬送路１の右端にはボート搬送装置４が設
けられ、このボート搬送装置！４によってボート５を同
図の左右方向に移動可能としている。前記ウェハ移し換
え装置３は、ウェハを収納して搬送するキャリアカセッ
トと熱処理に際しウェハを収納するボート５との間でウ
ェハを自動的に移し換えるもので、例えば特公昭６１−
４１８６などに開示される技術である。

次に、前記ボート５について第６図を参照して説明する
。

このボート５は、耐熱性材料により構成されたボートの
長手方向に沿ってウェハ配列ピッチの等間隔で形成され
た溝内にウェハを挿入して支持するものであり１通常こ
のボート５に配列されるウェハ列の両端側にはダミーウ
ェハ群１０．１０が予め定められた枚数例えば数枚配置
される。この両端のダミーウェハ群１０．１０の間に処
理用ウェハ１１列が搭載されることになる。さらに、こ
のボート５には、熱処理後に熱処理の状態をサンプリン
グ的にモニターするためのモニター用ウェハ１２が搭載
され、第６図では処理用ウェハ群１１の中央部及び両端
部に３枚のモニター用ウェハ１２を搭載している。尚、
処理によっては、モニター用ウェハを処理用ウェハ１１
の中央にのみ配置するもの、あるいは処理用ウェハ１１
の両端側にそれぞれ１枚を配置するもの等がある。

（発明が解決しようとする課題） 上述したように、ボート５に搭載されるモニター用ウェ
ハ１２の枚数としては、通常多くて３枚、少ない場合は
１枚のみであり、このようなモニター用ウェハ１２のボ
ート５に対する搭載及びその離脱は、オペレータの手作
業により実施されていた。

このように、モニター用ウェハ１２の挿脱作業について
は１人手の介入を必ず要するので、１台の熱処理装置に
は必ず一人のオペレータを要し、省力化に反するばかり
か装置の完全自動化にも対応することができなかった。

また、このモニター用ウェハ１２の挿脱時の人手の介入
により、ごみ等がウェハに付着する危険性が高く、集積
度４Ｍ以上になるとこれが半導体ウェハの歩留まりの低
下の原因ともなっていた。さらに、クリーンルームへの
入室人員もクラス１０になると数人と制限されるため省
人化が強く要望されていた。

そして、このような人手によってモニター用ウェハ１２
の挿脱作業を行う場合には、この処理前。

処理後のモニター用ウェハ１２の管理をも人手によって
行わなければならず、すなわち、従来はこのような管理
がオペレータによるモニター用ウェハ１２の区分は作業
あるいは記憶に頼らざるを得なかった。

そこで、本発明の目的とするところは、モニター用被処
理体の移し換えを自動化することができ、省力化、処理
の歩留まりの向上を図り、かつ、モニター用被処理体の
管理を容易とすることができる処理方法を提供すること
にある。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段） 本発明は、処理容器の両端側にモニター用被処理体を配
列し、このモニター用被処理体間に被処理体を自動的に
配列する処理体の移し換え方法において、上記処理容器
の一端側のモニター用被処理体配列位置にモニター用被
処理体を移し換える工程と、この工程の後上記処理容器
の他端側のモニター用被処理体配列位置にモニター用被
処理体を移し換える工程と、この工程の後上記モニター
用被処理体間に被処理体を移し換える工程とを具備して
なることを特徴とする。

さらに、被処理体移し換え装置によって、処理容器内に
被処理体とモニター用被処理体とを搭載し、この処理容
器毎バッチ処理する処理方法において、使用前のモニタ
ー用被処理体は第１のモニター専用容器から移し換える
工程と、上記被処理体移し換え装置によって前記処理容
器から取り出された使用後のモニター用被処理体は第２
のモニター専用容器に移し換える工程とを具備してなる
ことを特徴とする。

（作　用） 本発明では、モニター用処理体の処理容器に対する移し
換え動作を、被処理体を処理容器に移し換−えるための
被処理体移し換え装置を利用して自動化している。

