JPH02192045A - 光ディスク基板の製造方法 - Google Patents
光ディスク基板の製造方法Info
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- JPH02192045A JPH02192045A JP995489A JP995489A JPH02192045A JP H02192045 A JPH02192045 A JP H02192045A JP 995489 A JP995489 A JP 995489A JP 995489 A JP995489 A JP 995489A JP H02192045 A JPH02192045 A JP H02192045A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 31
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 43
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 43
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims description 11
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 abstract description 7
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000003362 replicative effect Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29L—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
- B29L2017/00—Carriers for sound or information
- B29L2017/001—Carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records
- B29L2017/003—Records or discs
- B29L2017/005—CD''s, DVD''s
Landscapes
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
光によって記録と再生をする光ディスク基板の複製方法
に関し、 表面の凹凸が少なく、高速回転で使用できる光ディスク
基板の製造方法を提供することを目的とし、 光硬化樹脂によって支持板上に転写型の微細形状を写し
とる光ディスク基板の製造方法において、前記支持板を
等方的に圧力がかかる加圧部材によって加圧し、光硬化
樹脂を支持板と転写型の間に広げ、圧力を保持したまま
光を照射して前記光硬化樹脂を硬化させ樹脂層を形成す
ることを特徴とする光ディスク基板の製造方法を含み構
成する。
に関し、 表面の凹凸が少なく、高速回転で使用できる光ディスク
基板の製造方法を提供することを目的とし、 光硬化樹脂によって支持板上に転写型の微細形状を写し
とる光ディスク基板の製造方法において、前記支持板を
等方的に圧力がかかる加圧部材によって加圧し、光硬化
樹脂を支持板と転写型の間に広げ、圧力を保持したまま
光を照射して前記光硬化樹脂を硬化させ樹脂層を形成す
ることを特徴とする光ディスク基板の製造方法を含み構
成する。
本発明は、光によって記録と再生をする光ディスク基板
の複製方法に関する。
の複製方法に関する。
近年、光によって情報の記録・再生をする記憶媒体とし
て大容量の記録密度を持つ光ディスク基板が使用されて
いる。
て大容量の記録密度を持つ光ディスク基板が使用されて
いる。
第６図（ａ）〜（ｂ）は従来の光ディスク基板の複製法
を示す断面図である。同図において、１は凹凸パターン
が形成された転写型、２は光透過性の支持板、３は心出
し軸である。まず、同図（ａ）に示すように、転写型１
上に光硬化樹脂４が充填される。
を示す断面図である。同図において、１は凹凸パターン
が形成された転写型、２は光透過性の支持板、３は心出
し軸である。まず、同図（ａ）に示すように、転写型１
上に光硬化樹脂４が充填される。
次に、同図（ｂ）に示すように、支持板２が心出し軸３
で心出しされ転写型１上に対峙され、充填した光硬化樹
脂４を自然に広げ、紫外線を照射して硬化させ樹脂層５
を形成する。そして、転写型１と樹脂層５間を剥離する
ことで、光ディスク基板が製造される。
で心出しされ転写型１上に対峙され、充填した光硬化樹
脂４を自然に広げ、紫外線を照射して硬化させ樹脂層５
を形成する。そして、転写型１と樹脂層５間を剥離する
ことで、光ディスク基板が製造される。
しかし、上記光ディスク基板の複製方法では、光硬化樹
