JPH02206542A - フレキシブルプリント配線材料及びその製造方法 - Google Patents

フレキシブルプリント配線材料及びその製造方法

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JPH02206542A
JPH02206542A JP2710989A JP2710989A JPH02206542A JP H02206542 A JPH02206542 A JP H02206542A JP 2710989 A JP2710989 A JP 2710989A JP 2710989 A JP2710989 A JP 2710989A JP H02206542 A JPH02206542 A JP H02206542A
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flexible printed
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JP2710989A
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Koichi Nagao
長尾 孝一
Junichi Imaizumi
純一 今泉
Koichi Kawamata
川俣 耕一
Hiroshi Nomura
宏 野村
Eikichi Sato
英吉 佐藤
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Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は耐熱性、寸法安定性、屈曲性、熱放散性に優れ
、かつ反り、ねじれ等のないフレキシブルプリント配線
材料及びその製造方法に関する。
〔従来の技術] フレキシブルプリント回路は、近年の電子機器の小型化
、高密度化に伴い、その応用分野が拡大してきている。
特にベース基材にポリイミド樹脂を使用したものは、寸
法安定性、屈曲性に優れているため多くの分野に使用さ
れている。
従来のフレキシブルプリント配線材料は、銅、アルミ等
の金属導体箔とポリイミドフィルムとを、エポキシある
いは、アクリル系接着剤で貼り合わせたものであるため
、耐熱性が接着剤により制限され、ポリイミド樹脂本来
の優れた耐熱性が、十分に活かされていなかった。
そこで接着剤層を介さずに、ポリイミド樹脂と金属導体
箔とを直接接合させたフレキシブルプリント配線材料が
検討されてきた(特開昭58−190091〜1900
93号公報、特開昭60−206639号公報、特開昭
61−182941号公報、特開昭62−212139
号公報)。
しかしながら上記のようなポリイミド樹脂と金属導体箔
とを、直接接合させたフレキシブルプリント配線材料で
は、ポリイミド樹脂と金属導体箔との熱膨張率の差のた
めに、フレキシブルプリント配線材料が大きくカールす
る問題があった。特開昭60−32827号公報、特開
昭60−44338号公報に記載されている低熱膨張性
ポリイミド樹脂を用いて、金属導体箔との熱膨張率の差
をなくすことによって防止できることが開示されている
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら前記低熱膨張性ポリイミド樹脂層と金属導
体箔とが直接接合されてなるカールの無いフレキシブル
プリント配線材料においても、エンチング等により金属
導体箔を除去すると、ポリイミド樹脂層がカールする問
題があった。この原因としては、たとえ熱膨張率が金属
導体箔と同程度の低熱膨張性ポリイミド樹脂を使用して
も、その有機溶媒溶液を金属導体箔に直接流延塗布した
後、溶媒除去の工程で、ポリイミド樹脂層に体積収縮が
生じ、更に加熱硬化工程で閉環縮合による体積収縮が生
じ、これが応力として残留するためである。したがって
上記のようなポリイミド樹脂層のカールを防止するため
には、製造工程で体積収縮を生じさせないか、あるいは
たとえ体積収縮が生じたとしてもそれが応力として残留
しないようにすることが肝要であるが、現在までその具
体的方法は見出されていない。
本発明は上述の問題点を解決し、金属導体箔除去後もカ
ールの少ないフレキシブルプリント配線板材料を提供す
ることを目的とする。
〔課題を解決するための手段] 本発明は、金属導体箔とポリイミド樹脂層とが直接接合
されてなるフレキシブルプリント配線材料において、ポ
リイミド樹脂層が2層以上の構成され、少なくとも1層
は無機絶縁粉末を含有し、少なくとも他の1層は無機絶
縁粉末を含有していないことを特徴とする。このような
構成とすることによって前述のようなフレキシブルプリ