ここで、このようなモニター用被処理体としては、処理
容器に搭載される被処理体の両側に配置されることが多
く、この両側に加えて被処理体の中央付近の何れか一個
所にモニター用被処理体を搭載する場合もある。

処理容器内に被処理体を搭載してバッチ処理する場合に
は、被処理体を等間隔で配列する必要があり、この被処
理体の両側に前記モニター用被処理体を搭載する必要が
ある。

上記のような搭載を行う場合には、まず処理容器の一端
側にモニター用被処理体を搭載し、次に被処理体をこの
モニター用被処理体の隣に搭載し、最後にこのモニター
用被処理体を上記被処理体の隣に搭載すれば良いが、こ
のような手順では移し換え動作の自動化が不可能であっ
た。

すなわち、この作業を自動化するため被処理体移し換え
装置は、−度に複数枚の被処理体を支持するので所定の
幅を占有し、最後に搭載されるモニター用被処理体を処
理容器に移し換える際には。

既に処理容器内に存在する被処理体によって処理容器内
にて上記被処理体移し換え装置の移動を許容するスペー
スを確保できなかった。

本発明では、処理容器の一端側にモニター用被処理体を
移し換えた後、上記被処理体の全てを処理容器に移し換
える前に、いまだ移し換えられていない被処理体の空き
スペースを利用して、処理容器の他端側にモニター用被
処理体を移し換えているので、モニター用被処理体を被
処理体移し換え装置を利用して容易に自動化することが
できる。

（実施例） 以下、本発明方法を半導体ウェハの熱処理装置に適用し
た一実施例について、図面を参照して具体的に説明する
。

まず１本実施例装置の全体構成としては、前述した第５
図に示すとおりであり、さらに本実施例装置では、第５
図中のストッカ２が、第３図に示すように、第１のモニ
ター専用容器２０と第２のモニター専用容器２２とを収
納配置している。すなわた、このストッカ２は例えば６
段の棚を有する構造となっており、最下段の柵には前記
第１．第２のモニター専用容器２０．２２が収容されて
いる。この最下段の棚以外の５段の棚にはバッチ処理さ
れる処理用ウェハ１１を搭載したキャリアカセット３０
が多数収容配置されている。上記第１，２のモニター専
用容器２０．２２及びキャリアカセット３０は共に同様
な構成となっており、処理用ウェハ１１あるいはモニタ
ー用ウェハ１２を一枚ずつ挿入支持可能な溝部を例えば
２５カ所に等間隔で形成し、この溝部に上記処理用ウェ
ハ１１又はモニター用ウェハ１２を挿入することでこれ
を垂直状態で保持できるようになっている。そして、第
１のモニター専用容器２０は、いまだ処理のされていな
いモニター用ウェハ１２ａを収容するものであり、一方
、第２のモニター専用容器２２は、既に処理済のモニタ
ー用ウェハ１２ｂを収容するものである。尚、前記第２
のモニター専用容器２２に対する処理済のモニター用ウ
ェハ１２ｂの収容配列については、　ロット間の区別を
明確にするために、各ロット間で一つの溝部に対応する
スペースを開けて収容配置するようにしている。

そして、本実施例装置では、上記処理用ウェハ１１及び
モニター用ウェハ１２ａを、ボート搬送装置４上のボー
ト５に搭載するために、キャリア搬送路１に沿って前記
第１のモニター専用容器２０及びキャリアカセット３０
を搬送し、ウェハ移し換え装置３を利用してボート５に
対する移し換え動作を実行するようにしている。また、
ボート５上の処理済のウェハを元のキャリアカセット３
０及び第２のモニター専用容器２２に移し換える動作に
ついても、前記ウェハ移し換え装置３を利用して実行す
るようにしている。