脂が転写型１と支持板２との間に広がるのに時間がかか
るだけでなく、次のような問題点があった。
脂が転写型１と支持板２との間に広がるのに時間がかか
るだけでなく、次のような問題点があった。
すなわち、支持板２は完全に平面ではなく、数１０μｍ
程度の反りを有している。このような支持板２を粘性の
ある光硬化樹脂４を介して転写型１上に配置すると、反
りが幾分矯正されるが、転写型１表面と同等の平面には
ならない。また、光硬化樹脂４が完全に等方的には広が
らないことも加わって、形成される樹脂層５に厚さむら
が生じることがある。そして、光硬化樹脂４を硬化後に
転写型１から剥離して光ディスク基板を得るが、このと
き支持板２の反りが戻ろうとするために、光硬化樹脂の
樹脂層５の厚さむらと合わさって、ディスク基板表面は
複雑な凹凸を示す。この表面の凹凸はディスクを回転さ
せて使用する際に光学ヘッドのフォーカッレングサーボ
をかけにくくする。
程度の反りを有している。このような支持板２を粘性の
ある光硬化樹脂４を介して転写型１上に配置すると、反
りが幾分矯正されるが、転写型１表面と同等の平面には
ならない。また、光硬化樹脂４が完全に等方的には広が
らないことも加わって、形成される樹脂層５に厚さむら
が生じることがある。そして、光硬化樹脂４を硬化後に
転写型１から剥離して光ディスク基板を得るが、このと
き支持板２の反りが戻ろうとするために、光硬化樹脂の
樹脂層５の厚さむらと合わさって、ディスク基板表面は
複雑な凹凸を示す。この表面の凹凸はディスクを回転さ
せて使用する際に光学ヘッドのフォーカッレングサーボ
をかけにくくする。
フォー力ッシングサーボのかかりにくさは、凹凸の時間
変化を時間で２回微分した加速度で表される。この加速
度は凹凸の周期が短く、振幅が大きいほど大きくなり、
また、回転数が高いほど大きくなる。
変化を時間で２回微分した加速度で表される。この加速
度は凹凸の周期が短く、振幅が大きいほど大きくなり、
また、回転数が高いほど大きくなる。
従来の方法で作製した光ディスク基板でも１８００ｒｐ
ｍ程度の低速では問題にならないが、３６００ｒｐｍ程
度の高速回転で使用すると光学ヘッドが追従できなくな
ることがあった。
ｍ程度の低速では問題にならないが、３６００ｒｐｍ程
度の高速回転で使用すると光学ヘッドが追従できなくな
ることがあった。
そこで、本発明者らは支持板２を平面度の優れたガラス
板で加圧しながら光を照射する方法も試みたが、かえっ
て微小な板厚むらを増大させる結果となった。これは、
支持板２と加圧用ガラス板が完全な平面でないからと考
えられる。
板で加圧しながら光を照射する方法も試みたが、かえっ
て微小な板厚むらを増大させる結果となった。これは、
支持板２と加圧用ガラス板が完全な平面でないからと考
えられる。
すなわち、従来の複製方法では、光硬化樹脂の厚さむら
と合わさって、ディスク基板表面は複雑な凹凸（特に微
小な凹凸）を示し、このディスク基板を回転させて使用
する際に光学ヘッドのフォーカッレングサーボがかけに
くくなり高速回転で使用できない問題があった。
と合わさって、ディスク基板表面は複雑な凹凸（特に微
小な凹凸）を示し、このディスク基板を回転させて使用
する際に光学ヘッドのフォーカッレングサーボがかけに
くくなり高速回転で使用できない問題があった。
そこで本発明は、表面の凹凸が少なく、高速回転で使用
できる光ディスク基板の製造方法を提供することを目的
とする。
できる光ディスク基板の製造方法を提供することを目的
とする。
上記課題は、光硬化樹脂によって支持板上に転写型の微
細形状を写しとる光ディスク基板の製造方法において、
前記支持板を等方的に圧力がかかる加圧部材によって加
圧し、光硬化樹脂を支持板と転写型の間に広げ、圧力を
保持したまま光を照射して前記光硬化樹脂を硬化させ樹
脂層を形成することを特徴とする光ディスク基板の製造
方法によって解決される。
細形状を写しとる光ディスク基板の製造方法において、
前記支持板を等方的に圧力がかかる加圧部材によって加
圧し、光硬化樹脂を支持板と転写型の間に広げ、圧力を
保持したまま光を照射して前記光硬化樹脂を硬化させ樹
脂層を形成することを特徴とする光ディスク基板の製造
方法によって解決される。
第１図は本発明の詳細な説明する断面図であり、同図に
おいて、１１は凹凸パターンが形成された転写型、１２
はディスク状に形成した光透過性の支持板、１３は心出
し軸であり、転写型１１上に光硬化樹脂１４が充填され
、支持板１２が心出し軸１３で心出しされて転写型１１
上に対峙され、支持板１２を等方的に圧力がかかる加圧
部材１５によって加圧して充填した光硬化樹脂１４を自
然に広げて樹脂層１６を形成し光ディスク基板を製造す
る。この加圧部材１５は、均一な加圧ができるように変
形が容易な袋状物質内に液体を充填したもの、あるいは
弾性体などが用いられる。
おいて、１１は凹凸パターンが形成された転写型、１２
