JPH02204727A - アクティブマトリクス基板 - Google Patents

アクティブマトリクス基板

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JPH02204727A
JPH02204727A JP1025469A JP2546989A JPH02204727A JP H02204727 A JPH02204727 A JP H02204727A JP 1025469 A JP1025469 A JP 1025469A JP 2546989 A JP2546989 A JP 2546989A JP H02204727 A JPH02204727 A JP H02204727A
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JP
Japan
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bus line
picture element
gate bus
active matrix
pair
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Application number
JP1025469A
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English (en)
Inventor
Ken Kanamori
金森 謙
Hirohisa Tanaka
田仲 広久
Mikio Katayama
幹雄 片山
Hiroshi Morimoto
弘 森本
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、例えば、液晶と組み合わせて画像表示装置を
形成するアクティブマトリクス基板に関する。
(従来の技術) 近時、液晶を用いて画像を表示する際に、絶縁性基板上
に多数のスイッチング素子がマトリクス状に配設された
アクティブマトリクス基板が使用される。
このアクティブマトリクス基板は、例えば、第3図に等
価回路で示すように、絶縁性基板上に多数の絵素電極a
i、ai、・・・がマトリクス状に配設されており、各
絵素電極81に、それぞれ一つのTPT(Thin F
i!+* Transistor:薄膜トランジスタ)
82がスイッチング素子として接続されている。一方向
に列をなす各T F T 82の各ゲート電極は、その
方向に延設された電極線であるゲートバスライン83の
−本に電気的に接続されている。各ゲートバスライン8
3は等間隔をあけて平行に配線されている。
各ゲートバスライン83とは直交する方向に列をなす各
T F T 82のソース電極は、各ゲートバスライン
83とは直交して配線された電極線であるソースバスラ
イン84の一本に電気的に接続されている。
各ソースバスライン84も等間隔をあけて平行に配線さ
れている。各絵素電極81は、格子状になったケートバ
スライン83とソースバスライン84とにより囲まれた
領域をほぼ埋めるように配設されて、各T F T 8
2のドレイン電極に接続されている。そして、各ゲート
バスライン83には、走査信号がそれぞれ入力され、各
ソースバスライン84にはデータ信号がそれぞれ入力さ
れて、両信号が入力されたT F T 82が駆動され
、その駆動されたT F T 82に接続された絵素電
極81に電圧が印加される。
このようなアクティブマトリクス基板では、スイッチン
グ素子であるT F T 82の不良、ゲートバスライ
ン83やソースバスライン84の断線あるいは電気的漏
洩が生じると、絵素電極81が常時駆動されたり、駆動
されるべきときに駆動されなくなり、液晶と組み合わせ
た表示装置では絵素欠陥になる。
アクティブマトリクス基板を用いた表示装置では、表示
性能の同上や情報量の増加のために、絵素数を増加させ
たり、電極配線を微細化させる傾向にある。このため、
アクティブマトリクス基板の製造も困難になる傾向にあ
り、アクティブマトリクス基板を製造する際に絵素欠陥
が生じないようにすることは、非常に困難な作業になる
このような問題を解決するために、第4図に示すアクテ
ィブマトリクス基板が提案されている。
該アクティブマトリクス基板は、絶縁性基板上に、ケー
トハスライン93とソースバスライン94とが格子状に
配線されており、両バスライン93および94にて囲ま
れた領域内に、例えば、ゲートバスライン93の延設方
向に該領域を略二分割する一対の絵素電極91および9
1が並設されている。各絵素電極91および91は、ソ
ースバスライン94からゲートバスライン93の近傍を
該ゲートバスライン93に沿って平行に延出したソース
バスライン支線94aと、ゲートバスライン93との間
にわたって、該ゲートバスライン93方同に並設された
二つのT F T 92および92の各ドレイン電極に
、それぞれ接続されている。各T P T 92は、−
本のソースバスライン支線94aの先端部と基端部との
それぞれにソース電極を介して接続されており、該ソー