ここで、上記ウェハ移し換え装置３の一例について、第
７図及び第８図を参照して説明する。

このウェハ移し換え装置３は、第７図、第８図に示すよ
うに図中上下方向へ昇降するヘッド４０と、このヘッド
４０にアーム４２を介して取付けられ１図中の左右方向
へ開閉可能な一対のチャック４４．４４とを有する構造
となっている。この一対のチャック４４．４４は、ウェ
ハを一枚毎チャック可能なチャック溝（図示せず）を有
し、この一対のチャック４４、４４の対向間距離を狭め
ることにより、上記溝にウェハをチャック可能にしてい
る。一方、この一対のチャック４４．４４と対向する下
方の位置には、ウェハ押上装置５０が設けられ、ウェハ
の下端と当接してこれを押上げることができるテーブル
５２を上下動可能としている。

尚、上記ヘッド４０とウェハ押上装置５０とは、それぞ
れ独立してレール５４に沿って移動可能であり、キャリ
ア搬送路１上のキャリアカセット３０などの位置と、ボ
ート搬送装置４上のボート５との位置にそれぞれ移動可
能となっている。

そして、前記キャリアカセット３０あるいは第１゜第２
のモニター専用容器２０．２２は、上記ウェハ押上装置
５０のテーブル５２と、一対のチャック４４．４４との
間に配置され、テーブル５２を押上げることで上記各容
器内のウェハを上方に押上げ、第７図に示すようにこの
押し上げられたウェハを前記ウェハを前記一対のチャッ
ク４４．４４にて保持することで、上記各容器からのウ
ェハの取出しを可能としている。この後、このウェハを
支持したチャック４４．４４は、ウェハ移し換え装置３
の水平移動により、前記ボート搬送装置４上のボート５
の上方位置まで移動し、このウェハを前記一対のチャッ
ク４４．４４及びウェハ押上装置５０を利用してボート
５に搭載可能としている。逆にボート５上の処理済ウェ
ハを上記各容器に戻し動作する場合には、上記の移し換
え動作の逆工程を実施することにより対応することがで
きる。

次に、上記実施例装置の制御系について、第４図を参照
して説明する。まず、半導体製造工程の各動作の制御を
司どるホストＣＰＵ６０が設けられ、このホストＣＰ０
６０は、実施例装置である熱処理装置の制御値、これの
前工程及び後工程である一連の半導体製造工程の全ての
制御を司どるようになっている。　このホストＣＰＵ６
０は、各ロット毎の使用工程の管理を行い、特に本実施
例装置の特徴的な工程管理として以下のような管理を行
うことになる。

すなわち、熱処理される各ロフトのキャリアカセット番
号、このキャリアカセット３０内の処理用ウェハ１１と
同時に搭載されるモニター用ウェハ１２ａの枚数及びそ
のボート５に対する配列位置等を管理している。特にモ
ニター用ウェハ１２８の設定枚数及びその配置について
は、予め定められたレシピにしたがって動作するように
なっており、このレジどの種類としては下記の表のとお
りである。

表 このホストＣＰＵ６０には、本実施例装置である熱処理
装置の全体の制御を司どるＣＰＵ６２が接続されており
、このＣＰＵ６２は前記ホストＣＰＵ６０からの入力指
令に基づき、前記ストッカ２からのキャリアカセット３
０、第１．第２のモニター専用容器２０．２２の搬入出
動作、ウェハ移し換え装置３の駆動、ボート搬送装置４
の搬送動作及びエレベータ６の駆動等の各制御を司どる
ようになっている。