ント配線材料のカール及び金属導体箔を除去した後のポ
リイミド樹脂層のカールを防止することができる。
すなわち、本発明は、第1図に示すようにフレキシブル
プリント配線材料のポリイミド樹脂層を2層以上の構成
とし、そのうちの少なくとも1層以上に無機絶縁粉末を
分散混合して含有させることによって、各層の体積収縮
率、線膨張率に差をもたせ、これらの釣り合いによって
金属導体箔除去後も、カールの極めて少ないフレキシブ
ルプリント配線材料を提供せんとするものである。
本発明のフレキシブルプリント配線材料の金属導体箔と
しては、銅、アルミニウムの他、ニッケル、クロム、鉄
、チタン、亜鉛、金、銀、タングステン又はこれらの合
金を用いることができ、ポリアミド酸ワニス又はポリイ
ミドワニスを塗布する面にメツキによりクロム、亜鉛、
ニッケル等を析出させ、表面粗化を施したものが好まし
い。
金属導体箔の厚さは、フレキシブルプリント配線材料と
しての可とう性を損なわず、かつ取り扱いに際してシワ
や折れなどが発生しにくい5〜200μmが好ましく、
更に好ましくは10〜150μmである。
本発明のポリイミド樹脂層は下記の一般式で表される反
復単位を有する重合体からなっている。
ここでR8は芳香族ジアミン、ジイソシアナートのアミ
ノ基、シアナート基を除いた残基であり、p−フェニレ
ンジアミン、O−フェニレンジアミン、m−フェニレン
ジアミン、4.4′−ジアミノジフェニルエーテル、4
,4′−ジアミノジフェニルメタン、4.4′−ジアミ
ノターフェニル、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミ
ノジュレンなどを用いる。
R2は芳香族テトラカルボン酸誘導体であり、ピロメリ
ット酸、2,3.3’、4’ −テトラカルボキシジフ
ェニル、3.3’ 、4.4’−テトラカルボキシジフ
ェニル、3.3’、4.4’ −テトラカルボキシベン
ゾフェノン、3.3’、4゜4′−テトラカルボキシジ
フェニルメタンなどがある。また金属導体箔に塗布する
ポリアミド酸ワニス又はポリイミドワニスは単一である
必要はなく、2種以上のものを混合あるいは共重合した
ものを用いることもできる。
ポリアミド酸ワニス又はポリイミドワニスに分散混合さ
せる無機絶縁粉末としては、アルミナ、窒化ケイ素、窒
化ホウ素、二酸化ケイ素、雲母、タルク、クレー、酸性
白土、ケイソウ土、ベントナイト、ボロンナイトライド
、塩化カルシウム、酸化カルシウム、硫酸カルシウム、
カーボランダム、水酸化アルミニウムなどの粉末であり
、ふるい分け、沈降、遠心分離などにより1〜25μm
、更に好ましくは3〜10μmに分級して用いる。
これらの無機絶縁粉末は、ポリアミド酸ワニス又はポリ
イミドワニスの固形分100重量部に対して5〜50重
量部配合することが好ましい。これらの無機絶縁粉末を
ポリアミド酸ワニス又はポリイミドワニスに分散混合さ
せる装置としては、ボールミル、ポニーミキサー、温式
ミル、双腕型ねっか機、コニーダー、スクリューミキサ
ーなどがあり、無機絶縁粉末の凝集が無くなるまで混練
するのが望ましい。
本発明の各ポリイミド樹脂層の熱膨張率は1.0XIO
−’〜5. 0× 10−5K−’とすることが好まし
く、また、各層の厚さは1〜50μmとすることが好ま
しい。
本発明のフレキシブルプリント配線材料のポリイミド樹
脂層全体の厚さ方向の熱伝導率は1.0×10−’ J
/1lsec  −cm〜5.0× 10−3J/l1
sec・cmとすることが熱放散性に点から好ましい。
本発明において金属導体箔上にポリイミドフィルム層を
形成させる方法としては、金属導体箔の表面に、ポリア
ミド酸ワニス、ポリイミドワニス又はこれらに無機絶縁
粉末を分散混合させた溶液のうちのいずれか1つの溶液
を、製膜用スリットから吐出させるなどして均一に直接
塗布する。この塗工方法としては、ロールコータ、グラ
ビアコータ、ナイフコータ、ロッドコータ、スリットオ
リフィスコータ、エアドクタコータ、キスコータ、プレ
ードコータ、キャストコータ、スプレィコータ、スピン
コータ、押出コータなどがあげられる。
次に金属導体箔上に直接塗布したポリアミド酸フェス、
ポリアミドフエス又は無機絶縁粉末を分散混合させた溶
液に含まれる溶媒を90〜250°Cで加熱乾燥して除
去する。加熱乾燥の方法としては、除塵装置を通過させ
た加熱空気を塗布面から、あるいは金属導体箔面から、
あるいは双方から風速2〜15m/秒で吹きつける方法
が好ましいが、輻射による加熱、伝導による加熱を行っ
ても差しつかえない。
この工程で形成される膜の残留揮発分は10〜60重量
%が好ましい。残留揮発分が10重量%未満になると、
2層目に形成されるポリイミド樹脂層との間の密着性が
悪く眉間剥離が生じることがあり、残留揮発分が60重