はディスク状に形成した光透過性の支持板、１３は心出
し軸であり、転写型１１上に光硬化樹脂１４が充填され
、支持板１２が心出し軸１３で心出しされて転写型１１
上に対峙され、支持板１２を等方的に圧力がかかる加圧
部材１５によって加圧して充填した光硬化樹脂１４を自
然に広げて樹脂層１６を形成し光ディスク基板を製造す
る。この加圧部材１５は、均一な加圧ができるように変
形が容易な袋状物質内に液体を充填したもの、あるいは
弾性体などが用いられる。
本発明によれば、加圧部材１５によって支持板１２及び
光硬化樹脂１４に均一な圧力がかがるため、支持板１２
は転写型１１表面に沿って変形し、たとえ支持板１２の
平面度が悪くても、支持板１２の反りゃ樹脂の流れにく
さに起因する樹脂の厚さむらを小さ＝５ くでき、ディスク基板の平行度を優れたものにすること
ができる。また、ディスク基板を転写型１１から剥離す
るとディスク基板は再度反るが、微小な凹凸はなく滑ら
かな表面となるため、光学ヘッドの加速度を小さくする
ことが可能になる。
光硬化樹脂１４に均一な圧力がかがるため、支持板１２
は転写型１１表面に沿って変形し、たとえ支持板１２の
平面度が悪くても、支持板１２の反りゃ樹脂の流れにく
さに起因する樹脂の厚さむらを小さ＝５ くでき、ディスク基板の平行度を優れたものにすること
ができる。また、ディスク基板を転写型１１から剥離す
るとディスク基板は再度反るが、微小な凹凸はなく滑ら
かな表面となるため、光学ヘッドの加速度を小さくする
ことが可能になる。
以下、本発明を図示の一実施例により具体的に説明する
。
。
第２図（ａ）〜（ｂ）は本発明実施例の光ディスク基板
の複製法を示す断面図である。なお、第１図に対応する
部分は同一の符号を記す。
の複製法を示す断面図である。なお、第１図に対応する
部分は同一の符号を記す。
支持板１２として、外径２００ｍｍ 、内径５０＋ｎｍ
、板厚１．２ｍｍのガラス円板を用いた。また、心出し
軸１３は、円柱軸１３ａに滑動する筒状部材１３ｂが設
けられており、この筒状部材１３ｂの端部にはテーバ部
１３ｃが形成されている。また、筒状部材１３ｂの内周
にはコイルばね１３ｄを装着する溝部１３ｅが形成され
ている。すなわち、心出し軸１３は、支持板１２を円柱
軸１３ａのテーパ部１３ｃにより心出しができるように
なっている。
、板厚１．２ｍｍのガラス円板を用いた。また、心出し
軸１３は、円柱軸１３ａに滑動する筒状部材１３ｂが設
けられており、この筒状部材１３ｂの端部にはテーバ部
１３ｃが形成されている。また、筒状部材１３ｂの内周
にはコイルばね１３ｄを装着する溝部１３ｅが形成され
ている。すなわち、心出し軸１３は、支持板１２を円柱
軸１３ａのテーパ部１３ｃにより心出しができるように
なっている。
まず、同図（ａ）に示す如く、上記支持板１２と転写型
１１とを平行に配置し、その間に紫外線硬化樹脂（２官
能アクリレート、粘度１００ｃｐｓ） １４を０．８
ｇ程度供給する。
１１とを平行に配置し、その間に紫外線硬化樹脂（２官
能アクリレート、粘度１００ｃｐｓ） １４を０．８
ｇ程度供給する。
次に、同図（ｂ）に示す如く、ガラス円板の支持板１２
上に、加圧部材１５として空気が約５１程度入った完全
に封じたポリプロピレン製袋を配置し、その上から石英
ガラス１７でＩＫｇ／ｃｍ２の圧力で加圧し、光硬化樹
脂１４を全面に広げる。そして、上記の状態を保持した
まま、３０ｍＷ／ｃｍ２程度の紫外線を約２分間照射し
て光硬化樹脂１４を硬化させ、樹脂層１６を形成した。
上に、加圧部材１５として空気が約５１程度入った完全
に封じたポリプロピレン製袋を配置し、その上から石英
ガラス１７でＩＫｇ／ｃｍ２の圧力で加圧し、光硬化樹
脂１４を全面に広げる。そして、上記の状態を保持した
まま、３０ｍＷ／ｃｍ２程度の紫外線を約２分間照射し
て光硬化樹脂１４を硬化させ、樹脂層１６を形成した。
次に、支持板１２と樹脂層１６とが一体になったものを
転写型１１から剥離して、光ディスク基板を得た。
転写型１１から剥離して、光ディスク基板を得た。
上記の製造方法で得られた光ディスク基板の加速度を、
ディスク回転数が３６０Ｏｒｐｍ 、半径ｒ＝９０ｍｍ
の測定条件で試験した結果を第３図に示し、また同じ測
定条件で加圧なしの場合の比較例１（第４圓）と、石英
ガラス上で加圧した場合の比較例２（第５図）を示す。
ディスク回転数が３６０Ｏｒｐｍ 、半径ｒ＝９０ｍｍ
の測定条件で試験した結果を第３図に示し、また同じ測
定条件で加圧なしの場合の比較例１（第４圓）と、石英
ガラス上で加圧した場合の比較例２（第５図）を示す。
第３図に示すように加速度の変化がＩＧより十分率さい
のに対して、比較例１ではＩＧに近い変動があり、比較
例２ではＩＧを越している。従って、この実施例で複製
される光ディスク基板では、特に表面の微小な凹凸が少
なくなり、高速回転で使用することができた。
のに対して、比較例１ではＩＧに近い変動があり、比較