次に、本発明方法に則った上記実施例装置の作用につい
て説明する。

まずホストＣＰＵ６０は、最初に処理すべきロットのロ
フト番号をＣＰＵ６２に出力し、このＣＰＵ６２の制御
にしたがって、前記ストッカ２により上記ロット番号に
対応するキャリアカセット３０と、第１のモニター専用
容器２０とがキャリア搬送路１上に設定される。そして
、このキャリアカセット３０及び第１のモニター専用容
器２０は、キャリア搬送路１に沿って搬送され、ウェハ
移し換え装置３の位置まで駆動される。この時、ウェハ
移し換え装置３には、前記ＣＰＵ６２によりボート５に
搭載すべきキャリアカセット３０の個数及びモニター用
ウェハ１２ｇのボート５に対する配置位置及びその枚数
が設定されている。　そして、モニター用ウェハ１２ａ
に対するレシピとして、前述した表の＆３に対応するレ
シピが設定されている場合には、ウェハ移し換え装Ｍ３
は下記の手順にしたがってウェハの移し換え動作を実行
することになる。すなわち、上記レシピの設定では、　
３枚のモニター用ウェハ１２ａを、ボート５に搭載され
る処理用ウェハ１１の中央位置に一枚及びその両端側位
置にそれぞれ一枚搭載することになる。

このための移し換え方法について、第１図及び第２図そ
して第１０図を参照して説明する。

まず、第１のモニター専用容器２０を前記一対のアーム
４４．４４とウェハ押上装置５０との間に設定し、この
ウェハ移し換え装置３の動作により、第１のモニター専
用容器２０上の一枚のモニター用ウェハ１２ａをチャッ
クして支持することになる。　このようなチャックは、
第１図（Ａ）に示すようにテーブル５２に対して一対の
チャック４４．４４の位置をずらしチャック４４．４４
の右端の溝を利用することで実現可能である。そして、
この後に、上記一対のチャック４４，４４とウェハ押上
装置５０とを移動し、この支持されたモニター用ウェハ
１２ａ（Ｍｌｌ）を、第２図（Ａ）に示すボート５の右
端であるフロント側（多段炉７に対する搬入先端側）ダ
ミーウェハ列ＤＭの次に配置することになる。この状態
を第１０図（ａ）　（ｂ）に示している。

次に、このモニター用ウェハ１２ａの隣りに処理用ウェ
ハｔ　ｔ　（ｐｖ　）を搭載する。第１０図（ｃ）参照
、ここで、ホストＣＰ０６０の指令により予めキャリア
カセット４個分の処理用ウェハ１１がボート５に搭載さ
れるものとすると、最初の２個分のキャリアカセット３
０内の処理用ウェハ１１が、まず移し換えられることに
なる。ここで、一対のチャック４４．４４は一度にカセ
ット１個分のウェハを支持可能であるので、この移し換
えを２回の動作に分けて実施する。　このために、第１
図（Ｂ）に示すように、キャリアカセット３０の全ウェ
ハ１１をテーブル５２によって押上げて一対のチャック
４４．４４によって支持し、その後にこれをボート５側
に移動して移し換えを行う、これと同様な動作を２回連
続して実施すすることで、ボート５には第２図（Ｂ）に
示すようにウェハ１１が搭載されることになる。

次に、既に搭載された処理用ウェハ１１の左隣りに一枚
のモニター用ウェハ１２ａを搭載する。すなわち、第１
図（Ｃ）に示すようにして１枚のモニター用ウェハ１２
ａをチャック４４．４４の右端の溝によって支持するこ
とで、第２図（Ｃ）に示すような移し換えを実施できる
。

この後、中間部に設定されたモニター用ウェハ１２ａの
左隣りに残りの２個分のキャリアカセットの処理用ウェ
ハ１１が搭載されることになるが、この処理用ウェハ１
１の一群のウェハをボート５に搭載してしまうと、残り
のモニター用ウェハ１２ａを、ダミー用ウェハ群１０と
この処理用ウェハ１１との間に配置することが不可能と
なる。すなわち、ボート５にウェハを移し換えるために
は、テーブル５２をボート５に向けて上昇させなければ
いけないが、この際既に搭載されているダミー用ウェハ
群１０と処理用ウェハ１１とがこの一対のチャック４４
．４４又はテーブル５２に干渉してしまう。

