JPH02199883A - ガスレーザ装置 - Google Patents

ガスレーザ装置

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JPH02199883A
JPH02199883A JP1771889A JP1771889A JPH02199883A JP H02199883 A JPH02199883 A JP H02199883A JP 1771889 A JP1771889 A JP 1771889A JP 1771889 A JP1771889 A JP 1771889A JP H02199883 A JPH02199883 A JP H02199883A
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裕司 竹中
Masaki Kuzumoto
昌樹 葛本
Masaaki Tanaka
正明 田中
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はガスレーザ装置の改良に関するものである。
[従来の技術] 第24図は従来のガスレーザ装置の(a)は正面断面図
、(b)は側面断面図、第25図はレーザ光の発生メカ
ニズムを示す断面図、第26図はその電極部分の拡大断
面図である。図中1a11bはアパーチャ、2は放電ギ
ャップ、3はレーザガス循環用ブロワ、4は熱交換器、
5は筐体、6はブッシング、7は例えばI M Hzの
交流電源、8は全反射鏡、9はZnSと等よりなる部分
反射鏡、10はレーザガスの循環方向を示す矢印、11
a。
11b111cはレーザ光、12a、12bは平板状電
極、13はレーザ光路、14a、14bは誘電体、15
a、15bは金属電極である。
図に示すように、平板状電極12a、12bはそれぞれ
上下1対の誘電体14a、14bと金属電極15a、1
5bとよりなり、電極間にブッシング6を介して交流電
源7により交流電圧を印加すると、放電ギャップ2にお
いて、誘電体によるキャパシティバラスト効果により、
アークに移ることなく極めて安定した放電を保持する無
声放電と称せられる放電が生成される。筐体5内には数
十Torr〜百数十T OrrのCO2、Co、N2、
Heからなるレーザガスが封入されており、無声放電に
よりレーザガス中のCO2分子が励起され、特定の振動
準位間に反転分布を生じる。この放電励起部の放電ギャ
ップ2を挾んで、全反射鏡8と適当な透過率を有する部
分反射鏡9とを対向して配置すると、部分反射鏡9から
レーザ光11aが取り出せるのである。
放電より発生する熱のために放電励起部のガス温度が高
くなると、上記反転分布の効率が悪くなる。この熱をレ
ーザガス流により運び去るために、ブロワ3により熱交
換器4を介してレーザガスを筐体5内で矢印10方向に
循環させている。この放電ギャップ2内におけるガス流
速は、通常数十畠/secである。
なおレーザ光11aのモード選択は、放電ギャップ2の
両端に対向して配置されたアパーチャ1a、lbによっ
て行われている。
[発明が解決し゛ようとする課題] ところで上記のように構成された従来のガスレーザ装置
においては、誘電体の比誘導率が10以上で大投入電力
可能なバイパルス放電の場合、レーザ光11aの外に第
11図に示すようにレーザ光11b、lieが発生する
ことが少なくない。
この原因を追及したところ、電極の表面形状が平板状で
あるため、その反射率が斜入射では実質的に大きくなり
、したがって平板状電極12a112bと全反射鏡8及
び部分反射鏡9との間でレーザ光路13に示すような一
種のリング型共振器が構成されることに起因する現象で
あることが確認された。このようなレーザ光11a、l
lb。
11cをレンズで絞り込んだ場合、絞りが不十分で高品
質なビームが得られず、レーザ加工などに使用するには
不適切である点が問題となっている。
本発明は従来装置の上記間通点を解消するためになされ
たもので、レーザ光11b、lieの発振を抑止し、放
電ギャップ2内で均一な放電を得ることにより、高品質
なビームを発生することの可能なガスレーザ装置を提供
しようとするものである。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するため、本発明に係るガスレーザ装置
においては、次のような手段を講じた。
(1)筐体内に対向して平行に配置した一対の平板状電
極の対向内面の各表面に、凹凸部または無反射コーティ
ング部を備え、あるいは電極の対向する内面に遮光防壁
を設ける。
(2)筐体内に対向して平行に配置された一対の平板状
電極を、全反射鏡または部分反射鏡のいずれかの側に偏
らせて配置する。
(3)上記一対の平板状電極を光軸方向またはガス循環
方向に傾け、あるいは誘電体電極の形状を加工して、一
対の誘電体電極間の放電ギャップの長さが電極の各位置
により変化するようにした。
[作用] 平板状電極の対向内面の各表面に、凹凸部や無反射コー
ティング部を備え、あるいは遮光防壁を設けることによ
り、平板状電極表面、全反射鏡及び部分反射鏡により構
成されるリング型共振器の発生が抑止される。
また平板状電極を、全反射鏡あるいは部分反射鏡のいず
