JPH04245685A - ガスレ−ザ装置 - Google Patents
ガスレ−ザ装置Info
- Publication number
- JPH04245685A JPH04245685A JP3162591A JP3162591A JPH04245685A JP H04245685 A JPH04245685 A JP H04245685A JP 3162591 A JP3162591 A JP 3162591A JP 3162591 A JP3162591 A JP 3162591A JP H04245685 A JPH04245685 A JP H04245685A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rectangular cross
- section
- window
- airtight container
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 12
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は気密容器内に封入され
たガスレ−ザ媒質を光励起してレ−ザ光を出力するガス
レ−ザ装置に関する。
たガスレ−ザ媒質を光励起してレ−ザ光を出力するガス
レ−ザ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】たとえばエキシマレ−ザなどのガスレ−
ザ装置においては、ガスレ−ザ媒質が封入された気密容
器を有する。この気密容器の内部には一対の主電極が離
間対向して配置されている。これら主電極は電源に接続
され、この電源から電気エネルギが供給されることで主
放電を発生するようになっている。
ザ装置においては、ガスレ−ザ媒質が封入された気密容
器を有する。この気密容器の内部には一対の主電極が離
間対向して配置されている。これら主電極は電源に接続
され、この電源から電気エネルギが供給されることで主
放電を発生するようになっている。
【0003】主電極間に主放電が発生すると、その主放
電によって上記ガスレ−ザ媒質が光励起される。それに
よって、断面が上記主放電の方向に沿って細長い矩形状
のレ−ザ光が発生する。
電によって上記ガスレ−ザ媒質が光励起される。それに
よって、断面が上記主放電の方向に沿って細長い矩形状
のレ−ザ光が発生する。
【0004】上記気密容器のレ−ザ光の光軸方向に沿う
両端にはウインドが形成されている。一方のウインドに
は高反射鏡が対向して配置され、他方のウインドには上
記高反射鏡とで光共振器を形成する出力鏡が対向して配
置されている。したがって、上記気密容器内で発生した
レ−ザ光は上記ウインドを透過し、高反射鏡と出力鏡と
で反射を繰り返して増幅されるとともに、その一部が上
記出力鏡から出力されるようになっている。
両端にはウインドが形成されている。一方のウインドに
は高反射鏡が対向して配置され、他方のウインドには上
記高反射鏡とで光共振器を形成する出力鏡が対向して配
置されている。したがって、上記気密容器内で発生した
レ−ザ光は上記ウインドを透過し、高反射鏡と出力鏡と
で反射を繰り返して増幅されるとともに、その一部が上
記出力鏡から出力されるようになっている。
【0005】一方、上記一対のウインドは、これらウイ
ンドによるサテライトパルスの発生を防止するため、図
6に示すように所定の角度で傾斜して設けられている。 すなわち、同図中1は気密容器であり、この気密容器1
内には図7に示すように一対の主電極2が離間対向して
配置されている。上記気密容器1の両端には窓枠3(一
方のみ図示)が設けられている。この窓枠3にはパッキ
ン4を介してウインド5の一側面が接合されている。こ
のウインド5の他側面にはホルダ6が接合固定され、こ
のホルダ6によって上記ウインド5が固定されている。
ンドによるサテライトパルスの発生を防止するため、図
6に示すように所定の角度で傾斜して設けられている。 すなわち、同図中1は気密容器であり、この気密容器1
内には図7に示すように一対の主電極2が離間対向して
配置されている。上記気密容器1の両端には窓枠3(一
方のみ図示)が設けられている。この窓枠3にはパッキ
ン4を介してウインド5の一側面が接合されている。こ
のウインド5の他側面にはホルダ6が接合固定され、こ