スバスライン支線94aに沿ったゲートバスライン93
にゲート電極が接続されている。
一本のソースバスライン支線94aに並設された各T 
F T 92は、−本のソースバスライン94に与えら
れたデータ信号と、−本のゲートバスライン93に与え
られた走査信号とが入力されることにより駆動される。
従って、一対のT F T 92および92には、等し
いデータ信号および走査信号がそれぞれ入力され、ゲー
トバスライン93とソースバスライン94とにより囲ま
れた領域内の一対の絵素電極91および91には一体的
に電圧が印加される。その結果、両絵素電極91および
91は、あたかも一つの絵素電極のように動作し、各バ
スラインにて囲まれた領域内に一つの絵素電極が配設さ
れた第3図に示す従来のアクティブマトリクス基板と同
様の表示能力を有する。
しかも、一対の絵素電極91および91にそれぞれ接続
されたT F T 92および92のいずれか一方に欠
陥がある場合や、第4図に二点鎖線95で示すように、
ソースバスライン支線94aが各T P T 92間に
て断線した場合には、欠陥を有さないT F T 92
、あるいはソースバスライン94と電気的に接続された
T F T 92により、いずれか一方の絵素電極91
に電圧が印加される。その結果、第3図に示す従来のア
クティブマトリクス基板では、このような欠陥に対して
各バスラインにて囲まれた領域にほぼ相当する面積の絵
素欠陥が生じていたのに対し、第4図に示すこのアクテ
ィブマトリクス基板では、各バスラインにて囲まれた領
域の略半分の面積の絵素欠陥が生じることになり、一つ
のTPTが駆動されないことによる絵素欠陥はほとんど
認識されず、表示性能が著しく向上する。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、このようなアクティブマトリクス基板で
は、第4図に二点鎖線96で示すように、ソースバスラ
イン94から延出するソースバスライン支線94aが基
端部側に接続されたT F T 92とソースバスライ
ン94との間にて断線した場合には、該ソースバスライ
ン支線94aに接続された両TFT92および92が駆
動されなくなり、各バスラインにて囲まれた領域に略相
当する面積の絵素欠陥が、生じる。ソースバスライン支
線94aにこのような断線が生じれば、各バスラインに
て囲まれた領域内に絵素電極を分割して配設することに
よる効果が半減される。
本発明は上記従来の問題を解決するものであり、その目
的は、各絵素電極のスイッチング素子に欠陥が生じたり
、バスラインに断線が生じても、絵素欠陥の発生を最小
限に抑制し得て、しかも、バスラインが断線しても、そ
の修正がきわめて容易であるアクティブマトリクス基板
を提供することにある。
(課題を解決するための手段) 本発明のアクティブマトリクス基板は、絶縁性基板上に
格子状に配線されたバスラインと、各バスラインにて囲
まれた領域内にそれぞれ配設された複数の絵素電極と、
各絵素電極にそれぞれ電気的に接続されると共に、前記
各領域を規定し相互に略直交する一対のバスラインにそ
れぞれ電気的に接続されたスイッチング素子と、を具備
し、所定のバスラインを挾んで相互に隣接する各一対の
絵素電極が、前記各スイッチング素子を介して該バスラ
インに電気的に接続されてなり、そのことにより上記目
的が達成される。
前記一対の絵素電極が電気的に接続されたバスラインに
は、導電性の予備配線が、これらの各絵素電極が位置す
る各領域内に各端部が位置されて各絵素電極および該バ
スラインとは絶縁状態で跨設されている。
(実施例) 以下に本発明を実施例について説明する。
本発明のアクティブマトリクス基板は、第1図に示すよ
うに、光透過性の絶縁性基板lO上に、相互に平行にな
るように、例えばタンタル(Ta)でなる、複数のゲー
トバスライン20.20、・・・が適当な間隔をあけて
配線されている。該絶縁性基板10には、各ゲートバス
ライン20とは相互に直交するように、例えばチタン(
Ti)でなるソースバスライン30.30、・・・が、
適当な間隔をあけて、それぞれが平行に配線されている
。各ゲートバスライン20とソースバスライン30との
交差部には、電気的漏洩を防止するために例えば窒化シ
リコン(stNx)が介挿されており、両者は絶縁状態
になっている。
相隣する一対のゲートバスライン20および20と、相
隣する一対のソースバスライン30および30とにより
囲まれた絶縁性基板10上の電極配設領域内には、例え
ば、一対の絵素電極40および40がソースバスライン
30の延設方向に並設されている。各絵素電極40は、
例えばITOでなり、各バスライン20および30にて
囲まれた電極配役領域の隅部に相当する部分が切欠され
た状態になっている。
ソースバスライン30の延設方向に相隣する一対の絵素
領域間に配線された一本のゲートバスライン20には、
その相隣する各電極配設領域内へ延出する一対のゲート
バスライン支線21および21が配設されている。各ゲ
ートバスライン支線21は、それぞれのゲートバスライ
ン支線21が延出する電極配設領域を規定する一方のソ
ースバスライン3oの近傍にて、該ソースバスライン3