れかの側へ偏らせて配置することにより、上記と同様リ
ング型共振器の発生が抑止される。
さらに電極を光軸方向またはガス循環方向に傾けあるい
は電極の形状を加工して、電極間の放電ギャップの長さ
を電極の各位置において変化させると、上記と同様に平
板状電極表面、全反射鏡及び部分反射鏡により構成され
るリング型共振器の発生が抑止される。
上記のようにリング型共振器の発生が抑止される結果、
サブビームの発生は押さえられ、高品質のビームが得ら
れることとなる。
[発明の実施例] 第1図は本発明の一実施例を示す(a)は正面断面図、
(b)は側面断面図、第2図はレーザ光発生のメカニズ
ムを示す断面図で、図中1〜12a1bは従来装置と同
一または相当部品、20は平板状電極の表面に形成され
た凹凸部である。このように構成されたガスレーザ装置
においては、動作は従来装置と同一であるが、従来装置
にあっては反射するはずのレーザ光11b及びllcは
、平板状電極12a、12b表面の凹凸部20により散
乱され、従来装置では平板状電極表面、全反射鏡及び部
分反射鏡により構成されていたリング型共振器が構成さ
れないこととなる。したがって本実施例のガスレーザ装
置から取り出されるのはレーザ光11aのみとなり、高
品質のビームを得ることができる。
なお本実施例において、誘電体のキャパシティブ・バラ
スト効果により電極表面凹凸部20の放電安定性に与え
る影響は小さく、安定な放電が得られることが確認され
た。
またガスレーザ励起用に一般に用いられる金属電極によ
るDCグロー放電の場合、電極表面に凹凸部を形成する
ことにより、エツジ部を起点にアーク放電(レーザ励起
に向かわない電子エネルギの高い放電)に移行すること
が明らかとなった。
したがって電極表面に凹凸部20を形成してリング型発
振を抑止できるのは、電極が誘電体である場合のみ得ら
れる効果である。
なお本実施例においては、凹凸部20の形状は三角形状
であるが、方形状、円形状であっても同様な効果が得ら
れる。要するにレーザ光が′wi極表面で散乱すればよ
い。
第3図は本発明の他の実施例である電極表面に無反射コ
ーティングを施したガスレーザ装置の正面断面図で、2
1はその無反射コーティング部である。電極表面に上記
凹凸部を形成する代わりに、無反射コーティング21を
施しても上記実施例と同様な効果が得られる。なお無反
射コーティング21は、第3図に示すように電極表面全
面に施してもよく、第4図に示すように電極表面中央部
の一部であってもよい。
また第5図は本発明の他の実施例である電極の各対向内
面に1対の遮光防壁22を設けたガスレーザ装置の正面
断面図である。遮光防IU22は第5図に示すように中
央部1か所でもよく、第6図のように等間隔に複数対設
けてもよい。上記実施例と同様な効果を示すものである
第7図(a) (b)は本発明のさらに他の実施例を示
す断面図で、上記平板状電極12 a s bを全反射
鏡8の側へ偏らせて配置したものである。ガスレーザ装
置を上記のように構成することにより、第8図にみるよ
うにレーザ光11b、llcはガスレーザ装置から取り
出せないこととなる。
なお平板状電極12a、bは複数対配置してもよく、例
えば第9図は2対の平板状電極12a1b及び12c、
dを使用した例を示している。
またレーザ光の光軸を折り曲げて利用してもよく、例え
ば第10図にみるように2回折り曲げても、第11図に
示すように水平方向に折り曲げてもよい。
さらに第12図は、本発明の他の実施例であるガスレー
ザ装置の(a)は正面断面図、(b)は側面断面図で、
図に示すように平板状電極12 a Sbのうち上部の
電極12aを光軸方向に傾けて配置したものである。第
13図に示すようにガス循環方向に傾けてもよく、下部
の電極12bを傾けても、あるいは両方の電極を傾けて
もよい。
また第14図はさらに他の実施例であるガスレーザ装置
の構成図、第15図は同断面図で、23M、23bは特
殊形状に加工された誘電体電極である。図にみるように
、誘電体電極15a、bのうち上部電極15aの形状を
ガス流方向にテーバをつけたものである。
上記のように電極を傾けあるいはテーパをつけて加工形
成した結果、電極ギャップの長さが光軸方向またはガス
循環方向で異なることになる。この結果誘電体電極で反
射されるレーザ光路が第16図の矢印24に示す方向を
とるため、従来装置にあっては平板状電極表面、全反射
鏡8及び部分反射鏡9により構成されるリング型共振器
が、本実施例にあっては構成されないことになる。した
がってレーザ光11b、llcの発生が防止され、レー
ザ光11aのみが取り出されるので、高品質のビームが
得られることとなる。
なお上記電極を加工する場合、上部誘電体電極23gに
テーバを形成しているが、下部誘電体電極23bに加工
してもよく、第17図にみるように上下の電極に加工し
てもよい。また加工形状もテーバに限るものでなく、第
18図にみるように任意の曲率を有する形状でもよく、
それも上下いずれでも第19図に示すように両方でもよ
い。
さらにガス流方向へ電極ギャップの長さを異ならしめる
だけでなく、第20図(a) (b)あるいは第21図
(a) (b)に示すように、電極24 a %bを光
軸方向に加工し、電極ギャップの長さを光軸方向に異な