のホルダ6によって上記ウインド5が固定されている。
【0006】上記窓枠3の上記ウインド5が接合される
面は、図6に示すように主電極2の幅W方向に対して角
度θ、つまり一対の主電極2間で発生するレ−ザ光Lの
矩形断面の短手方向に対して角度θ(約5度)で傾斜し
ている。したがって、ウインド5も同方向に角度θで傾
斜している。
面は、図6に示すように主電極2の幅W方向に対して角
度θ、つまり一対の主電極2間で発生するレ−ザ光Lの
矩形断面の短手方向に対して角度θ(約5度)で傾斜し
ている。したがって、ウインド5も同方向に角度θで傾
斜している。
【0007】気密容器1内においては、一対の主電極2
間の主放電による熱影響やハロゲンガスの補充などによ
って圧力が変動することが避けられない。気密容器1内
の圧力が変動すれば、屈折率も変化し、上記ウインド5
から出射されるレ−ザ光Lの光路が変化することになる
。
間の主放電による熱影響やハロゲンガスの補充などによ
って圧力が変動することが避けられない。気密容器1内
の圧力が変動すれば、屈折率も変化し、上記ウインド5
から出射されるレ−ザ光Lの光路が変化することになる
。
【0008】ところで、ウインド5を上述したようにレ
−ザ光Lの矩形断面の短手方向に対して傾斜させて設け
ると、高反射鏡と出力鏡との間で反射するレ−ザ光Lは
屈折率が変動する前と、変動した後では、その矩形断面
Q1 とQ2 が図5の(b)に示すように、レ−ザ光
Lの矩形断面の短手方向にずれてしまう。レ−ザ光Lが
その矩形断面の短手方向にずれると、屈折率が変動する
前と後での矩形断面Q1 とQ2 のずれが大きくなる
(互いに重なり合う面積比が小さくなる)から、出力パ
ワ−の大幅な低下を招くことになる。
−ザ光Lの矩形断面の短手方向に対して傾斜させて設け
ると、高反射鏡と出力鏡との間で反射するレ−ザ光Lは
屈折率が変動する前と、変動した後では、その矩形断面
Q1 とQ2 が図5の(b)に示すように、レ−ザ光
Lの矩形断面の短手方向にずれてしまう。レ−ザ光Lが
その矩形断面の短手方向にずれると、屈折率が変動する
前と後での矩形断面Q1 とQ2 のずれが大きくなる
(互いに重なり合う面積比が小さくなる)から、出力パ
ワ−の大幅な低下を招くことになる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のガ
スレ−ザ装置は、気密容器の両端のウインドがレ−ザ光
の矩形断面の短手方向に対して傾斜して設けられていた
ので、気密容器内の屈折率が変動したときの出力パワ−
の低下が著しいということがあった。
スレ−ザ装置は、気密容器の両端のウインドがレ−ザ光
の矩形断面の短手方向に対して傾斜して設けられていた
ので、気密容器内の屈折率が変動したときの出力パワ−
の低下が著しいということがあった。
【0010】この発明は上記事情にもとずきなされたも
ので、その目的とするところは、気密容器内の屈折率が
変動しても、レ−ザ光の出力パワ−が大きく低下するこ
とがないようにしたガスレ−ザ装置を提供することにあ
る。
ので、その目的とするところは、気密容器内の屈折率が
変動しても、レ−ザ光の出力パワ−が大きく低下するこ
とがないようにしたガスレ−ザ装置を提供することにあ
る。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
にこの発明は、内部にガスレ−ザ媒質が封入された気密
容器と、この気密容器内に上記ガスレ−ザ媒質を励起し
横断面がほぼ矩形状になるレ−ザ光を発生可能に配設さ
れた一対の主電極と、これら主電極に電気エネルギを供
給して主放電を発生させる電源供給手段と、上記気密容
器の上記レ−ザ光の光軸方向に沿う両端にこのレ−ザ光
の矩形断面の長手方向に対して透光面における主放電方
向側を所定の角度で傾斜して設けられた一対のウインド
と、これらウインドにそれぞれ対向して配置された光共
振器を形成する一対の反射鏡とを具備したことを特徴と
する。
にこの発明は、内部にガスレ−ザ媒質が封入された気密
容器と、この気密容器内に上記ガスレ−ザ媒質を励起し
横断面がほぼ矩形状になるレ−ザ光を発生可能に配設さ
れた一対の主電極と、これら主電極に電気エネルギを供
給して主放電を発生させる電源供給手段と、上記気密容
器の上記レ−ザ光の光軸方向に沿う両端にこのレ−ザ光