0に沿った状態で、各絵素電極40の切欠部内に延出し
ている。各ゲートバスライン支線21には、T F T
 50がそれぞれ電気的に接続されており、各T F 
T 50は、各ゲートバスライン支線21が延出する電
極配設領域内の絵素電極40と、各ゲートバスライン支
線21とは沿った状態になったソースバスライン30と
も電気的に接続されている。各T F T 50は、ソ
ース電極がソースバスライン30に電気的に接続されて
おり、ゲート電極がゲートバスライン支線21を介して
ゲートバスライン20に電気的に接続されている。そし
て、各T F T 50のドレイン電極が各絵素電極に
それぞれ電気的にそれぞれ接続されている。
各ゲートバスライン20には、走査信号がそれぞれ入力
され、また、各ソースバスライン30には、データ信号
がそれぞれ入力される。そして、両信号が入力されたT
 F T 50が駆動され、該T F T 50が接続
された絵素電極40に電圧が印加される。
相隣する一対の電極配設領域間に配線された各ゲートバ
スライン20上には、例えばチタン(Ti)でなる予備
配線60が配設されている。該予備配線60は、各電極
配設領域における各ゲートバスライン支!1121が配
設されたゲートバスライン20の側部位置とは反対側の
側部に位置している。該予備配線60は、各端部が画電
極配設領域内に延出するように、ゲートバスライン20
上に跨設されており、該ゲートバスライン20との間に
絶縁膜が介挿されて電気的に絶縁されている。該予備配
線60は、その各先端部がその側方のソースバスライン
30側へ突出しているが該ソースバスライン30とは非
接触の絶縁状態になっている。
このような構成のアクティブマトリクス基板は、次のよ
うに製造される。まず、絶縁性基板10上にタンタル(
Ta)によりゲートバスライン20を形成する。ついで
、窒化シリコン(SiNx)および真性アモルファスシ
リコン(a−St)を連続して成膜した後にパターニン
グし、周知の方法によりTPT50を形成する。また、
パターニングに際して、ゲートバスライン20とソース
バスライン30との交差部分には、電気的漏洩を防止す
るために、S iNx膜を残しておく。その後に、チタ
ン(Ti)を用いてソースバスライン30および予備配
線60を形成し、次いで、ITOを用いて絵素電極40
を形成することにより、本実施例のアクティブマトリク
ス基板が製造される。
該アクティブマトリクス基板では、各ゲートバスライン
20からの走査信号と、各ソースバスライン30からの
データ信号とが入力されたT F T 50が駆動され
、該T F T 50が接続された絵素電極40に電圧
が印加される。ソースバスライン30の延設方向に相隣
する一対の電極配設領域の間に配設された一本のゲート
バスライン20から、各電極配設領域内へ延出する一対
のゲートバスライン支線2工には、そのゲートバスライ
ン20に与えられた走査信号が入力され、それぞれのゲ
ートバスライン支線21に接続された各T F T 5
0は、−本のソースバスライン30に接続されているこ
ととあいまって、等しい走査信号およびデータ信号によ
り駆動される。
該アクティブマトリクス基板において、相隣する電極配
設領域内に配設されてゲートバスライン20を挟んで相
互に隣接する一対の絵素電極40に接続された各T F
 T 50のいずれかが、例えば第1図に二点鎖線Aま
たはBで示すように、ゲートバスライン支線21の基端
部にて断線して所定の駆動信号により駆動されない場合
でも、他方のT F T 50はその駆動信号により駆
動される。従って、ゲートバスライン20を挟んで相互
に隣接する一対の絵素電極40は、このようなゲートバ
スライン支線21の断線に対して、所定の駆動信号が入
力される際に、同時に双方に電圧が印加されないという
ことがない。ゲートバスライン20を挟んで配設された
一対のT F T Soのいずれか一方に欠陥が生じた
場合も同様である。
ゲートバスライン20を挟んで配設された一対のT F
 T 50が、同時に不導通になる場合は、例えば第1
図に二点鎖線Cで示すように、ゲートバスライン20自
体が断線することが考えられるが、ゲートバスライン2
0は、アクティブマトリクス基板の製造工程上、通常、
絶縁性基板10上に最初にパターニングされて配線され
るため、パターニングされた状態で、断線等の配線不良
のチエツクが行われ、従って、このようなゲートバスラ
イン20の断線については容易に検出でき、ゲートバス
ライン20自体が断線した状態でアクティブマトリクス
基板が製造される確率は非常に小さい。
このように、絵素欠陥は、ゲートバスライン20および
ソースバスライン30にて囲まれた電極配設領域の略半
分の面積となる。この程度の絵素欠陥は、通常のプレビ
ジョン放送の受信機等では、許容できる範囲ではあるが
、より高精度の表示能力が要求される場合には、アクテ
ィブマトリクス基板上の欠陥の修正が必要となる。
本実施例のアクティブマトリクス基板では、欠陥の修正
は次のように行われる。例えば、−本のゲートバスライ
ン20に接続された一対のT F T 50におけるい