らしめてもよい。要はR電体電極表面、全反射鏡及び部
分反射鏡によりリング型共振器を構成させないため、電
極間の放電ギャップの長さを変化させるように誘電体電
極を加工形成すればよい。
以上リング型共振器の発生を防止するための手段を、励
起媒質にCO2混合レーザガスを用いるガスレーザ装置
について述べた。しかし本発明の対象はCO2ガスレー
ザ装置に限定するものでなく、Coレーザ、エキシマレ
ーザ、N2レーザあるいはArレーザなどのガス媒質に
ついても同様の効果が得られる。要するに励起媒質を放
電励起するガスレーザ装置に対しては同じ効果を奏する
のである。
また上記の実施例においては、共振器として安定型共振
器を用いて説明したが、安定型共振器に限定するもので
なく不安定型共振器を用いてもよい。
さらに本実施例は3軸直交型ガスレーザ装置に用いた例
であるが、例えば第22図、第23図に示す2軸直交型
ガスレーザ装置に用いても、同様な効果を示すものであ
る。なお図中30は電極、40aSbは防壁である。
[発明の効果] 本発明はガスレーザ装置において、 (1)筐体内に対向して平行に配置した一対の平板状電
極の対向内面の各表面に、凹凸部または無反射コーティ
ング部を備え、あるいは電極の対向する内面に遮光防壁
を設ける。
(2)上記一対の平板状電極を、全反射鏡または部分反
射鏡のいずれかの側に偏らせて配置する。
(3)上記一対の平板状電極を、光軸方向またはガス循
環方向に傾けるあるいは誘電体電極の形状を加工するな
どの方法を講じて、誘電体電極間の放電ギャップの長さ
を変化させる。
などの措置を行ったので、誘電体よりなる平板状電極表
面と全反射鏡及び部分反射鏡より構成されるリング型共
振器の発生を防止できることとなり、その結果高品質の
ビームが得られるという優れた効果を挙げることとなっ
た。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例であるガスレーザ装置の(a
)は正面断面図、(b)は側面断面図、第2図はレーザ
光発生のメカニズムを示す断面図、第3図、第4図は電
極内面に無反射コーティング部を備えた他の実施例の断
面図、第5図、第6図は電極内面に遮光防壁を設けた他
の実施例の断面図、第7図は平板状電極を全反射鏡の側
へ偏らせて配置した他の実施例の(a)は正面断面図、
(b)は側面断面図、第8図は該実施例におけるレーザ
先発・生のメカニズムを示す断面図、第9図は2組の電
極を備えた他の°実施例の正面断面図、第10図、ml
1図は光軸を折り曲げた他の実施例の断面図、第12図
は電極を長手方向に傾けた他の実施例の(a)は正面断
面図、(kl)は側面断面図、第13図は電極を横方向
に傾けた他の実施例の(a)は正面断面図、(b)は側
面断面図、第14図は電極間の放電ギャップの長さを変
化させるため誘電体電極を加工形成した他の実施例の構
成図、第15図は該実施例の側面断面図、第16図は該
実施例のレーザ光の反射方向を示す説明図、第17図、
第18図、第19図、第20図(a) (b)、第21
図(a)(b)は上記誘電体電極を加工形成した他の実
施例の構成図及び断面図、第22図、第23図は2軸直
交型ガスレーザ装置の(a)は正面断面図、(b)は側
面断面図、第24図は従来のガスレーザ装置の(a)は
正面断面図、(b)は側面断面図、第25図はレーザ光
発生のメカニズムを示す断面図、第26図は電極部分の
拡大図である。 図中2は放電ギャップ、7は交流電源、8は全反射鏡、
9は部分反射鏡、lla、b、cはレーザ光、12a、
bは電極、20は凹凸部、21は無反射コーティング部
、22は遮光防壁、23a。 bは誘電体、24 a s bは電極間の放電ギャップ
の長さを変化させるため加工形成された誘電体電極、2
5はレーザ光の反射方向を示す矢印である。 なお図中の同一符号は同一または相当部品を示すものと
する。 代理人  弁理士  佐々木宗治 第7図 (bl 第12図 (bl 第14図 房娼渇1 第13図 (b) 第16図 第17図 第20図 (b) 第21図 to) 第22図 (a) (b) ¥23図 1a) Tb)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)対向して平行に配置された1対の平板状電極と、
    放電ギャップを挾んで対向して配置された全反射鏡及び
    部分反射鏡と、ガス循環手段とを備えてなるガスレーザ
    装置において、 上記1対の平板状電極の対向内面の各表面に凹凸部、無
    反射コーティング部あるいは遮光防壁を備えた ことを特徴とするガスレーザ装置。
  2. (2)対向して平行に配置された1対の平板状電極と、
    放電ギャップを挾んで対向して配置された全反射鏡及び
    部分反射鏡と、ガス循環手段とを備えてなるガスレーザ
    装置において、 上記1対の平板状電極を、全反射鏡または部分反射鏡の
    いずれかの側に偏らせて配置した ことを特徴とするガスレーザ装置。
  3. (3)対向して平行に配置された1対の平板状電極と、
    放電ギャップを挾んで対向して配置された全反射鏡及び
    部分反射鏡と、ガス循環手段とを備えてなるガスレーザ
    装置において、 上記1対の平板状電極間の放電ギャップの長さが電極表