そこで、２枚目のモニター用ウェハ１２ａ　ヲボート５
に搭載した後に、続けて３枚目のモニター用ウェハ１２
ａをボート５のリア側に搭載している。

この搭載に当って、第１図（Ｄ）に示すようにまずチャ
ック４４．４４の右側の溝によってモニター用ウェハ１
２ａをチャックし、　これをボート５側に移動してテー
ブル５２上で一旦これを受ける。その後、テーブル５２
の位置を維持したまま、チャック４４゜４４を第１図（
Ｅ）に示すように右側に移動し、このチャック４４．４
４の左端の溝でこのモニター用ウェハ１２ａをチャック
するように持ち変える。そして、さらにこのチャック４
４．４４とテーブル５０とを第１図（Ｆ）に示すように
左側に移動させることで、第２図（Ｄ）に示すようにこ
の最後のモニター用ウェハ１２ａを、左端のダミー用ウ
ェハ群ｌＯの隣りに搭載することが可能となる。そして
、最後に残りのキャリアカセット２個分のウェハ１１を
、第１図（Ｂ）と同様にしてボート５に移し換えること
で、第２図（Ｅ）に示すように前記２枚目、３枚目のモ
ニター用ウェハ１２ａ、　１２ａの間のスペースを利用
して。

前記ボート５上に搭載することができる。

尚、最後に搭載された処理用ウェハ１１とその左側のモ
ニター用ウェハ１２ａとの間にスペースが存在する場合
には、前記ウェハ移し換え装置３によってこのモニター
用ウェハ１２ａとその左側のダミーウェハ群１０を一括
してチャックし、右詰めでスペースなく収容できるよう
に移動することになる。

このように、上記移し換え方法によれば、ボート５の左
側にモニター用ウェハ１２ａを移し換えるにあたって、
いまだ搭載されていないキャリアカセット３０の２個分
のウェハ１１が存在しない空きスペースを利用して、　
このモニター用ウェハ１２ａを移し換えることができ、
処理用ウェハ１１のための移し換え装置３を利用して、
モニター用ウェハ１２ａの移し換え動作を自動化するこ
とができる。

上記のようにして、処理用ウェハ１１及びモニター用ウ
ェハ１２ａの搭載が終了した後に、ボート搬送装置４を
駆動してこのボート５をエレベータ６の下側まで搬送す
る。その後ボート５は、ホストＣＰＵ６０及びＣＰυ６
２を介してエレベータ６に与えられた指令に基づき、該
当するプロセスチューブの開口端に対応する位置まで上
昇駆動され、その後このボート５をプロセスチューブ内
に搬入することになる。そして、このプロセスチューブ
内にて、処理用ウェハ１１及びモニター用ウェハ１２ａ
を搭載したボート５毎のバッチ処理が開始されることに
なる。

尚、本実施例では多段炉７を有する構成であるので、各
段のプロセスチューブに対する上記のようなボートの搬
送動作を実行することになる。この際、各プロセスチュ
ーブに搬入されるロット毎に、予めレシピが組まれてい
るので、このレシピに基づいて上記のようなウェハ移し
換え動作を実行することになる。特に、モニター用ウェ
ハ１２ａのボート５に対する設定枚数及びその配列位置
については、前述した表のうちのいずれかのレシピが設
定されているので、このレシピに基づき１枚乃至３枚の
モニター用ウェハ１２ａがボート５に搭載されることに
なる。

次に、熱処理の終了したウェハに対する搬出動作につい
て説明する。

プロセスチューブよりボート搬送装置４までの間の搬出
駆動は、上述したボート５の搬入動作とは逆の工程を実
施することで実行される。そして、ボート搬送装置４上
のウェハ移し換え位置にこのボート５が配置された後に
、前記ウェハ移し換え装置３によってボート５からのウ
ェハをキャリアカセット３０または第２のモニター専用
容器２２に対して移し換えることになる。したがって、
キャリア搬送路１上の前記ボート移し換え装置３の位置
には、空状態のキャリアカセット３０及び第２のモニタ
ー専用容器２２が予め配置されていることになる。