の矩形断面の長手方向に対して透光面における主放電方
向側を所定の角度で傾斜して設けられた一対のウインド
と、これらウインドにそれぞれ対向して配置された光共
振器を形成する一対の反射鏡とを具備したことを特徴と
する。
【0012】
【作用】上記の構成によれば、気密容器内の屈折率が変
動すると、レ−ザ光は矩形断面の長手方向に沿ってずれ
るから、ずれる前とずれた後でのレ−ザ光の矩形断面の
互いに重なり合う面積比を大きくでき、出力パワ−の低
下が少なくなる。
動すると、レ−ザ光は矩形断面の長手方向に沿ってずれ
るから、ずれる前とずれた後でのレ−ザ光の矩形断面の
互いに重なり合う面積比を大きくでき、出力パワ−の低
下が少なくなる。
【0013】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図1乃至図3を
参照して説明する。
参照して説明する。
【0014】図2はガスレ−ザ装置としてのたとえばK
rFエキシマレ−ザを示し、このエキシマレ−ザは内部
にガスレ−ザ媒質が封入された気密容器11を備えてい
る。この気密容器11内には一対の主電極12が上下方
向に離間対向して配置されている。これら主電極12は
図1に示すように電源13に接続され、この電源13か
ら電気エネルギが供給されるようになっている。
rFエキシマレ−ザを示し、このエキシマレ−ザは内部
にガスレ−ザ媒質が封入された気密容器11を備えてい
る。この気密容器11内には一対の主電極12が上下方
向に離間対向して配置されている。これら主電極12は
図1に示すように電源13に接続され、この電源13か
ら電気エネルギが供給されるようになっている。
【0015】一対の主電極12に電気エネルギが供給さ
れると、これらの間に主放電が発生し、その主放電でガ
スレ−ザ媒質が光励起される。それによって気密容器1
1内には、図3に示すように一対の主電極12の離間方
向に対して細長い断面矩形状のレ−ザ光Lが発生する。
れると、これらの間に主放電が発生し、その主放電でガ
スレ−ザ媒質が光励起される。それによって気密容器1
1内には、図3に示すように一対の主電極12の離間方
向に対して細長い断面矩形状のレ−ザ光Lが発生する。
【0016】上記レ−ザ光Lの光軸方向に沿う気密容器
11の軸方向両端面にはそれぞれ窓枠14が設けられて
いる。各窓枠14には透明な板材からなるウインド15
の一側面がリング状のパッキン16を介して接合されて
いる。このウインド15はその他側面に接合された枠状
のホルダ17によって保持固定されている。
11の軸方向両端面にはそれぞれ窓枠14が設けられて
いる。各窓枠14には透明な板材からなるウインド15
の一側面がリング状のパッキン16を介して接合されて
いる。このウインド15はその他側面に接合された枠状
のホルダ17によって保持固定されている。
【0017】上記一対のウインド15は図1から明らか
なように八の字状をなすようレ−ザ光Lの光軸と直交す
る方向に対して対称に傾斜して設けられている。すなわ
ち、ウインド15が接合される窓枠14の端面は一対の
主電極12の離間方向であるレ−ザ光Lの矩形断面の長
手方向に対して所定の角度、たとえば5〜10度で傾斜
して形成されている。それによって、上記窓枠14に保
持固定されるウインド15も同方向に傾斜している。
なように八の字状をなすようレ−ザ光Lの光軸と直交す
る方向に対して対称に傾斜して設けられている。すなわ
ち、ウインド15が接合される窓枠14の端面は一対の
主電極12の離間方向であるレ−ザ光Lの矩形断面の長
手方向に対して所定の角度、たとえば5〜10度で傾斜
して形成されている。それによって、上記窓枠14に保
持固定されるウインド15も同方向に傾斜している。
【0018】このように形成された一対のウインド15
の一方には図2に示すように第1の高反射鏡18が対向
して配置され、他方のウインド15にはプリズム19が
対向して配置されている。このプリズム19は上記他方
のウインド15から出射するレ−ザ光Lの一部が入射す
るように配置されている。このプリズム19に入射した
レ−ザ光Lは断面積が拡大されて複数のエタロン21で
狭帯域化される。狭帯域化されたレ−ザ光Lは、上記第
1の高反射鏡18とで光共振器を形成する第2の高反射
鏡22で反射して上記気密容器11に戻って増幅される