量%を超えると、タック性が残るため後の作業性に支障
をきたす他、最終的に形成されたフレキシブルプリント
配線材料にカールが残ることがある。
このようにして金属導体箔上に形成された未硬化又は半
硬化のポリアミド酸又はポリイミドの膜上に、上記と同
様の方法で前記において塗布した以外の溶液を塗布し、
2層目以降の膜を形成する。
この場合も残留揮発分を10〜60重量%に調整するの
が好ましい。
以上のようにして金属導体箔上に2層以上に構成したポ
リアミド酸又はポリイミドの膜を300〜400°Cに
加熱して溶媒除去の完結、閉環縮合反応の完結、硬化を
行うことにより、多層構成のポリイミド樹脂層を有する
、ポリイミド樹脂層が金属導体箔に直接接合したフレキ
シブルプリント配線材料が得られる。加熱の方法は前述
の溶媒除去工程と同様に除塵装置を通過させた加熱気体
を、ポリアミド酸又はポリイミドの膜面から、あるいは
双方から吹きつけるのが好ましい。ここで溶媒除去工程
と異なる点は、金属導体箔の酸化防止、ポリイミド樹脂
の劣化防止のために、加熱雰囲気中から酸素を除去する
ことが好ましい。この方法としては、ヘリウム、アルゴ
ン、ネオン、窒素、金属光輝焼鈍用気体等の不活性気体
に、水素、−酸化炭素等の還元性気体を1体積%〜10
体積%混合させた気体を用いることにより行われる。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。
実施例1 熱電対、攪拌機、窒素吸込口を取り付けた302フラス
コに毎分約300戒の乾燥窒素を流しながらp−フェニ
レンジアミン(以下p−PDAと略記する)806.4
gとN−メチル−2−ピロリドン17kgを入れ攪拌し
、P−PDAを溶解した。
この溶液をウォータージャケットで20°Cに冷却しな
がら3.3’、4.4’ −ビフェニルテトラカルボン
酸二無水物2193.6gを徐々に加え、重合反応させ
、粘稠なポリアミド酸フェス(以下塗液Aと略記する)
を得た。
次に塗液Aを10kg分は取り、これに粒径3〜10μ
mに分級したアルミナ粉末400gを入れ攪拌した後、
ボールミルにて約5時間混練し、アルミナ粉末入りポリ
アミド酸フェス(以下塗液Bと略記する)とした。
次に厚さ35μm、幅535ffI111の圧延銅箔粗
化面に、塗工機を用いて塗液Bを流延塗布し、130°
Cで2分間、150°Cで2分間乾燥して、残留揮発分
を55重量%に調整した。この上に更に塗液Aを流延塗
布し、乾燥した。次にこれを、直径60+no+のロー
ル5本を半円周上に配置した加熱炉を用いて連続的に湾
曲保持し、250〜260°Cで20分間加熱して更に
溶媒除去と半硬化を行った。最後にこれを平面保持しな
がら380〜400°Cで20分間加熱して第1図に示
すようなフレキシブル銅張基板を得た。塗液Bより生成
したアルミナ粉末入りポリイミド樹脂層(第1図の2)
の厚さは10μmであり、熱膨張率は1.3 X 10
’に一’であった。塗液Aより生成したポリイミド樹脂
層(第1図の3)の厚さは15μmであり、熱膨張率は
1.8 X 10−’に一’であった。
このフレキシブル銅張基板から、MD力方向TD力方向
50X250mmの試験片を切り取り、垂直に立てた定
盤に50mm幅の一端を固定し、他端が定盤から離れた
距離をカール量として測定した。
その結果、MD力方向5.2mm、TD力方向4.7 
mmのカールが見られたが、フレキシブルプリント配線
材料としての使用には、何ら支障のないものである。ま
たこの試験片をエツチングし、銅箔を前面除去して得た
ポリイミドフィルムを同様にカール量測定したところ、
MD力方向18鵬、TD力方向10順のカールが見られ
たが、フレキシブルプリント回路としても実用上何ら支
障のないものである。
更にこのフレキシブル銅張基板から1インチ角の試験片
を切り取り、300℃の溶融はんだに、30秒、1分、
3分、5分間浮かべたが、反り、はがれ、ふくれ等は全
く見られなかった。またポリイミド樹脂層全体の厚さ方
向の熱伝導率を測定したところ、1.38 X 10−
3J/に一5ec  −c+++であり、熱放散性に優
れたものであった。
実施例2 実施例1と同様に合成した塗液A10kgに、粒径3〜
10μmに分級したアルミナ粉末を600g加え攪拌し
た後、ボールミルで約5時間混練し、アルミナ粉末入り
ポリアミド酸フェス(以下塗液Cと略記する)を得た。
これを厚さ35μm、幅535IIIOIの圧延銅箔粗
化面に塗工機を用いて流延塗布し、130°Cで2分間
、150°Cで2分間乾燥して、残留揮発分を50重量
%に調整した。この上に、実施例1で作成した塗液Bを
流延塗布し、130°Cで2分間、150°Cで2分間
乾燥して残留揮発分を55%に調整した。更にこの上に