ボート５上のウェハを、前記ウェハ移し換え装置３を用
いて移し換える動作は、先のウェハ搬入時でのウェハ移
し換え順番とは逆の順番にしたがって実施されることに
なる。すなわち、まず第６図に示す左側領域の処理用ウ
ェハ１１のうちのキャリアカセット１個分に相当するウ
ェハ群をウェハ押上装置５０を用いて一対のチャック４
４．４４にチャックし、その後、この−・対のチャック
４４，４４とウェハ押上装置５０とを空状態のキャリア
カセット３０の位置まで搬送する。そして、同様にこの
ウェハ押上装置及び一対のチャック４４．４４を利用し
て、チャック４４．４４に支持されている処理用ウェハ
１１をキャリアカセット３２に移し換えることになる。

同様にして、ボート５の左側領域の他の１個分のキャリ
アカセット３０に対する処理用ウェハ１１の移し換えを
実行する。

次に、ボート５上の左端に配置されている処理済みモニ
ター用ウェハ１２ｂを、第２のモニター専用容器２２に
移し換えることになる。ここで、既に第２のモニター専
用容器２２に、先のロフトに対応するモニタ、−用ウェ
ハ１２ｂが搭載されている場合には、このロフトとの区
別を明確にするために、第９図に示すように第２のモニ
ター専用容器２２の一つの溝部に相当するスペースを開
けて、このロットのうちの最初のモニター用ウェハ１２
ｂを、前起部２のモニター専用容器２２に搭載すること
になる。以下、同様にしてボート５上の中央部に配置さ
れている処理済みモニター用ウェハ１２ｂ、ボート５上
の右側領域に配置されている処理用ウェハ１１、ボート
５上に右側に配置されている処理済みのモニター用ウェ
ハ１２ｂの順で、　キャリアカセット３０または第２の
モニター専用容器２２に、このウェハの移し換えを行う
ようになる。尚、このロフトの２枚目、３枚目のモニタ
ー用ウェハ１２ｂについては、第９図に示すように先に
搭載しであるロッドの最初のモニター用ウェハ１２ｂの
隣りに溝部のスペースを開けずに配列収容されることに
なる。

このように、上記実施例装置によれば、モニター用ウェ
ハ１２の移し換え動作についても、処理用ウェハ１１の
移し換え動作を実行するウェハ移し換え装置３を用いて
自動化することができるので。

省力化が図られ、かつ、人手の介入による移し換え動作
時に問題となっていた。ウェハに対する不純物の付着を
も確実に防止することができる。そして、上記実施例装
置の利点としては、使用前及び使用後のモニター用ウェ
ハ１２の管理について、オペレータの記憶にたよらずに
実施できることである。すなわち、使用前、使用後のモ
ニター用ウェハ１２は、第１．第２モニター専用容器２
０．２２にそれぞれ区別して収容されることになるので
、この使用前、使用後のモニター用ウェハ１２が混在す
ることなく、明確に区別することができる。しかも、使
用後のモニター用ウェハ１２ｂについては、第２のモニ
ター専用容器２２内において、所定の順番で収容配置さ
れることになるので、この順番にしたがって処理済みの
モニター用ウェハ１２ｂを取出してモニター認識するこ
とで、ロット番号及びボート５に対するモニター用ウェ
ハ１２の配置位置を誤認識することなく、これを確実に
モニターすることができる。