例２ではＩＧを越している。従って、この実施例で複製
される光ディスク基板では、特に表面の微小な凹凸が少
なくなり、高速回転で使用することができた。
なお、上記実施例では、加圧部材を空気を完全に封じた
ポリプロピレン製袋としているが、本考案の適用範囲は
これに限らず、その中身は流動性のあるものならば空気
である必要はなく、水などの液体やゲル状物質であって
もかまわない。またゴム状物質などの形状の安定したも
のならば、膜状物質で覆うことなく使用することができ
る。
ポリプロピレン製袋としているが、本考案の適用範囲は
これに限らず、その中身は流動性のあるものならば空気
である必要はなく、水などの液体やゲル状物質であって
もかまわない。またゴム状物質などの形状の安定したも
のならば、膜状物質で覆うことなく使用することができ
る。
以上説明した様に本発明によれば、等方的に圧力がかか
る加圧部材によって支持板を加圧することで、平滑な表
面を有する光ディスク基板を製造できるため、高速回転
で生じる加速度を小さくでき、従って高速回転でも光学
ヘッド追従性のよい光ディスクが得られる効果がある。
る加圧部材によって支持板を加圧することで、平滑な表
面を有する光ディスク基板を製造できるため、高速回転
で生じる加速度を小さくでき、従って高速回転でも光学
ヘッド追従性のよい光ディスクが得られる効果がある。
第１図は本発明の詳細な説明する断面図、第２図（ａ）
〜（ｂ）は本発明実施例の光ディスク基板の複製法を示
す断面図、 第３図は本発明実施例の測定結果を示す図、第４図は従
来例の測定結果（比較例１）を示す図、 第５図は従来例の測定結果（比較例２）を示す図、 第６図（ａ）〜（ｂ）は従来の光ディスク基板の複製法
を示す断面図である。 図中、 １１は転写型、 １２は支持板、 １３は心出し軸、 １３ａは円柱軸、 １３ｂは筒状部材、 １３ｃはテーパ一部、 １３ｄはコイルばね、 １３ｅは溝部、 １４は光硬化樹脂、 １５は加圧部材、 １６は樹脂層 １７は石英ガラス を示す。 特許出願人 富士通株式会社
〜（ｂ）は本発明実施例の光ディスク基板の複製法を示
す断面図、 第３図は本発明実施例の測定結果を示す図、第４図は従
来例の測定結果（比較例１）を示す図、 第５図は従来例の測定結果（比較例２）を示す図、 第６図（ａ）〜（ｂ）は従来の光ディスク基板の複製法
を示す断面図である。 図中、 １１は転写型、 １２は支持板、 １３は心出し軸、 １３ａは円柱軸、 １３ｂは筒状部材、 １３ｃはテーパ一部、 １３ｄはコイルばね、 １３ｅは溝部、 １４は光硬化樹脂、 １５は加圧部材、 １６は樹脂層 １７は石英ガラス を示す。 特許出願人 富士通株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 光硬化樹脂（１４）によって支持板（１２）上に転写型
（１１）の微細形状を写しとる光ディスク基板の製造方
法において、 前記支持板（１２）を等方的に圧力がかかる加圧部材（
１５）によって加圧し、光硬化樹脂（１４）を支持板（
１２）と転写型（１１）の間に広げ、圧力を保持したま
ま光を照射して前記光硬化樹脂（１４）を硬化させ樹脂
層（１６）を形成することを特徴とする光ディスク基板
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP995489A JPH02192045A (ja) | 1989-01-20 | 1989-01-20 | 光ディスク基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP995489A JPH02192045A (ja) | 1989-01-20 | 1989-01-20 | 光ディスク基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02192045A true JPH02192045A (ja) | 1990-07-27 |
Family
ID=11734352
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP995489A Pending JPH02192045A (ja) | 1989-01-20 | 1989-01-20 | 光ディスク基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02192045A (ja) |
Cited By (7)
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-
1989
- 1989-01-20 JP JP995489A patent/JPH02192045A/ja active Pending
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