ずれか一方に欠陥が生じて駆動されない状態になり、そ
の欠陥T F T 50に接続された絵素電極40が動
作しなくなると、第2図(a)に斜線70および70で
示すように、ゲートバスライン20に跨設された予備配
線60の各端部が、それぞれの端部が位置する電極配設
領域内の各絵素電極40と、例えばレーザ光を用いた光
CVD法により電気的に接続される。これにより、ゲー
トバスライン20を挾んで相互に隣接する絵素電極40
同士が電気的に接続され、両絵素電極40は一体的に動
作される。
このとき、予備配線60はゲートバスライン20とは絶
縁状態になっているため、欠陥を有するTPT50に接
続された絵素電極40は、該予備配線60を介して接続
された絵素電極40の動作により確実に動作される。各
絵素電極40に接続されるT F T 50は、このよ
うな欠陥修正時に一対の絵素電極40を動作させること
ができる能力とされる。
該アクティブマトリクス基板の予備配線60では、ソー
スバスライン30が断線した場合にも、この断線を容易
に修正し得る。ソースバスライン30の断線は、通常、
ゲートバスライン20と交差した段差部分に生じる確率
が大きい。第2図(b)に示すように、ゲートバスライ
ン20との段差部にて、ソースバスライン30が断線3
1L、た場合には、第2図(c)に示すように、予備配
置1i60の各端部のソースバスライン30側に突出し
た部分と、その部分が対向するソースバスライン30の
各部分とを、斜線71のように、前述したレーザ光を用
いたCVD法にて電気的に接続する。これにより、ソー
スバスライン30の断線部が予備配線60を介して電気
的に接続され、ソースバスライン30の断線による欠陥
が修正される。
なお、上記実施例では、スイッチング素子としてTPT
を用いたが、TPTに代えてMIM  (金属−絶縁膜
−金属)トランジスタ、ダイオード、バリスタ等のアク
ティブ素子を用いてもよい。
(発明の効果) 本発明のアクティブマトリクス基板は、このように、格
子上に配設されたバスラインにより囲まれた領域内に複
数の絵素電極が配設され、所定のバスラインを挟んで配
設された各絵素電極がそのバスラインにそれぞれスイッ
チング素子を介して電気的に接続されているため、表示
装置において絵素欠陥が発生することを抑制することが
でき、しかも、絵素欠陥が発生してもその面積を小さく
し得る。
4、    の   なWa 第1図は本発明のアクティブマトリクス基板の一例を示
す平面図、第2図(a)はそのアクティブマトリクス基
板の欠陥修正方法の説明図、第2図(b)および(C)
は該アクティブマトリクス基板の別の欠陥修正方法の説
明図、第3図は従来のアクティブマトリクス基板の等価
回路図、第4図はさらに従来のアクティブマトリクス基
板の要部平面図である。
10・・・絶縁性基板、20・・・ゲートバスライン、
3o・・・ソースバスライン、40・・・FA素電極、
so・・・TPT。
60・・・予備配線。
以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、絶縁性基板上に格子状に配線されたバスラインと、 各バスラインにて囲まれた領域内にそれぞれ配設された
    複数の絵素電極と、 各絵素電極にそれぞれ電気的に接続されると共に、前記
    各領域を規定し相互に略直交する一対のバスラインにそ
    れぞれ電気的に接続されたスイッチング素子と、を具備
    し、 所定のバスラインを挟んで相互に隣接する各一対の絵素
    電極が、前記各スイッチング素子を介して該バスライン
    に電気的に接続されてなるアクティブマトリクス基板。 2、前記一対の絵素電極が電気的に接続されたバスライ
    ンには、導電性の予備配線が、これらの各絵素電極が位
    置する各領域内に各端部が位置されて各絵素電極および
    該バスラインとは絶縁状態で跨設されている請求項1に
    記載のアクティブマトリクス基板。
JP1025469A 1988-10-17 1989-02-02 アクティブマトリクス基板 Pending JPH02204727A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1025469A JPH02204727A (ja) 1989-02-02 1989-02-02 アクティブマトリクス基板
DE68923146T DE68923146T2 (de) 1988-10-17 1989-10-16 Substrat mit einer aktiven Matrix.
EP89310569A EP0365244B1 (en) 1988-10-17 1989-10-16 An active matrix substrate

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JP1025469A JPH02204727A (ja) 1989-02-02 1989-02-02 アクティブマトリクス基板

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