    面の各位置により変化するように、上記平板状電極が形
    成されている ことを特徴とするガスレーザ装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5067400A (en) * 1990-01-25 1991-11-26 Bezella Gary L Screen printing with an abrasive ink
JPH0883945A (ja) * 1994-09-12 1996-03-26 Toshiba Corp エキシマレーザ発振装置
JP2012094750A (ja) * 2010-10-28 2012-05-17 Mitsubishi Electric Corp ガスレーザ発振器およびガスレーザ発振器の放電電極位置調整方法

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59145052U (ja) * 1983-03-18 1984-09-28 日本電気株式会社 擬似chang型レ−ザ電極
JPS60111485A (ja) * 1983-11-22 1985-06-17 Mitsubishi Electric Corp ガスレ−ザ発振器
JPS60121786A (ja) * 1983-12-05 1985-06-29 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ装置
JPS61107778A (ja) * 1984-10-31 1986-05-26 Toshiba Corp 横励起形ガスレ−ザ発振装置
JPS61137380A (ja) * 1984-12-10 1986-06-25 Toshiba Corp 横励起形ガスレ−ザ発振装置
JPS61218187A (ja) * 1985-03-25 1986-09-27 Hitachi Ltd ガスレ−ザ装置
JPS629686A (ja) * 1985-07-01 1987-01-17 シ−メンス、アクチエンゲゼルシヤフト ガスレ−ザ−装置
JPS62219980A (ja) * 1986-03-20 1987-09-28 Amada Co Ltd ガス放電装置用放電電極
JPS6356973A (ja) * 1986-08-27 1988-03-11 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ励起装置
JPS63229769A (ja) * 1987-03-19 1988-09-26 Toshiba Corp 高繰返しパルスレ−ザ発振装置

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59145052U (ja) * 1983-03-18 1984-09-28 日本電気株式会社 擬似chang型レ−ザ電極
JPS60111485A (ja) * 1983-11-22 1985-06-17 Mitsubishi Electric Corp ガスレ−ザ発振器
JPS60121786A (ja) * 1983-12-05 1985-06-29 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ装置
JPS61107778A (ja) * 1984-10-31 1986-05-26 Toshiba Corp 横励起形ガスレ−ザ発振装置
JPS61137380A (ja) * 1984-12-10 1986-06-25 Toshiba Corp 横励起形ガスレ−ザ発振装置
JPS61218187A (ja) * 1985-03-25 1986-09-27 Hitachi Ltd ガスレ−ザ装置
JPS629686A (ja) * 1985-07-01 1987-01-17 シ−メンス、アクチエンゲゼルシヤフト ガスレ−ザ−装置
JPS62219980A (ja) * 1986-03-20 1987-09-28 Amada Co Ltd ガス放電装置用放電電極
JPS6356973A (ja) * 1986-08-27 1988-03-11 Mitsubishi Electric Corp レ−ザ励起装置
JPS63229769A (ja) * 1987-03-19 1988-09-26 Toshiba Corp 高繰返しパルスレ−ザ発振装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5067400A (en) * 1990-01-25 1991-11-26 Bezella Gary L Screen printing with an abrasive ink
JPH0883945A (ja) * 1994-09-12 1996-03-26 Toshiba Corp エキシマレーザ発振装置
JP2012094750A (ja) * 2010-10-28 2012-05-17 Mitsubishi Electric Corp ガスレーザ発振器およびガスレーザ発振器の放電電極位置調整方法

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