。したがって、上記他方のウインド15から出射するレ
−ザ光Lのうち、狭帯域化され、かつ増幅されたレ−ザ
光Lの一部が上記プリズム19に入射せずに出力として
取出される。
の一方には図2に示すように第1の高反射鏡18が対向
して配置され、他方のウインド15にはプリズム19が
対向して配置されている。このプリズム19は上記他方
のウインド15から出射するレ−ザ光Lの一部が入射す
るように配置されている。このプリズム19に入射した
レ−ザ光Lは断面積が拡大されて複数のエタロン21で
狭帯域化される。狭帯域化されたレ−ザ光Lは、上記第
1の高反射鏡18とで光共振器を形成する第2の高反射
鏡22で反射して上記気密容器11に戻って増幅される
。したがって、上記他方のウインド15から出射するレ
−ザ光Lのうち、狭帯域化され、かつ増幅されたレ−ザ
光Lの一部が上記プリズム19に入射せずに出力として
取出される。
【0019】また、上記気密容器11にはガスレ−ザ媒
質を供給排出するためのガス給排気部23が接続されて
いる。このガス給排気部23と上記電源13とは制御装
置24によって駆動制御される。たとえば、レ−ザ光L
の出力が低下してくると、制御装置24によって電源1
3が制御され、主電極12に供給される電気エネルギが
増大される。
質を供給排出するためのガス給排気部23が接続されて
いる。このガス給排気部23と上記電源13とは制御装
置24によって駆動制御される。たとえば、レ−ザ光L
の出力が低下してくると、制御装置24によって電源1
3が制御され、主電極12に供給される電気エネルギが
増大される。
【0020】主電極12に供給される電気エネルギを増
大させても、レ−ザ光Lの出力が増大しないときには、
ガス給排気部23が制御されてガスレ−ザ媒質を形成す
る弗素ガスが供給されるようになっている。
大させても、レ−ザ光Lの出力が増大しないときには、
ガス給排気部23が制御されてガスレ−ザ媒質を形成す
る弗素ガスが供給されるようになっている。
【0021】上記構成のエキシマレ−ザにおいて、たと
えばレ−ザ光Lの出力が低下し、制御装置24からの指
令にもとづいて給排気部23から気密容器11内へ弗素
ガスが供給されると、この気密容器11内の圧力が上昇
する。気密容器11内の圧力が上昇すれば、屈折率も変
動するから、その屈折率の変動に応じてウインド15か
ら出射するレ−ザ光Lの方向が変化する。
えばレ−ザ光Lの出力が低下し、制御装置24からの指
令にもとづいて給排気部23から気密容器11内へ弗素
ガスが供給されると、この気密容器11内の圧力が上昇
する。気密容器11内の圧力が上昇すれば、屈折率も変
動するから、その屈折率の変動に応じてウインド15か
ら出射するレ−ザ光Lの方向が変化する。
【0022】上記ウインド15はレ−ザ光Lの矩形断面
の長手方向に対して所定の角度で傾斜している。そのた
め、気密容器11内の屈折率が変動した後のレ−ザ光L
の矩形断面S2 は、図5の(a)に示すように変動す
る前の矩形断面S1 の上記ウインド15の傾斜方向で
ある長手方向に沿ってずれる。長手方向に沿ってずれた
場合、短手方向に沿ってずれた場合に比べて矩形断面S
1 に対する矩形断面S2 の面積比におけるずれ量が
少なくなる。
の長手方向に対して所定の角度で傾斜している。そのた
め、気密容器11内の屈折率が変動した後のレ−ザ光L
の矩形断面S2 は、図5の(a)に示すように変動す
る前の矩形断面S1 の上記ウインド15の傾斜方向で
ある長手方向に沿ってずれる。長手方向に沿ってずれた
場合、短手方向に沿ってずれた場合に比べて矩形断面S
1 に対する矩形断面S2 の面積比におけるずれ量が
少なくなる。
【0023】たとえば、矩形断面S1 、S2 の長辺
を20mm、短辺を10mmとし、矩形断面S2 が矩
形断面S1 に対して5mmずれた場合を考えると、従
来のように短手方向にずれた場合には、矩形断面S1
とS2 との重合する面積の割合は50%となってしま
う。
を20mm、短辺を10mmとし、矩形断面S2 が矩
形断面S1 に対して5mmずれた場合を考えると、従
来のように短手方向にずれた場合には、矩形断面S1
とS2 との重合する面積の割合は50%となってしま
う。
【0024】それに対して矩形断面S2 が矩形断面S
1 の長手方向に5mmずれた場合には、矩形断面S1