尚、本実施例では、処理の終了したロット毎に下記のよ
うなモニターデータをプリント出力するようにしている
。

月　日　　　　　時・分・秒 Ｔａｂａ　　　ｎｏ、　　　　　　　　　　　　　　　
　　　＝１Ｈａｔｃｈ　　ｒＤ、　　　　　　　　　　
　　　　　＝ＣＭｏｎ１ｔｏｒ　　Ｒｓｃｉｐｓ　　　
　　　　　　　　＝　３Ｍｏｎｉｔｏｒ　　ｂｒｏｃｋ
　　　　　　　　　　　　＝　１月　日　　　　　時・
分・秒 Ｔｕｂｅ　ｎｏ、　　　　　　　　　＝ＩＢａｔｃｈ　
ＩＤ、　　　　　　　　＝ＣＭｏｎ１ｔｏｒ　Ｒｅｃｉ
ｐｅ　　　　　　＝　３Ｍｏｎｉｔｏｒ　ｂｒｏｃｋ　
　　　　　＝　２月　日　　　　　時・分・秒 Ｔｕｂｅ　ｎｏ、　　　　　　　　　＝ＩＢａｔｃｈ　
ＩＤ、　　　　　　　　＝ＣＭｏｎ１ｔｏｒ　Ｒｅｃｉ
ｐｅ　　　　　　＝　４Ｍｏｎｉｔｏｒ　ｂｒｏｃｋ　
　　　　　＝　３このようなモニター出力用紙を参照し
つつ、前記第２のモニター専用容器２２内の各モニター
用ウェハ１２ｂのモニター認識を行うことで、モニター
認識を誤りな〈実施することができる。

尚、本発明は上記実施例に限定されるものではなく１本
発明の要旨の範囲内で種々の変形実施が可能である。

上記実施例ではモニター用ウェハ１２を処理用ウェハ１
１の両端及び中央部に配置するものについて説明したが
、本発明方法は、少なくとも被処理体である処理用ウェ
ハ１１の両端にモニター用ウェハ１２を移し換えるもの
であれば良い、また、上記実施例では本発明を半導体ウ
ェハを熱処理するための処理装置について適用したが、
被処理体及び処理の種類についてはこれに限定されるも
のではなく、少なくとも被処理体とモニター用被処理体
とを処理容器に搭載してこれをバッチ処理する種々の処
理装置に適用することができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように１本発明方法によれば、被処理体及
びモニター用被処理体の移し換え動作を自動化すること
により、省力化を図ると共に人手の介入によって起因す
る被処理体の歩留りの低下を防止し、しかも、この自動
化によりモニター用被処理体の管理を的確に実施するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法の一実施例としての半導体ウェハの
移し換え方法を説明するための概略説明図、第２図は第
１図の移し換え方法での各工程のボート上のウェハ搭載
状態を説明するための概略説明図、第３図は第１．第２
のモニター用専用容器を格納するストッカーの一例を示
す概略説明図、第４図は本発明装置の一例である熱処理
装置の制御系を示すブロック図、第５図は実施例装置で
の熱処理装置の全体構成を説明するための概略説明図、
第６図はボートに対するダミーウェハ群、処理用ウェハ
、モニター用ウェハのそれぞれの収容状態を説明するた
めの概略説明図、第７図及び第８図はそれぞれウェハ移
し換え装置の正面図及び側面図、第９図は第２のモニタ
ー専用容器に対する処理済のモニター用ウェハの格納状
態を説明するための概略説明図、第１０図は第１図及び
第２図の移し換え状態説明図である。 ３・・・ウェハ移し換え装置、 ５・・・処理容器（ボート）。 １１・・・被処理体（処理用ウェハ）。 １２・・・モニター用被処理体（モニター用ウェハ）。 ２０・・・第１のモニター専用容器。 ２２・・・第２のモニター専用容器。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）処理容器の両端側にモニター用被処理体を配列し
   、このモニター用被処理体間に被処理体を自動的に配列
   して上記処理容器毎バッチ処理する処理方法において、
   上記処理容器の一端側のモニター用被処理体配列位置に
   モニター用被処理体を移し換える工程と、この工程の後
   上記処理容器の他端側のモニター用被処理体配列位置に
   モニター用被処理体を移し換える工程と、この工程の後
   上記モニター用被処理体間に被処理体を移し換える工程
   とを具備してなることを特徴とする処理方法。
2. （２）被処理体移し換え装置によって、処理容器内に被
   処理体とモニター用被処理体とを搭載し、この処理容器
   毎バッチ処理する処理方法において、使用前のモニター
   用被処理体は第１のモニター専用容器から移し換える工
   程と、上記被処理体移し換え装置によって前記処理容器
   から取り出された使用後のモニター用被処理体は第２の
   モニター専用容器に移し換える工程とを具備してなるこ
   とを特徴とする処理方法。