塗液Aを流延塗布し、150°Cで20分間乾燥した。
次に実施例1と同様に加熱硬化して第2図に示すような
フレキシブル銅張基板を得た。塗液Cより生成したアル
ミナ粉末入りポリイミド樹脂層(第2図の2′)の厚さ
は8μmであり熱膨張率は1゜0× 10−’に一’で
あった。塗液Bより生成したアルミナ粉末入りポリイミ
ド樹脂(第2図の2)の厚さは10μmであり、熱膨張
率は、1.3X10−’に一’であった。塗液Aより生
成したポリイミド樹脂層(第2図の3)の厚さは10μ
mであり熱膨張率は1.8 X 10−’に一’であっ
た。このフレキシブル銅箔基板を実施例1と同様にカー
ル量測定したところ、フレキシブル銅張基板のカールは
、MD力方向4,2胴、TD力方向3.7 mであり、
銅箔除去後のポリイミドフィルムのカールはMD力方向
13コ、TD力方向10mであった。これらはいずれも
実用上支障のないものである。
更にこのフレキシブル銅張基板から1インチ角の試験片
を切り取り、300 ’Cの溶融はんだに、30秒、1
分、3分、5分間浮かべたが、反り、ふくれ、はがれ等
は全く見られなかった。また、ポリイミド樹脂層全体の
厚さ方向の熱伝導率は1゜7 X 10−3J/に一5
ec  −crnであり、熱放散性に優れたものであっ
た。
比較例1 実施例1で合成した塗液Aを、厚さ35μm、巾535
mmの圧延銅箔粗化面に流延塗布し、実施例1と同様の
加熱、硬化を行って第3図に示すようなフレキシブル銅
張基板を得た。ポリイミド樹脂層の厚さは25μmであ
り、熱膨張率は、1.8×104K −1であった。
実施例1と同様にカール量を測定したところ、フレキシ
ブル銅張基板で、MD力方向10鵬、TD力方向7mm
のカールが見られ、銅箔除去後のポリイミドフィルムで
、MD力方向35柵、TD力方向41mmのカールが見
られた。またポリイミド樹脂層の厚さ方向の熱伝導率は
7.3 X 10−’ J/に’sec’印であった。
〔発明の効果〕
以上詳細に説明した如く、本発明によれば、金属導体箔
とポリイミド樹脂とを直接接合させてなるフレキシブル
プリント配線材料で、カールが少なくかつ耐熱性、熱放
散性に優れた材料の製造が可能になった。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明のフレキシブルプリント配線
材料の一実施例の断面図であり、第3図は比較例の断面
である。 符号の説明 ■。 銅箔 2゜ 2′ 。 アルミナ粉末入りポリイミ ド樹脂層 2゜ ポリイミ ド樹脂層 第 図 第2図 1−−−−一銅箔 2 、2’−−りつしミ1#東入り小゛何ミド+t=t
Jll=へ命3−−−−−ホ゛リイミド樹刀−届

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.金属導体箔とポリイミド樹脂層が直接接合されてな
    るフレキシブルプリント配線材料において、ポリイミド
    樹脂層が2層以上で構成され、少なくとも1層は無機絶
    縁粉末を含有し、少なくとも他の1層は無機絶縁粉末を
    含有していないことを特徴とするフレキシブルプリント
    配線材料。
  2. 2.ポリイミド樹脂層の各層の熱膨張率が1.0×10
    ^−^5〜5.0×10^−^5K^−^1である請求
    項1記載のフレキシブルプリント配線材料。
  3. 3.ポリイミド樹脂層の各層の厚さが1〜50μmであ
    る請求項1記載のフレキシブルプリント配線材料。
  4. 4.無機絶縁粉末の粒径が1〜25μmである請求項1
    記載のフレキシブルプリント配線材料。
  5. 5.無機絶縁粉末をポリアミド酸ワニス又はポリイミド
    ワニスの固形分100重量部に対して5〜50重量部配
    合してなる請求項1記載のフレキシブルプリント配線材
    料。
  6. 6.ポリイミド樹脂層全体の厚さ方向の熱伝導率が1.
    0×10^−^4J/K・sec・cm〜5.0×10
    ^−^3J/K・sec・cmである請求項1記載のフ
    レキシブルプリント配線材料。
  7. 7.ポリアミド酸ワニス、ポリイミドワニス及びこれら
    に無機絶縁粉末を分散混合させた溶液のうちのいずれか
    1つの溶液を金属導体箔に直接塗布乾燥して第1層目の
    ポリアミド酸膜又はポリイミド膜を形成し、次いでこの
    上に前記以外の溶液を塗布乾燥して2層目以降のポリア
    ミド酸膜又はポリイミド膜を形成し、最終的に多層構成
    のイミド樹脂層とするフレキシブルプリント配線材料の
    製造方法。
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