とS2 との重合する面積の割合は75%と多い。し
たがって、矩形断面S2 を矩形断面S1 の長手方向
にずらすようにした方がレ−ザ光Lの出力低下が少なく
なるばかりか、光共振器を形成する一対の高反射鏡18
、22に対するずれも少ないから、出力されるレ−ザ光
Lのスペクトル幅の広がりも少なくなる。
1 の長手方向に5mmずれた場合には、矩形断面S1
とS2 との重合する面積の割合は75%と多い。し
たがって、矩形断面S2 を矩形断面S1 の長手方向
にずらすようにした方がレ−ザ光Lの出力低下が少なく
なるばかりか、光共振器を形成する一対の高反射鏡18
、22に対するずれも少ないから、出力されるレ−ザ光
Lのスペクトル幅の広がりも少なくなる。
【0025】図4はこの発明の他の実施例を示す。この
実施例は一対のウインド15a、15aが平行になるよ
う同方向に傾斜させられている。このような構成による
と、気密容器11内の屈折率が変動した場合、ウインド
15aから出射されるレ−ザ光Lは、屈折率が変動する
前のレ−ザ光Lに対して平行方向にずれ、角度が変化す
ることがない。つまり、光軸のずれがほとんどないから
、スペクトル幅が広がることもほとんどない。
実施例は一対のウインド15a、15aが平行になるよ
う同方向に傾斜させられている。このような構成による
と、気密容器11内の屈折率が変動した場合、ウインド
15aから出射されるレ−ザ光Lは、屈折率が変動する
前のレ−ザ光Lに対して平行方向にずれ、角度が変化す
ることがない。つまり、光軸のずれがほとんどないから
、スペクトル幅が広がることもほとんどない。
【0026】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明は、ウインド
をレ−ザ光の矩形断面の長手方向に対して所定の角度で
傾斜させて設け、気密容器内の屈折率が変動したときに
、レ−ザ光がその矩形断面の長手方向にずれるようにし
た。
をレ−ザ光の矩形断面の長手方向に対して所定の角度で
傾斜させて設け、気密容器内の屈折率が変動したときに
、レ−ザ光がその矩形断面の長手方向にずれるようにし
た。
【0027】したがって、気密容器内の屈折率が変動し
たときに、レ−ザ光がその矩形断面の短手方向にずれる
従来に場合に比べ、出力の低下が少なくてすむ。
たときに、レ−ザ光がその矩形断面の短手方向にずれる
従来に場合に比べ、出力の低下が少なくてすむ。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例を示す気密容器の側面図。
【図2】同じくエキシマレ−ザの全体的構成図。
【図3】同じく図1のA−A線方向から見た端面図。
【図4】この発明の他の実施例を示す気密容器の側面図
。
。
【図5】(a)と(b)はこの発明と従来の気密容器内
の屈折率が変動する前と後とのレ−ザ光の矩形断面のず
れの説明図。
の屈折率が変動する前と後とのレ−ザ光の矩形断面のず
れの説明図。
【図6】従来のガスレ−ザ装置のウインド部分の側面図
。
。
【図7】同じく図6のB−B線方向から見た側面図。
11…気密容器、12…主電極、13…電源、15…ウ
インド、18…第1の高反射鏡、22…第2の高反射鏡
。
インド、18…第1の高反射鏡、22…第2の高反射鏡
。
Claims (1)
- 【請求項1】 内部にガスレ−ザ媒質が封入された気
密容器と、この気密容器内に上記ガスレ−ザ媒質を励起
し横断面がほぼ矩形状になるレ−ザ光を発生可能に配設
された一対の主電極と、これら主電極に電気エネルギを
供給して主放電を発生させる電源供給手段と、上記気密
容器の上記レ−ザ光の光軸方向に沿う両端にこのレ−ザ
光の矩形断面の長手方向に対して透光面における主放電
方向側を所定の角度で傾斜して設けられた一対のウイン
ドと、これらウインドにそれぞれ対向して配置された光
共振器を形成する一対の反射鏡とを具備したことを特徴
とするガスレ−ザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3162591A JPH04245685A (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | ガスレ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3162591A JPH04245685A (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | ガスレ−ザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04245685A true JPH04245685A (ja) | 1992-09-02 |
Family
ID=12336399
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3162591A Pending JPH04245685A (ja) | 1991-01-31 | 1991-01-31 | ガスレ−ザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04245685A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07254739A (ja) * | 1994-03-16 | 1995-10-03 | Nec Corp | ガスレーザ装置 |
-
1991
- 1991-01-31 JP JP3162591A patent/JPH04245685A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07254739A (ja) * | 1994-03-16 | 1995-10-03 | Nec Corp | ガスレーザ装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5065405A (en) | Sealed-off, RF-excited gas lasers and method for their manufacture | |
KR100195769B1 (ko) | 고체 레이저 장치 | |
EP0390525B1 (en) | An optical pumping-type solid-state laser apparatus with a semiconductor laser device | |
JPS6016479A (ja) | 単一周波数発振レ−ザ装置 | |
US3568088A (en) | Laser with improved power and frequency stability | |
US6798816B2 (en) | Folded tapered-waveguide CO2 laser | |
JPH04245685A (ja) | ガスレ−ザ装置 | |
KR100451116B1 (ko) | 파장가변레이저에서의파장선택가능레이저오실레이터 | |
US5059028A (en) | Ring laser gyroscope having means for maintaining the beam intensity | |
US6289029B1 (en) | Solid state laser | |
US5267254A (en) | Color center laser with transverse auxiliary illumination | |
JPH0212980A (ja) | 狭帯域レーザ発振装置 | |
JPH03173486A (ja) | 狭帯域化レーザ装置 | |
JPH02199883A (ja) | ガスレーザ装置 | |
JPH03126276A (ja) | レーザ発振装置 | |
JP3768321B2 (ja) | ガスレーザ装置用レーザチャンバ | |
JP2965946B2 (ja) | 炭酸ガスレ−ザ装置 | |
JPH05102559A (ja) | 狭帯域レ−ザ装置 | |
EP0282113B1 (en) | Laser device | |
JPH09307158A (ja) | ガスレ−ザ発振装置 | |
JP2776412B2 (ja) | 狭帯域化ArFエキシマレーザ装置 | |
JPH05136513A (ja) | 半導体レーザーの光出力安定化装置 | |
JPS63228782A (ja) | レ−ザ装置 | |
JP2009071203A (ja) | 導波管レーザ発振装置 | |
JPH03190178A (ja) | ガスレーザ発振装置 |